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Aluminum Thin Film Capacitor Using Micro Pore Patterning and Electroless Ni-P plating

  • 이창형;;김태유;서수정
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2011년도 춘계학술대회 및 Fine pattern PCB 표면 처리 기술 워크샵
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    • pp.113-113
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    • 2011
  • 알루미늄 박막 커패시터 제작을 위해 선택적인 알루미늄 etching과 anodizing을 이용한 유전체($Al_2O_3$) 형성, 전극층 형성을 위한 무전해 Ni-P 도금을 진행하였다. $5{\mu}m$ patterns/$10{\mu}m$ space를 가지는 dot patterns을 알루미늄 기판에 patterning하고, 이를 각각의 전류밀도 조건에서 etching한 후, barrier type anodizing을 진행하였다. 유전체에 전극층은 무전해 Ni-P 도금을 통해 형성하였으며, 이렇게 제작된 알루미늄 박막 커패시터 특성을 평가하였다.

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Formation of uniform etch fits on Aluminum film for high performance metal capacitor

  • 김태유;김남정;최우성;서수정
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2011년도 춘계학술대회 및 Fine pattern PCB 표면 처리 기술 워크샵
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    • pp.115-115
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    • 2011
  • 고성능 금속 커패시터 개발을 목적으로 aluminum film에 균일한 etch fit를 형성하는 연구를 진행하였다. Etch mask로 PI를 사용하여 Aluminum film에 균일한 형태의 etch fit를 형성하였다. 균일하게 에칭 된 aluminum film들은 capacitance를 측정하여 에칭 조건에 따른 capacitance 변화를 확인하였다.

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대한해협 서수도 중앙에서 조류와 해류의 연직구조

  • 조규대;이재철;김호균;윤종환;김대현
    • 한국어업기술학회:학술대회논문집
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    • 한국어업기술학회 2001년도 춘계 수산관련학회 공동학술대회발표요지집
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    • pp.240-241
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    • 2001
  • 대한해협은 대마난류가 동해로 유입되는 통로이고 대마난류의 변동은 동해의 해수순환에 많은 영향을 준다 대한해협에서 해류에 대한 연구는 지형류계산에 의한 것(Yi, 1970)을 시작으로 해류계의 계류관측이 여러차례 수행되었으나(Shim et at, 1984; Lee et al, 2001), 대부분 20∼40일 정도의 단기간에 한정되어 해류의 장주기 변동성을 규명하는데 어려움이 많았다 본 연구에서는 장기간에 걸친 해류관측자료를 이용하여 대한해협의 조류 및 해류의 연직구조와 그 변동성을 자세히 알아보았다. (중략)

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AVHRR 자료를 이용한 지형류의 추정과 그 적용 (A Note on the Geostrophic Velocity Estimation from a AVHRR Image and its Application)

  • 이태신;정종률;오임상
    • 대한원격탐사학회지
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    • 제9권1호
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    • pp.79-93
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    • 1993
  • NOAA AVHRR의 MCSST를 이용하여 지형류의 상대속도를 추정하였으며 이것을 대한 해협에 적용하였다. 원격탐사는 관측시에 광범위한 지역에 대해서 동시성 및 반복성이 유지되기 때문에 해양현상을 연구하는 데 있어서 훌륭한 도구로써 쓰일 수 있다. 특히 AVHRR 자료는 높 은 분해능으로 인해서 선상관측 자료보다도 지형류를 더욱 정밀하게 구할 수 있다. 연구 결과에 의하면 1992년 4월에 대한해협 서수도에서의 상대속도는 골이 있는 해역에서 가장 크며 이때 유 속의 크기는 약 23.8cm/sec로 나타났다. 그러나 이 결과는 geopotential anomaly를 계산할 때 염 분의 효과를 무시한 만큼의 오류를 포함하고 있다. 또한 대한해협 서수도에서 지형류의 수송량은 약 0.3Sv이며 쓰시마와 골이 있는 해역 사이에서 수송량이 가장 큰 것으로 나타났다.

화학기상증착 및 마그네트론 스퍼터링 방법으로 증착된 절연박막의 물성 분석 및 전기적 특성 (Characterization of microstructures and electrical properties of insulating thin films deposited by PECVD and RF magnetron sputtering)

  • 윤상한;이재엽;박창균;서수형;김용상;박진석
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1999년도 하계학술대회 논문집 D
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    • pp.1707-1709
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    • 1999
  • Insulating thin films for strain gauge application, such as $SiO_2$ single layers and $SiO_2/Si_3N_4$ multilayers, are deposited by using both PECVD and RF magnetron sputtering techniques. Micro-structural analysis and electrical characterization are carried out on those films. It has been observed that PECVD films have a smoother surface and a denser micro-structure than sputter films. It should be also found out that the electrical insulation property of $SiO_2$ film can be significantly improved by adding the $Si_3N_4$ layer.

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Levitation법에 의한 고순도 Fe-C-Si 합금중의 흑연결정의 핵생성 및 성장 (Nucleation and Growth of Graphite Crystal of Levitation Melted High Purity Fe-C-Si Alloys)

  • 김영직;서수정
    • 한국주조공학회지
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    • 제11권3호
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    • pp.236-244
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    • 1991
  • This paper describes a study of the nucleation and growth of graphite crystal of levitation melted high purity Fe-C-Si alloys with emphasis on hypereutectic composition. Spherulitic graphite was observed to form at high purity alloy and converted to compacted by changing the starting iron from ultra-pure zone refined iron to 99.95 pct electrolitic iron. Residual C-C clusters might be acting as an effective nucleation site for graphite, and sulphur was the element to prevent graphite from nucleating. The graphite morphology changed from compacted to spherulitic as the sulphur content decreased.

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