• Journal of Korean Society of Steel Construction
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• v.13 no.3
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• pp.301-311
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• 2001

For a rectangular-highrise building with aspect ratio about six, the resonant wind speed of wind-induced vibration or galloping start wing speed can be within the design wind speed. The wind-induced vibration and galloping of highrise building with aspect ratio $H/\sqrt{DB}=6$, side ratio D/B=1 to 2 at intervals of 1/4 D/B were investigated in smooth flow. For the reducing effect of wind-induced vibration of highrise building, rectangular-highrise building with corners cutting about side ratio D/B=2 were investigated. Experimental results show that in the smooth flow non corners-cutting cases have tendency of increasing wind-induced vibration and galloping vibration then corner-cutting section. Therefore, the wind-induced vibrations on rectangular-highrise buildings were reduced effectively by using corner cut method.

• Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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• 1997.10a
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• pp.21-24
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• 1997

고주파 유도결합 플라즈마(RFICP)에서의 전자온도와 전자 밀도를 Double probe 측정법에 의해서 계측하였다. 사용가스는 아르곤가스를 사용하였으며 동작압력은 30 [mTorr]에서 60 [mTorr]로 하였고, 입력파워는 50 [W] 에서 200 [W], 아르곤 가스유량은 3 [sccm]에서 12 [sccm]으로 하였다. 전자온도와 전자밀도의 반경방향의 공간분포는 아스펙트비(R/L)를 1로 하여 측정하였다. 전자온도는 입력파워에 대해서는 특별한 의존성이 없었으나 압력과 아르곤 가스유량에 대해서는 의존성이 있는 것으로 나타났다. 전자온도는 입력파워를 증가해도 거의 일정했고, 압력을 증가했을때는 감소하였고, 아르곤 가스유량을 증가하면 저유량에서 전자온도는 저하하려는 경향이 있으나 유량이 증가할수록 변화는 거의 차이가 없는 것으로 볼 수 있다. 전자밀도는 입력파워와 압력, 아르곤 가스유량에 대해서 모두 의존성을 가지는 것으로 나타났다. 전자밀도는 입력파워를 증가할수록 증가하였고 압력에 대해서는 거의 일정했고, 아르곤 가스유량에 대해서는 증가하는 것을 나타내었다. 반경방향의 공간분포 측정에서는 전자온도는 플라즈마 중심부에서 주변부로 갈수록 조금씩 상승하는 것을 볼수 있으며 전자밀도는 플라즈마 중심부에서 가장 높은 밀도를 가지는 것으로 나타났다. 이러한 결과로부터 고주파 유도결합 플라즈마(RFICP)에서의 생성유지기구등의 파악에 도움을 줄 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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• 1997.10a
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• pp.52-54
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• 1997

고주파 유도결합 플라즈마(RFICP)에서 루우프법에 의해 자기장특성을 계측하였다. 자기장 계측은 플라즈마의 거시적 변화를 시간적으로 접근하며, 반도체 프로세스의 관건인 균일하고, 고집적인 분포를 얼마나 교란, 응집하는가를 검증하고, 밀도와의 관계를 비교, 분석하여 방적의 최적화를 규명할 수 있을 것이다. 작은 루우프 안테나($\Phi$:외경 7.5mm)는 RF 자기장의 크기와 방향을 결정하기 위해 방전속에 삽입된다. 자기장의 세기는 전형적으로 입력파워 50 - 500 [W]에 대해 0.1에서 2.5 G 사이로 변화하였다. 사용가스는 아르곤가스(99.9% 고순도)를 사용하였으며, 동작압력은 20 [mTorr] 에서 15 [sccm]까지하였다. 반경방향의 공간분포에서는 아스펙트비(aspect ratio : R/L)를 2로 하여 자기장 분포를 계측하였다. 자기장은 입력파워의존성에 대해서 200 [W]까지 상승하고, 300[W]에서 안정성을 지속한다. 압력에 대한 의존성은 300[W]에서 60 [mTorr]이상 일 때는 플라즈마의 균질한 압력상태를 벗어남을 보인다. 아르곤 가스유량에 대해서는 무거운 중성기체입자가 자기장의 영향을 거의 받지 않기 때문에 일정한 경향이 나타났다. 반경방향의 공간분포 측정에서는 자기장은 RFICP의 대구경 특성에 맞게 전체적으로 일정한 분포를 이루고 있음을 확인하였다. 이러한 결과로부터 고주파유도결합 플라즈마에서의 동작생성, 유지기구등의 파악에 도움이 될 것이다.

• Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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• v.13 no.3
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• pp.34-39
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• 1999

Electron temperature and electron density were rreasured in a radio-frequency inductively coupled plasma (RFICP) using a Langmuir probe method. Measurerrent was conducted in an argon discharge for pressures from 10 mTorr to 40 mTorr and input rf rnwer from 100 W to 600 W. Spatial distribution electroo temperature and electron density were rreasured for discharge with satre aspect ratio (R/L=2). Electron temperature and electron density were discovered depending on both pressure and power. Electron density was increased with iocreasing input power, but saturated at 450 W. Electron density was iocreased with iocreasing pressure. Radial distribution of the electron density was peaked at the rnsition which was a little rmved from center toward quartz window. Normal distribution of the electron density was peaked in the center between quartz plate and substrate. The above results could contribute to understand the Mechanism of Radio-Frequency Inductively Discharge Plasma.Plasma.

• Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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• v.13 no.4
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• pp.82-86
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• 1999

Electron Energy Distribution Function(EEDF) were treasured In Radio-Frequency Inductively Coupled Plasma(RFlCP) using a probe rrethocl Measurerrents were conducted in argon discharge for pressure from 10[mTorr] to 4O[mTorr] and input rf power from 100[W] to 600[W] and flow rate from 3[sccm] to 12[sccm]. Spatial distribution of electron energy distribution function were measured for discharge with same aspoct ratio (R/L=2). Electron energy distribution function strongly depended on both pressure and power. Electron energy distribution function increased with increasing flow rate. Radial distribution of the electron energy distribution function were peaked in the plasma center. Normal distribution of the electron energy distribution function were peaked in the center between quartz plate and substrate. From the results, we can find out the generation mechanism of Radio Frequency Inductively Coupled Plasma. And these results contribute the application of a simple Inductively Coupled Plasma(ICP).a(ICP).