실리콘 질화막을 이용한 X-ray Lithography마스크용 박막물질의 개발
(Development of $\textrm{SiN}_{x}$ -based Membrane for X-ray Lithography Mask Application)
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- 한국재료학회지
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- 제7권5호
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- pp.417-422
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- 1997