• 제목/요약/키워드: 실릴화 반응

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초임계이산화탄소를 이용한 플라즈마 손상된 다공성 저유전 막질의 복원 (Repair of Plasma Damaged Low-k Film in Supercritical Carbon Dioxide)

  • 정재목;임권택
    • 청정기술
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    • 제16권3호
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    • pp.191-197
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    • 2010
  • 초임계이산화탄소에서 실릴화제를 사용하여 반응시간, 압력, 온도를 변화하며 플라스마에 의해 손상된 다공성 p-SiOCH 필름의 실릴화 보수반응을 진행하였다. FT-IR 분석 결과 $3150{\sim}3560cm^{-1}$ 영역의 $SiOH/H_2O$ 특성밴드의 감소는 다소 확인할 수 있었지만, 메틸화 peak의 변화치는 관찰하기 어려웠다. 그러나 실릴화에 따른 표면 소수성은 빠른 반응시간 내에 복원되었다. 내부 복원반응을 효과적으로 유도하기 위하여 열 전처리 공정을 상압 또는 진공 조건에서 진행하였으며, 전처리에 따라 표면 접촉각이 약간 상승하였고, 뒤이은 초임계 실릴화반응으로 표면 소수성이 완전히 복원되는 것을 관찰하였다. 플라스마 손상과정에서 표면 내부 메틸기의 감소가 나타나지만 실릴화 보수반응에 따라 메틸기의 복원은 눈에 띄게 나타나지 않음을 FT-IR, spectroscopic ellipsometry 와 secondary ion mass spectroscopy의 분석결과를 통하여 확인하였다. 막질에 대한 Ti 증착 후 glow discharge spectrometry로 내부 Ti 원소를 분석한 결과, 초임계 실릴화반응을 통하여 손상된 p-SiOCH막질의 열린 기공의 봉인효과가 나타나는 것을 확인하였다.

비스(트리메틸실릴메틸) 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄니켈(II)의 합성 및 반응 (Preparation and Reactions of Bis(trimethylsilylmethyl)-1,2-bis(disphenylphosphino)ethanenickel(II))

  • 진종식
    • 대한화학회지
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    • 제25권5호
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    • pp.311-317
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    • 1981
  • 새로운 니켈(II) 화합물, 비스(트리메틸실릴메틸)1,2-(비스디페닐포스피노) 에탄니켈(II)(1)이 디클로로-1,2-비스(디페닐포스피노)에탄니켈(Ⅱ)와 트리메틸실릴메틸리튬의 반응으로부터 합성되었다. 화합물 1은 질소하, 상온에서 안정하다. 화합물 1은 열분해하여 환원성짝지음 생성물, 1,2-비스(트리메틸실릴)에탄을 생성한다. 화합물 1은 상온에서 일산화탄소 및 산소와, 그리고 80${\circ}$C에서 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄과 반응하여 역시 1,2-비스(트리메틸실릴)에탄을 생성한다.

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니켈 촉매를 이용한 1,1'-Bis(dimethylsilyl)ferrocene과 Carbonyl 화합물의 Silylation 반응 (Nickel Catalyzed Silylation Reaction of Carbonyl Compounds with 1,1'-Bis(dimethylsilyl)ferrocene)

  • 공영건;이정현
    • 대한화학회지
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    • 제46권2호
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    • pp.139-144
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    • 2002
  • 니켈 착물을 촉매로 사용한 1,1´-Bis(dimethylsilyl)ferrocene [1]과 carbonyl 화합물 -benzaldehyde, 4-cyanobenzaldehyde, trimethylacetaldehyde, acetophenone과 benzophenone-은 3-oxa-2,5-disilacyclo-1,1′-ferrocene을 생성하였다. 이와 대비되게 동일한 반응조건에서 화합물 [1]과 isobutyraldehyde의 반응에는 1,1′-bis(dimethylsilyl)ferrocene의 Si-H 결합에 2개의 aldehyde ligand가 이중 삽입된 생성물이 형성되었다.

유-무기 하이브리드 코팅액 제조를 위한 지르코니아 표면의 소수화 개질 연구 (Study on the hydrophobic modification of zirconia surface for organic-inorganic hybrid coatings)

  • 이수;문성진;박정주
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제34권2호
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    • pp.260-270
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    • 2017
  • 백색을 띄고 물리적 화학적으로 안정한 지르코니아는 열전도도가 낮고 강도와 인성, 내식성이 우수하여 단열재, 내화물과 같은 고온 재료와 각종 산업용 구조세라믹스에 사용되고 있다. 이러한 지르코니아를 낮은 경도 및 굴절률 등과 같은 단점을 가진 고분자 코팅제에 도입하게 되면 화학적, 전기적, 광학적인 특성이 향상된다. 이와 같이 유기 소재에 무기 소재를 혼합하여 사용하는 유-무기 하이브리드 코팅을 목적으로 본 연구에서는 지르코니아 표면에 trimethylchlorosilane(TMCS)과 hexamethyldisilazane(HMDZ)을 사용하여 실릴화반응을 통한 $-CH_3$기를 도입하여 소수성을 나노지르코니아 표면에 도입하였다. 소수화된 지르코니아 표면에서의 TMCS와 HMDZ에 의해 도입된 $Si-CH_3$의 존재는 FT-IR ATR spectroscopy를 통해 확인하였고, silicon 원소의 존재를 FE-SEM/EDS와 ICP-AES를 통해 확인하였다. 또한, 개질 전후의 지르코니아를 아크릴레이트 단량체에 분산하여 침강속도를 확인하여 분산성이 향상되는 것을 확인하였다. 지르코니아 입자의 크기 및 분포는 입도 분석기를 통해 확인하였으며, BET 분석을 통해 개질 반응 전후의 비표면적은 $18m^2/g$ 정도로 큰 변화가 없었다.