• Title/Summary/Keyword: 산화시간

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열처리 온도 및 시간에 따른 ZTO TFT의 특성 변화

  • Han, Chang-Hun;Kim, Dong-Su;Choe, Byeong-Deok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.341-341
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    • 2011
  • 최근 AMOLED 구동이 가능한 소자에 대한 연구가 활발히 진행중이다. AMOLED구동 가능소자는 LTPS TFT, a-Si TFT, OTFT, Oxide TFT가 있으며 그 중에서 현재 대부분 LTPS TFT를 사용하고 있다. LTPS TFT는 높은 전자 이동도와 안정성을 가지고 있기 때문에 현재 각광 받는 AMOLED에 잘 맞는다. 하지만 LTPS TFT는 고비용, 250$^{\circ}C$ 이상의 공정온도, Substrate가 Glass, Metal로 제한 된다는 문제점이 있으며, 균일성이 낮고 현재 대면적 기술이 부족한 상태이다. 해결방안으로 AMOLED를 타겟으로 하는 Oxide TFT 기술이 떠오르고 있다. Oxide TFT는 이동도가 높고 저온공정이 가능하며 Substrate로 Plastic 기판을 사용할 수가 있어 차후에 Flexible 소자로서의 적용이 가능하다. 또한 기존의 진공장비 사용대신 용액공정이 가능하여 장비사용시간 및 절차를 단축시킬 수 있어 비용적인 유리함을 가지고 있다. Oxide TFT는 단결정 산화물과 다결정 복합 산화물 두 가지 범주를 가지고 있다. Oxide TFT의 재료물질은 ZnO, ZTO, IZO, SnO2, Ga2O3, IGO, In2O3, ITO, InGaO3(ZnO)5, a-IGZO이 있다. 본 연구에서는 산화물질 중 하나인 ZTO를 이용하여 TFT 소자를 제작하였다. 산화물 특성상 열처리 온도에 따라 형성되는 결정의 정도가 다르기 때문에 온도 및 시간 변수에 따른 ZTO의 특성변화에 초점을 맞추어 연구함으로서 최적화된 조건을 찾고자 실험을 진행하였다. 실험을 위한 기판으로 n-type wafer을 사용하였다. PE-CVD 장비를 이용하여 SiNx를 120 nm 증착하고, ZTO 용액을 spin-coating을 이용하여 channel layer을 형성하였다. 균일하게 형성된 ZTO의 결정을 위하여 200$^{\circ}C$, 300$^{\circ}C$, 400$^{\circ}C$, 500$^{\circ}C$에서 1시간, 3시간, 6시간, 10시간의 온도 및 시간 변수를 두어 공기 중에서 열처리 하였다. ZTO는 약 30 nm 두께로 형성되었다. Thermal evaporator를 이용하여 Source, Drain의 알루미늄 전극을 형성하고, wafer 뒷면에는 Silver paste를 이용하여 Gate전극을 만들었다. 제작된 소자를 dark room temperature에서 측정하였다.

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Properties of InP native oxide films prepared by rapid thermal oxidation method (급속열산화방법으로 형성된 InP 자연산화막의 특성)

  • 김선태;문동찬
    • Electrical & Electronic Materials
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    • v.5 no.4
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    • pp.385-392
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    • 1992
  • 급속열산화방법으로 400-650.deg.C의 온도범위에서 10-600초 동안 n형 InP기판위에 InP자연산화막을 형성하고 산화막의 성장율, 성장기구와 화학적 구성성분 및 전기적 성질등을 조사하였다. InP자연산화막의 두께는 산화시간이 제곱근에 비례하였고 산화온도에 대하여 지수함수적으로 증가하였다. InP자연산화막은 320.deg.C의 온도에서 초기성장이 이루어지고 산소원자들이 InP내부로 확산되는 과정으로 형성되며 산화막 형성에 필요한 활성화에너지는 1.218eV이었다. InP 자연산화마그이 화학적성분은 In$_{2}$)$_{3}$, P$_{2}$O$_{5}$ 및 InPO$_{4}$의 산화물이 혼합하여 구성된다. Au/InP쇼트키다이오드와 InP자연산화막을 게이트절연물로 사용한 MOS 다이오드의 전기적 특성은 다이오드방정식에 따르는 전류-전압특성을 보였다.

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Effect of ion implantation on the suppression of abnormal oxide growth over $WSi_2$ (텅스텐 실리사이드 산화시 발생하는 이상산화 현상억제에 미치는 이온 주입효과)

  • 이재갑;노재성;이정용
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.3 no.3
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    • pp.322-330
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    • 1994
  • 다결정실리콘 위에 저압 화학 증착법으로 비정질 WSix를 증착시킨 후에 질소 분위기, 87$0^{\circ}C$ 온 도에서 2시간 동안 열처리를 실시하여 결정화를 이룩한 다음 표면의 산화막을 희석된 불산용액으로 제 거한 후 산화를 실시하면 이상산화막이 형성이 되었다. 이와 같은 이상산화막 형성은 산화 공정전에 P 또는 As 이온 주입을 실시함으로써 억제되고 있었으며 P이온 주입 처리가 As 이온조입보다 이상산화 막 발생 억제에 보다 효율적임이 확인되었다. P이온 주입처리가 보다 효과적인 것은 산화시 산화막내에 형성되는 P2O5 가 산화막의 용융점을 크게 낮추어 양질의 산화막을 형성하는 데 기인하는 것으로 여겨 진다. 마지막으로 이온주입 처리에 의하여 비정질화된 텅스텐 실리사이드 표묘의 산화 기구에 대하여 제안하였다.

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Retreatment of Arificial Wastewater by using Microalgae (조류를 이용한 인공하수의 재처리)

  • Lee, Young-Joon;Lee, Soo-Hyung
    • Korean Journal of Ecology and Environment
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    • v.35 no.2 s.98
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    • pp.133-140
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    • 2002
  • This study was performed in lab scaled oxidation pond. The removal efficiency of pollutant on the influence of changes of hydraulic retention time and pond style was investigated. The correlation between organic removal efficiency and dissolved oxygen concentration on algal photosynthesis showed the light time revealed a higher relationship more than the dark time, and the squares of the correlation coefficient of 15 days retention time were higher than that of 5 days in single pond. The variation of dissolved oxygen concentration of a series pond was from 4.2 to 19.8 mg/l under 5 days retention time, the concentration of dissolved oxygen increased with increasing step of series pond. Between the single pond and a series of pond system, a series of pond system showed better organic removal efficiency. Average removal efficiency range of $TBOD_5$ and $SBOD_5$ was $49{\sim}83%$ and $87{\sim}92%$, respectively. Algae should be removed appropriately to increase the removal efficiency of organic matter.

Oxidative Stability of Tallow Heated by Different Frying Conditions (튀김조건에 따른 가열 우지의 산화안정성)

  • 장영상;양주홍
    • Food Science and Preservation
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    • v.8 no.3
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    • pp.331-337
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    • 2001
  • The oxidative stability of tallow heated was studied by different frying condition (temperature 130, 150, and 180$^{\circ}C$;heating time, each 10hours per day, total 240hrs). Changes of physicochemical parameters such as acid value, peroxide value, iodine value, dielectric constant, content of polar components and polymer, refractive index, smoke point, viscosity and color changes in tallow heated were also measured. Acid value, dielectric constant, refractive index, viscosity, and content of polar component and polymer increased as the tallow was heated longer, whereas iodine value and smoke point decreased and peroxide value was increased and decreased repeatedly. These parameters changed to a greater extent as the heating temperature went up. The color became darkened with the increase of red and yellow values during heating. The decree of coloration was proportional to heating temperature.

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효소변성 전분 현장 적용 사례

  • 최병동;양현호;김영환;허동명;임영기
    • Proceedings of the Korea Technical Association of the Pulp and Paper Industry Conference
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    • 2001.11a
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    • pp.141-141
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    • 2001
  • 사이즈 프레스용 전분은 주로 산화전분이 이용되고 있으며, 전분업체에서 공급되는 것과 제지공장에서 자가변성으로 제조하여 이용하는 것으로 나눌 수 있다. 자가변성의 경우 경제적 측면에서 원가절감이 가능한 장점이 있는 반면 전분 품질이 다소 미흡한 단점이 있다. 자가변성 산화제로는 APSCAmmonium persulfate), 효소 등이 이용된다. 효소는 APS에 비해 전분 분자 내의 1,4결합만을 가수분해 시키고 점도안정성과 전분 용액 색상이 양호한 특성을 보인다. 또한 온도/농도/점도 등의 상관성을 자유롭게 이용하여 요구하는 전분 용액 품질을 얻을 수 있다. 제지용 전분 산화용으로는 주로 알파 -아밀라아제가 이용된다.본 실험은 산화전분을 효소변성을 이용한 생전분으로 가능성을 알아보고자 진행되었다. 일차적으로 실험실에서 하였고, 몇 차례의 mill trial을 통해 효소변성 전분 적용을 최적화하고자 하였다. 실험실적으로 효소변성을 위한 반응조건으로 온도, 시간, pH, 투입량 등을 설정하였 고, 각 조건별로 제조된 전분 용액의 점도를 측정하여 효소 반응성을 평가하였다. 실험 결과 전분 용액의 점도는 낮았고, 점도 안정성 또한 양호한 수준을 보였다. Cooking농 도는 20%로 하였으나 보다 고농도 cooking의 가능성을 확인할 수 있었다. 시트 물성도 전반적으로 산화전분 대비 대등한 수준을 나타내었다. Mill trial은 무림제지에서 실시하였고 사이즈 프레스 조제식을 이용하였다. 전분 농도는 초기에 20%로 시작하여 30%까지 올려서 trial을 실시하 였고, 그 외 작업조건들은 산화전분 적용 시와 동일하게 하였다. 효소 반응시간으로 인해 cooking시간이 다소 많이 걸렸으나 전반적인 조제 작업은 큰 문제 없이 이루어졌고, 효소변성 전분 용액의 점도는 낮은 수준으로 유지되었다. 사이즈 프레스 작업성이나 시 트 물성도 산화전분 적용 시와 대등한 수준을 보였으나, 전분 차이로 인한 색상 차이로 부가적인 염료 조정이 이루어졌다. 한편 폐수부하 증가를 우려하였으나, 이에 따른 문제는 크게 발생되지 않았다.

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Quality Evaluation of Thermal Oxidized Fats and Oils by Spectrophotometer (분광기를 이용한 가열산화 유지의 품질측정)

  • Chang, Young-Sang;Yi, Young-Soo;Cho, Kyung-Ryun;Lee, Chul-Won
    • Korean Journal of Food Science and Technology
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    • v.26 no.6
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    • pp.655-658
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    • 1994
  • This study was designed to investigate the suitability of oxidation matters and physico-chemical characteristics as a quality evaluation for the extent of rancidity development in fats and oils undergoing thermal oxidation. The results showed that acid value rapidly increased during heating time. Soybean oil, especially revealed a faster increase than palm oil and palm olein. Anisidine value and conjugated diene value also increased. Especially, soybean oil increased more rapidly than palm oil and palm olein. Active oxygen method stability was good in the ranks of palm oil, palm olein and soybean oil. Primary oxidation matter (POM) and secondary oxidation matter (SOM) were surveyed as an evaluation method for the extent of rancidity development in fats and oils. POM and SOM showed a sharp increase during the thermal oxidation period.

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The Electromagnetic Properties in Uncoupled funnel-junction with Various Cr Seed Layer (비결합형 터널접합구조에서 Cr 하지층에 따른 전자기적 특성변화)

  • Park, J.W.;Jeon, D.M.;Yoon, S.Y.;Lee, J.Y.;Suh, S.J.
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.13 no.3
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    • pp.91-96
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    • 2003
  • Cross-geometrical Cr/Co/Al-Ox/Co/Ni-Fe tunnel junctions were fabricated by magnetron sputtering. To form an insulating layer, The Al layer was oxidized in an atmosphere of oxygen-argon mixture at low power after deposition. To enhance the coercivity of the bottom Co layer, The Cr seed layer was deposited on the glass and it led to increase in coercivity. The coercivity increase is due to the increase of roughness through the Cr thickness. In over oxidation time, the oxidation of Co bottom layer and flat interface of insulator can increase the bottom Co coercivity. But TMR ratio gradually decrease. TMR ratio is relevant with Cr thickness, insulator thickness, and oxidation time. The maximum TMR ratio was 14% at room temperature and the TMR ratio was decreased to half at 0.51 V.