• 제목/요약/키워드: 습식기법

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고구려 고분벽화의 석회마감층에 관한 연구 (Study of Lime Finishing Layer(intonaco) in Koguryo Tomb Murals)

  • 이화수;한경순
    • 보존과학회지
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    • 제19권
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    • pp.43-56
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    • 2006
  • 가공 석회를 이용한 회반죽으로 석회마감층을 제작하여 그 상태와 재료적 특성을 파악하였다. 또한 고구려 고분벽화 석회마감층을 재현하여 몇 가지 기법으로 채색한 결과 각각의 채색기법이 나타내는 특징을 확인하였다. 실험결과를 통해 고구려 고분벽화 석회마감층의 상태 및 특성 파악과 함께 제작기법을 유추할 수 있었으며, 고구려 고분벽화 석회마감층이 갖는 보존성에 대하여 고찰하였다. 각기 다른 조건으로 제작한 마감층 시편 중 땅속에서 장시간 수화시켜 얻은 소석회로 제작한 마감층이 양호한 상태를 나타내어 특정한 수화법을 거쳐 제작된 소석회 반죽은 고구려 고분벽화의 석회마감층에 대한 보존성을 증가시키는 것으로 판단된다. 고구려 고분벽화의 채색상태가 대체적으로 건식기법으로 제작되어진 시편들과 유사한 상태를 보이는 것으로 나타났다. 또한 채색층과 마감층 사이에 형성된 경계면 및 채색층의 구성 형태 등으로 미루어 보아 고구려 고분벽화의 채색층 상태가 습식기법과 건식기법을 혼용한 중간기법으로 제작되어진 결과들과 흡사한 경우들도 나타나는 것을 확인할 수 있었다.

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실리콘 기판 습식 세정에 따른 a-Si:H/c-Si 계면 및 이종접합 태양전지 특성 분석 (Characteristics of a-Si:H/c-Si interface and heterojunction solar cells depending on silicon wafer wet chemical cleaning)

  • 송준용;정대영;김찬석;박상현;조준식;윤경훈;송진수;이준신;김동환;이정철
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.168-168
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    • 2009
  • 고효율 실리콘 이종접합 태양전지 제작을 위한 요소기술 중 a-Si:H/c-Si 간의 계면 안정화는 태양전지 효율에 중요한 역할을 한다. 본 연구에서는 n-type 결정질 실리콘 기판을 사용하여, 소수전하들의 재결합을 방지하고, 계면 안정화를 실행하는 방안으로 실리콘 기판 습식 세정을 수행하였다. 반도체 공정에서 일반적으로 알려진 RCA 세정기법에 HF 세정을 마지막공정으로 추가하여 자연 산화막과 기타 불순물을 더욱 효과적으로 제거할 수 있도록 실험을 진행하였다. 마지막 공정으로 추가된 HF 세정에 의한 a-Si:H/c-Si 계면 안정화 효과를 관찰하기 위하여 HF농도와 HF 세정시간에 따른 소수반송자 수명을 측정하였다. 또한 HF 세정 이후 공정의 영향을 확인하기 위하여 PE-CVD법으로 a-Si:H 박막 증착 이전 실리콘 기판의 온도와 상온에서 머무는 시간에 따른 a-Si:H/c-Si 계면안정화 특성을 분석하였다. 본 실험을 통해 HF세정공정이 계면특성에 미치는 영향을 확인하였으며 실리콘 기판 습식 세정이 이종접합태양전지 특성에 미치는 영향을 분석하였다.

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DC 마그네트론 스퍼터링 증착 금속 박막의 습식식각에 대한 연구 (A Study on Wet Etching of Metal Thin Film Deposited by DC Magnetron Sputtering System)

  • 허창우
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2010년도 춘계학술대회
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    • pp.795-797
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    • 2010
  • 습식 식각은 식각용액으로서 화학용액을 사용하는 공정으로 반응물이 기판표면에서 화학반응을 일으켜 표면을 식각하는 과정이며, 표면결합의 제거를 위한 식각연마와 폴리싱을 위한 식각, 그리고 구조적 형상 패턴등이 있다. 여기서 화학용액은 산화제 또는 환원제 역할을 하는 혼합용액으로 구성된다. 습식 식각 시 수${\mu}m$의 해상도를 얻기 위해서는 그 부식액의 조성이나, 에칭시간, 부식액의 온도 등을 고려하여야 한다. 또한 습식 식각 후 포토 레지스트를 제거하는 과정에서 포토 레지스트를 깨끗이 제거해야 하며, 제거공정 자체가 a-Si:H 박막을 부식 하지 않을 조건으로 행하여야 한다. 포토레지스트 제거 후 잔류 포토 레지스트를 제거하기 위해서 본 실험에서는 RCA-I 세척 기법을 사용한 후 D.I 로 린스 하였다. 본 실험에서 사용한 금속은 Cr, Al, ITO 로 모두 DC sputter 방법을 사용해서 증착하여 사용하였다. Cr박막은 $1300\AA$ 정도의 두께를 사용하였고, ITO (Indium Tin Oxide) 박막은 가시광 영역에서 투명하고 (80% 이상의 transmittance), 저저항 (Sheet Resistance : $50{\Omega}/sq$ 이하) 인 박막을 사용하였으며, 신호선으로 주로 사용되는 Al등의 증착조건에 따른 wet etching 특성을 조사하였다.

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6-시그마 기법을 이용한 습식식각 설비의 효율 개선에 관한 연구 (A Study on the Efficiency Improvement of Wet Etching Equipment using 6-Sigma Method)

  • 유종현;김창업
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2011년도 춘계학술논문집 1부
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    • pp.347-350
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    • 2011
  • 본 논문에서는 습식식각 설비의 Process 동작 간에 발생되는 설비의 비 가동 시간을 최소화하여 Throughput을 향상시키기 위하여 Monitoring 한 결과 Recipe 변경, 액 교환 발생, Tact 변경 등의 공정간 조건에 따라 대기시간이 발생(생산 지연시간 발생) 하는 것을 확인 하고 이를 개선하기 위한 연구이다. 연구 방법으로, Recipe Data 적용 시점을 약액 구간 처리 완료 시점에서 후속 기판이 대기하지 않고 연속 투입을 실시, Chamber Drain과 약액 Tank 전환이 동시에 이루어지고 액 교환 동작 중 Pump Spray의 연속성을 유지하는 무정지 액 교환 Sequence 적용, Tact 적용 시점을 전 기판 배출 확인 후 실시하는 것을 약액 구간 처리 완료 후 적용의 3가지 방법을 6시그마의 DMAIC 기법을 활용하였다. 연구 결과 개선 전 비 가동 시간이 설비 대당 1일 28분 시그마 Level 3.40 이었던 것을 개선 후 설비 대당 1일 17분 시그마 Level 5.3 으로 개선됨을 확인 할 수 있다.

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다매체환경거동모형 (level-III)의 민감도분석기법: 서울지역의 2, 3, 7, 8-TCDD 사례연구 (Sensitivity Analysis for a Level-III Multimedia Environmental Model: A Case Study for 2, 3, 7, 8-TCDD in Seoul)

  • Kwon, Jung-Hwan;Lee, Dong-Soo
    • Environmental Analysis Health and Toxicology
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    • 제17권3호
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    • pp.225-238
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    • 2002
  • 유해물질의 거동에 대한 이해를 돕기 위해서 대도시지역을 대상으로 하여 fugacity를 이용한 level-III 다매체환경거동모형이 개발되었다. 이 모형에 의한 거동의 예측결과에 민감한 영향을 주는 입력과정과 변수들을 찾아내기 위하여 체계적으로 민감도분석을 수행할 수 있도록 하는 기법을 개발하고 사례연구로서 서울지역과 2, 3, 7, 8-TCDD을 대상으로 그 기법을 적용하였다. Sensitivity index에 의한 평가한 결과, 일정한 배출속도조건에서는 대기중의 바람속도, 그리고 대기에서 수체나 토양으로 전이되는 건식 및 습식 침적과정이 다매체거동에서 전체적으로 가장 중요한 과정인 것으로 나타났다. 또한 이들 거동과정 자체에 영향을 미치는 변수들에 대한 민감도 분석의 결과 건식침적의 경우 중력에 의한 입자들의 침강속도가, 습식침적의 경우 평균 강우속도가 대단히 중요한 변수임이 파악되었다. 물질의 물리화학적 특성 가운데에서는 z-값에 직접 영향을 주는 변수들, 즉, 헨리상수와 옥타놀-물 분배계수 등이 결과에 민감한 영향을 주는 것으로 나타났다. 이러한 사례연구는 본 연구에서 개발된 민감도분석기법이 유해물질의 다매체 거동모형을 개선하고 좀더 중요한 거동과정에 대한 이해를 넓히는데 효율적으로 사용될 수 있다는 것을 보여주고 있다.

습식 철도차량 바닥구조의 차음성능 연구 (A study on the transmission loss of floor part in the train)

  • 이근희;조태승;정인호;이용주
    • 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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    • 한국소음진동공학회 1998년도 춘계학술대회논문집; 용평리조트 타워콘도, 21-22 May 1998
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    • pp.753-758
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    • 1998
  • 이 글에서 살펴본 바의 내용에 의하면 철도차량 습식 바닥구조의 차음성능은 기존의 35 mm를 47 mm로 하는 경우 약 4dB 정도의 차음개선 효과를 기대할 수 있으며, 제진층을 추가로 도입하는 경우 1~2dB의 추가적인 차음개선을 기대할 수 있다고 결론된다. 바닥충격음에 대한 차단성능은 경량충격음의 경우 두께 증가 및 제진층 적용에 의하여 각각 3dB 및 7dB의 차음개선이 예상된다. 그러나 중량충격음의 경우에는 차음개선 효과가 거의 없으며 오히려 감소하는 경우도 있으므로 보다 구체적인 검토 연구의 필요성이 있다.산업계에서는 현재의 진동소음저감기술을 좀더 단시간에 차량개발 프로그램에 적용하는데 더욱 큰 노력을 할 필요가 있을 것이다. 따라서 여기에서는 현재 자동차업체에서 수행하는 진동, 소음및 충격시험평가에 대해서만 국한하여 기술하고자한다.urce)을 찾아 직접 그 원인을 차단 및 치유하는 적극적이고 공격적인 방법을 이용하고있다. 본 글에서는 이러한 진동소음 문제를 차량의 개발 단계에서 해결하기 위한 일련의 과정 및 여러가지 개선기법에 대해서 살펴보고 그를 통한 진동소음 문제 해결방법을 제시하고자 한다.

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수분산 폴리우레탄 수지를 이용한 친환경 Foam 제조기술 연구 (The Manufacturing Technology of Ecological Foam with Polyurethane Dispersion)

  • 서석훈;이재연
    • 한국염색가공학회:학술대회논문집
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    • 한국염색가공학회 2012년도 제46차 학술발표회
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    • pp.102-102
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    • 2012
  • 수분산 폴리우레탄 수지는 기능성이 뛰어나고 다양한 용도로 쓰임이 많기 때문에, 용제형 폴리우레탄 수지를 이용한 환경문제에 대처할 수 있는 대안으로 그 쓰임이 점차 늘어나고 있다. 그러나 수분산 폴리우레탄 수지는 용제형 폴리우레탄 수지에 비해 물리적 특성이 떨어지는 단점이 있다. 그래서 우수한 물리적 특성을 유지하면서 용제형 폴리우레탄 수지를 대체할 수 있는 환경친화성 폴리우레탄 수지에 대한 연구가 많이 이뤄지고 있다. 최근 산업환경 변화에 순응하는 환경 친화적 소재를 사용하여 자동차, 선박, 철도 등 수송용 인테리어 내장재를 구성하는 기술로서, 난연성 및 기계적 물성 유지 기술, 그리고 실내 쾌적감을 부여하기 위한 감성기술 및 심미적 요소를 부여하는 디자인 기술이 가미된 복합 기능화 기술개발이 요구되고 있다. 기존의 자동차용 시트 제품의 대부분은 습식 PU와 PVC를 사용하고 있고, 제조과정에서 용제와 가소제 사용 등으로 인해 환경적으로 많은 문제점이 있으며, 이를 대체하기 위한 노력이 많은 부분에서 이루어지고 있지만, 마땅히 대체할 소재를 찾지 못하고 있는 실정이다. 본 연구에서 제안하는 Frothing 기법을 이용한 친환경 foam 제조기술은 기존의 습식 PU foam과 PVC foam을 대체할 수 있는 기술로서, PUD foam의 기계적 물성 및 가공성이 보완된다면 상업적 용도로 많은 분야에서 활용될 것으로 판단된다.

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피션트랙 검출기법에 의한 고체 및 액체상태 지질물질의 우라늄 정량과 그 적용성 (Determination of Uranium Concentration in Solid- and Liquid-state Geological Materials by Fission Track Registration Technique and its Applicability)

  • 신성천
    • 암석학회지
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    • 제24권2호
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    • pp.77-90
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    • 2015
  • 피션트랙 검출에 의해 고체 및 액체상태 지질물질 내 우라늄을 정밀정량하는 최적기법을 제안하고 그 적용성을 검증하였다. 우라늄 정량은 중성자 조사에 의해 유도시킨 $^{235}U$의 핵분열 흔적을 트랙 디텍터에 기록하여 고배율 현미경 하에서 계수함으로써 이루어진다. 우라늄-친화력이 좋은 암석(예: 화강암, 석탄)을 분말 펠릿시료로 만들어 건식 검출하면, 그다지 높지 않은 우라늄함량(<5 ppm, 즉 ${\mu}g\;g^{-1}$)에서도 빈번하게 함유된 함-우라늄광물에 기인한 트랙 군집현상으로 인해 시료의 전체평균 함량 결정이 쉽지 않았으며, 트랙 균질부와 군집부를 별도로 검토해야 한다. 시료의 균질성이 유지된다면 백운모-Lexan 디텍터에 의한 중복 측정과 여러 차례 중성자 조사에 의한 반복 측정에서 높은 재현성이 확인되었다. 건고 액체시료 경우에 $10^1ppm$ 수준 및 그 이상의 우라늄함량에서 흔히 나타나는 불균질 현상을 극복하기 위해, 진공 석영튜브를 이용한 습식 검출법을 제안한다. 습식 검출에서 우라늄 균질성은 $10^0ppm$ 수준 이하에서 회복되며, 측정하한은 $10^2ppb$ (i.e. $ng\;g^{-1}$) 수준까지 무난한 것으로 입증되었다.

페로브스카이트 반도체 물질에 원형 패턴을 형성하기 위한 상압플라즈마 식각 기술 (Atmospheric Pressure Plasma Etching Technology for Forming Circular Holes in Perovskite Semiconductor Materials)

  • 김무진
    • 융합정보논문지
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    • 제11권2호
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    • pp.10-15
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    • 2021
  • 본 논문에서는 먼저 습식 코팅 방법으로 페로브스카이트 (CH3NH3PbI3) 박막을 글라스 상에 형성하고, 다양한 분석 기법을 이용하여 막의 두께, 표면거칠기, 결정성, 구성성분 및 가시광 영역에서의 이 물질의 반응에 대해 논한다. 완성된 반도체 물질은 막내부에 결함(defect)이 없고 균일하며, 표면거칠기는 매우 작으며, 가시광영역에서 높은 흡수율이 관찰되었다. 다음으로 이와 같이 형성된 유무기 층에 hole 형상을 구현하기 위하여, 구멍이 일정한 간격으로 있는 메탈마스크, 페로브스카이트 물질이 코팅되어 있는 유리, 자석 순서로 되어있는 구조의 샘플을 상압플라즈마 공법을 이용하여 시간에 따른 물질에 형성되는 hole 형태의 변화를 분석하였다. 시간이 길어짐에 따라 더 많이 식각되는 것을 알 수 있으며, 이 중에서 공정 시간을 가장 오래한 샘플에 대해서는 보다 자세하게 살펴보았고, 플라즈마의 위치에 따른 차이에 의해 7영역으로 분류할 수 있었다.