• Plant Journal
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• v.12 no.1
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• pp.24-28
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• 2016

In desulfurization facilities of oil-fired power plant, gypsum scale is attached in the absorber inner surface as the operating time increases. For this reason, the maximum possible load of the power generation is set down, resulting in further generation stop. Cleaning of absorber for scale removal can be determined at the time of setting down of the maximum possible load. In this study, 6 weeks before the maximum possible load of the power generation was down set, at the same time and desulfurization facilities outlet $SO_2$ concentration value was more than 130ppm, absorber differential pressure exceeded $380mmH_2O$, it was confirmed to be the time that has elapsed 44 weeks after the previous absorber cleaning. Cleaning time of the absorber was predicted to be a time which has elapsed 50 weeks from the previous cleaning time.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.8 no.6
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• pp.532-537
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• 1998

The purpose of this study was to investigate the behavior of ozone in DI water and the reaction with wafers during the semiconductor wet cleaning process. The solubility of ozone in DI water was not only dependent on the temperature but also directly proportional to the input concentration of ozone. The lower the initial ozone concentration and the temperature, the longer the half-life time of ozone. The reaction order of ozone in DI water was calculated to be around 1.5. The redox potential reached a saturation value in 5min and slightly increased as the input ozone concentrations increased. The completely hydrophilic surface was created in Imin when HF etched silicon wafer was cleaned in ozonized DI water containing higher ozone concentrations than 2ppm. Spectroscopic ellipsometry measurements showed that the chemical oxide formed by ozonized DI water was measured to be thicker than that by piranha solution. The wafers contaminated with a non-ionic surfactant were more effectively cleaned in ozonized DI water than in piranha and ozonized piranha solutions.

• Proceedings of the Korean Society of Developmental Biology Conference
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• 2003.10a
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• pp.66-66
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• 2003

Protein tyrosine kinases는 표적단백질의 tyrosine 잔기를 인산화하는 효소로서 다양한 종류의 성장인자, peptide 호르몬, cytokine 수용체 하위의 세포 내 신호전달에 관여한다. Non-receptor tyrosine kinase의 일종인 c-Src는 세포막에서 발생한 ligand-receptor 상호작용 하위의 신호전달에서 중요한 역할을 하며 C-terminal Src kinase (Csk)는 Src kinase의 C-terminal tyrosine 잔기를 인산화시켜 Src kinase의 활성을 저해한다. 이러한 Src-Csk loop를 통한 세포 내 신호전달과정은 세포의 증식과 분화, 사멸 조절에 중요한 기능을 갖지만 정소의 발생과 분화 과정에서 Src-Csk loop의 발현 및 정자형성 과정에서의 기능은 밝혀지지 않았다. 본 연구에서는 생쥐 정소에서 출생 후 성적 성숙과정에서 Csk의 발현과 Src kinase 활성의 변동을 조사하였다. Csk mRNA 발현은 생 후 2주령 이하의 미성숙 정소에서 다량으로 발현되었고 사춘기 정소 이후에는 오히려 감소하였다. Csk 단백질의 발현 양상은 mRNA 발현양상과 일치하였다. c-Src kinase 활성은 생 후 2주에 급격히 증가하고 이 후 4주령에서 감소하다가 성체 (8주령)에서 다시 증가하여 가장 높았다. 성체 조직의 Csk 단백질 현존량이 미성숙 개체보다 적은 반면 Src kinase 활성은 가장 높아 Csk 발현의 감소는 Src kinase 활성을 증가하는 것으로 사료된다. 면역조직화학방법으로 정소 조직 내 Csk의 발현양상을 조사한 결과 Leydig cell, Sertoli cell, germ cell 등 도처에서 발현되었으며 Sertoli cell 에서의 발현은 세정관 상피의 구성에 따른 차이가 확인되었다. 성체의 세정관 내에서는 감수분열 이후의 정세포(spermatid)를 감싸고 있는 Sertoli cell의 강소측에서 강한 Csk 활성이 검출되어 생식세포의 분화과정 동안 세정관 상피의 조직재구성에 관여하는 것으로 사료된다. Leydig cell에서의 발현은 생후 1주령까지는 미미하였으나 이후 2주령 이후에는 다량으로 발현함이 확인되어 adult type Leydig cell에서 진행되는 steroidogenesis와의 관련성을 추측할 수 있다. 미성숙 정소로부터 분리한 Sertoli cell-enriched culture에 200 nM testosterone을 처리하였을 때 Csk mRNA의 발현의 증가를 확인할 수 있었으므로 androgen에 의한 Sertoli cell의 분화과정에 Csk가 관여하고 있음을 알 수 있다. 결론적으로 성적 성숙에 따른 생쥐 정소 내 Src-Csk loop의 발현과 Src kinase 활성의 변동은 정소 내 간충조직, 세정관 상피의 증식 및 기능적 분화 과정을 매개하는 생리적 활성분자 수용체 하위의 신호전달 과정에 Src-Csk loop에 의한 조절가능성을 확인할 수 있었다.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.11 no.3
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• pp.1016-1022
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• 2010

An Experimental study of cleaning solution has been performed on a high capacity steam boiler burning heavy fuel oil to on-line cleaning of deposit. The deposit is mixture of soot, slag, ash, metal oxide and clinker. The traditional technology of deposit cleaning was carried hand-crafted. The conventional technology of boiler cleaning method is mechanical removal by the worker while the boiler shut down operation. In this experiment, the deposit of mixture of soot, slag, ash, metal oxide and clinker has been removed by the cleaning agents without shut down of boiler burning. This study found out the optimum cleaning solution composition. The best results have been obtained when the mixture of ammonium nitrate and $MgNO_3$ were used in cleaning solution. The various transition metal effect was investigated for optimum mixing condition. In this research, the metal compound additive of the clean solution compoition was obtained. The combustion efficiency was improved by on-line cleaning with derived clean solution compoition. On-line cleaning method prevents the fouling and corrosion in the boiler and heat exchanger.

• Journal of the Korean Institute of Gas
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• v.14 no.3
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• pp.1-7
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• 2010

According to Indoor Air Quality(IAQ) management law for multi-use buildings, SEEONE CO., Ltd. made pilot and tested it to remove minute particle, odor, VOCs, etc. within the standards of IAQ. This pilot made by SEEONE CO., Ltd. is vortex scrubber washing electrolyzed water. As 30 minutes test result in multi-use building indoor place, minute particle(the smoke of a cigarette) was reduced $920{\mu}g/m^3{\rightarrow}112{\mu}g/m^3$, gaseous contaminants was reduced Formaldehyde (HCHO) 20ppm$\rightarrow$4ppm, Ammonia($NH_3$) 50ppm$\rightarrow$1ppm, Trimethylamine ($(CH_3CH_2)_3N$) 15ppm$\rightarrow$trace, Methylethylketone($CH_3COC_2H_5$) 25ppm$\rightarrow$trace, Acetic acid ($CH_3COOH$) 20ppm$\rightarrow$trace, Acetaldehyde($CH_3CHO$) 15ppm$\rightarrow$2ppm and Acetone($CH_3COCH_3$) 50ppm$\rightarrow$N.D. The pilot test result of the air filter using electroyzed water in vortex scrubber showed high removal efficiency. Because purified air maintain indoor humidity of approximately 40~60%, so users can feel pleasant. In E.coli, S.aureus sterilization test and CODcr, turbidity treatment test by electrolysis, germs was sterilized over 99.99% and CODcr and turbidity was decreased gradually. So water used for washing can be reused by electrolysis.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.9 no.9
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• pp.872-877
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• 1999

The purpose of this research was to investigate the characteristics and the cleaning efficiency on HN(sub)4OH solutions added with H(sub)2O(sub)2 and surfactants. NH(sub)4OH solutions added with surfactants did not show much changes in pH and redox potential (Eh) as a function of NH(sub)4OH concentration compared with NH(sub)4OH solution. However H(sub)2O(sub)2 added NH\ulcornerOH solutions showed the decrease of pH and the increase of Eh as the concentration of NH(sub)4OH increased. The decrease of surface tension from 72 dynes/cm to 38 dynes/cm was observed in solutions added with surfactant but not in H(sub)2O(sub)2. The etch rates of silicon in NH(sub)4OH solutions(NH(sub)4OH:H(sub)2O= 1 : 5) showed at least 50 times higher than those in H(sub)2O(sub)2 and surfactant added NH(sub)4OH solutions(NH(sub)4OH:H(sub)2O(sub)2= 1 : 1 : 5) solution removed the PSL particles (0.67$\mu\textrm{m}$ in diameter) on Si wafers effectively at all temperatures investigated. NH(sub)4OH solution added with a surfactant could not remove particles at room temperature, however it was possible to remove particles at higher temperatures, 5$0^{\circ}C$ and 8$0^{\circ}C$.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2011.05a
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• pp.33.1-33.1
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• 2011

최근 산업에서는 산업의 고도화로 인한 환경오염이 큰 문제로 대두되고 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위한 방안 중, 친환경소재에 대해 연구가 활발히 진행하고 있다. 연잎의 자기세정효과(self-cleaning effect)에 관한 연구는 이러한 친환경소재에 대한 연구 중 하나이다. 연잎의 표면은 마이크로 크기의 돌기와 나노 크기의 왁스의 dual-scale의 구조로 이루어져 있으며, 왁스의 경우 소수성을 가진다. 이러한 dual-scale 구조와 소수성의 왁스에 의해 초소수성이 발현되고, 결과적으로 연잎의 자기세정효과가 발현된다. 본 연구에서는 나노임프린트 리소그래피와 수열합성법을 이용한 나노로드 성장을 이용하여, 연잎의 dual-scale의 표면구조를 형성하는 실험을 진행하였다. 나노임프린트 리소그래피와 수열합성법은 다른 공정에 비하여 상대적으로 적은 비용을 필요로 하고, 대면적에 적용이 가능한 기술이다. 실험 진행은 먼저 silicon 마스터 스탬프를 역상으로 복제한 PDMS (Polydimethylsiloxane) 스탬프와 $TiO_2$ sol을 이용하여 기판 위에 $TiO_2$ gel 패턴을 형성한 후, 열처리 과정을 통해 $TiO_2$ gel 패턴을 결정화한다. 다음으로 결정화된 $TiO_2$ 패턴 기판을 수열합성 방법을 이용하여 $TiO_2$ 나노로드를 무작위적으로 형성하였다. 마지막으로 소수성을 갖는 자기 조립 단분자막 용액을 이용하여 소수성 표면처리를 한 후 접촉각을 측정하였다. 본 연구에서 개발한 기술을 이용하여 다양한 형태의 기판에 초소수성 표면을 형성할 수 있고, 자기세정효과를 갖는 표면을 구현할 수 있다.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.6 no.4
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• pp.379-387
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• 1996

본 연구에서는 GaAs 소자제작 및 epi-layer 성장 공정에 있어 이용되어지는 HCI, H3PO4, 탈이온수(de-ionized water:DIW)를 통한 습식제정후 공기중 노출에 따른 오염을 최소화하여 표면상태 변화를 진성적(intrinsic)으로 관찰하고자 모든 세정처리를 아르곤 가스(argon gas)로 분위기가 유지되는 glove box에서 수행하였으며, 표면조성 및 결합상태 변화에 대한 관찰은 X-선 광전자 분광기(X-ray photoelectron spectroscopy)를 통해 이루어졌다. 고진공하에서 GaAs를 벽개하여 관찰함으로써 Ga이 대기중 산소이온과 우선적으로 결합함을 알 수 있었고, 이런 GaAs 표면의 반응성에 대한 고찰을 바탕으로 습식세정에 따른 화학반응 기구가 제시 되어졌다. HCI 및 H3PO4/DIW/HCI처리후 CI-이온의 Ga 이온과의 반응에 의한 Ga-CI결합의 형성과 As 산화물의 높은 용해도에 따른 As 산화물의 완전한 제거 및 식각전 초기(bare)GaAsvyaus에 존재하는 원소(elemental)As 상태의 식각후 잔류가 관찰되어졌다. 또 HCI, H3PO4/DIW/HCI 처리하고 DIW로 세척후 표면상태 변화를 관찰한 결과, DIW처리에 의해 elemental As 상태가 증가함을 알 수 있었다.

• Applied Chemistry for Engineering
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• v.5 no.5
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• pp.795-800
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• 1994

The detergencies of these new functional anionic surfactants, sodium monoglycerol ${\alpha}$-sulfonated alkanoates, were investigated and compared with those of two commercial surfactants, that is, sodium ${\alpha}$-sulfonated alkanoic acid methyl ester and sodium alkyl benzene sulfonate. According to the variation of the hydrophobic alkyl chain length, the order of detergency was shown to be $C_{16}$>$C_{18}$>$C_{14}$>$C_{12}$. From the comparision experiment for the detergency and the various fundamental properties of two other surfactants, it was found that sodium monoglycerol ${\alpha}$-sulfonated hexadecanonate has the most outstanding characteristics of detergency. Possibly this result shows light on its industrial application as a nonpolluting detergent.

• Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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• 2007.10a
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• pp.747-750
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• 2007

This study proposes that chlorine residue after metal etch as the source of metal corrosion, and charges should be removed by optimizing etch, PR strip and cleaning condition. Charges distributed along the metal line acts as a source of tungsten (W) plug corrosion when associated with following cleaning solution. In cleaning process after metal etch and PR strip, chemical selection is significantly important in terms of metal corrosion. Optimal corrosion preventive PH, no metal attack (choice of optimal inhibitants), high by product removal efficiency and optimal de ionized water treatment condition is critical to the metal corrosion prevention.