유도결합 플라즈마를 이용한 $(Bi_{4-x}La_x)Ti_{3}O_{12}$ 박막의 식각 손상
(Etch damage evaluation of $(Bi_{4-x}La_x)Ti_{3}O_{12}$ thin films using inductively coupled plasma sources)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 2006년도 제37회 하계학술대회 논문집 C
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- pp.1374-1375
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- 2006