• Title/Summary/Keyword: 산화공정

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유체연마 공정에 따른 표면 변화 고찰

  • Gwon, Hyeok-Chae;Na, Dong-Hyeon;Hong, Man-Su;Ha, Tae-Gyun;Park, Jong-Do
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.257-257
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    • 2013
  • 4세대 방사광가속기를 2014년 말 건설 완공 목표로 언듈레이터 시제품 제작하여 테스트 진행과정에 있다. 좁은 틈의 언듈레이터를 지나가는 펄스전자의 진행이 잘되려면 낮은 임피던스가 요구되는데, 전자의 진행을 방해하는 주요 요인으로 진공 표면 거칠기와 산화층 두께에 영향을 많이 받는다. 이러한 영향을 줄이기 위하여 연질의 알루미늄 6063-T6를 재료로 압출공정에 혼합가스를 주입하여 표면 산화를 최소화하였다. 본 실험은 6 m 압출형 진공용기에 압출공정만 거친 것과 유체연마 메디아 종류별, 크기별, 처리시간에 따른 표면개선 효과와 산화층 변화를 알아보았다. 그리고 최종 유체연마 메디아제거 과정에 경면 연마된 표면에 2차 스크레치가 발생하는 원인을 진단하고 이를 방지하기 위한 알코올 주입형 정압시스템을 개발한 것을소개한다.

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Electrical characteristic analysis of TEOS/Ozone oxide for gate insulator (게이트 절연막 활용을 위한 TEOS/Ozone 산화막의 전기적 특성 분석)

  • Park, Joon-Sung;Kim, Jae-Hong;Lee, Jun-Sin
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.89-90
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    • 2008
  • 본 연구에서는 PECVD(Plasma Enhanced CVD) 에서 사용하는 유해 가스인 $SiH_4$ 대신에 유기 사일렌 반응 물질인 TEOS(Tetraethyl Orthosilicate, Si$(OC_2H_5)_4)$를 이용하여 상압 화학 기상 증착법 (Atmospheric Pressure CVD, APCVD)으로 실리콘 산화막을 증착하고 박막의 조성과 특성 및 화학적, 전기적 특성들을 살펴보았다. TEOS 반응원료를 이용한 CVD 공정에서 공정 온도를 낮추기 위한 방법으로 강력한 산화제인 오존을 이용하여 공정온도를 $400^{\circ}C$이하로 낮췄으며, 유리기판 상의 ELA(Excimer Laser Annealing)처리된 다결정 실리콘 기판에 트랜지스터 소자를 제작하고, 게이트 절연막으로의 전기적 특성을 살펴보았다.

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스퍼터 증착을 이용한 선택적 투과막 형성

  • Jeong, So-Un;Lee, Seung-Yun;Im, Jeong-Uk
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.76-76
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    • 2011
  • 투명 태양전지 구조 내에 선택적 투과막을 채용하여 태양전지의 성능 개선을 극대화할 수 있다. 금속 산화물 계의 선택적 투과막은 가시광선 대역은 투과시키고, 적외선 영역은 광흡수층으로 반사시키는 역할을 하므로 변환효율이 증가한다. 이제까지 Al 및 Ti 산화물 계의 선택적 투과막은 atomic layer deposition (ALD)을 이용하여 형성하여 왔다[1]. ALD 기술의 경우 정밀한 두께 조절성 및 우수한 conformality의 장점이 있지만, 증착속도가 느리기 때문에 상업적으로 이용하기에 제약이 있다. 따라서 본 연구에서는 Al/Ti 산화물 투과막을 기존의 ALD 공정이 아닌 스퍼터(sputter) 증착을 이용하여 형성하고, 광학적 특성을 평가하였다. 스퍼터 증착 공정을 이용하여 선택적 투과막을 형성함으로써 기존의 공정에 비하여 태양전지 제조 원가 절감의 효과가 있을 것이라 판단된다.

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Research for the gavanizability of TRIP steel controlled by surface oxidation (표면 산화물 제어를 통한 TRIP형 고장력강의 도금성 연구)

  • Park, Min-Seo;Kim, Ji-Yeong;Baek, Du-Hyeon;Sim, Yeong-Jun;Lee, Bo-Ryong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.05a
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    • pp.326-326
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    • 2012
  • 현재 자동차 강판 시장은 이산화탄소 저감과 승객의 안전확보를 위하여 고장력강을 요구하고 있는 추세이며, 강도와 성형성을 동시에 확보하기 위하여 DP, TRIP강과 같은 변태강화형 강판을 선호한다. 그러나 강판의 상분율을 제어하기 위해서는 Si, Mn등과 같은 합금원소를 필요로 하게 되며 강판의 생산공정 중 이들 합금원소는 강판의 표면에 산화물로 농화되어 아연도금 특성을 크게 저하시키는 결과를 초래한다. 따라서 본 연구에서는 냉연 아연도금강판의 생산 공정을 모사하고 이들의 산화물 구조를 분석하여 도금특성에 어떠한 영향을 미치는지 고찰하고 Ni-precoating 공정을 이용하여 강판의 도금성 개선의 가능성을 제시하였다.

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UV/H2O2 Oxidation for Treatment of Organic Compound-spilled Water (UV/H2O2 산화를 활용한 유기오염물질 유출수 처리용 공정 연구)

  • Kim, Nahee;Lee, Sangbin;Park, Gunn;Park, Jae-Woo
    • Journal of the Korean GEO-environmental Society
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    • v.23 no.10
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    • pp.5-12
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    • 2022
  • In this study, we investigated the UV/H2O2 process to treat organic compound-spilled water. In consideration of usage and properties, benzene, toluene, phenol, and methyl ethyl ketone were selected as representative organic compounds. The selected material was first removed by natural volatilization and aeration that simulated the pretreatment of the prcoess. After that, UV/H2O2 oxidation experiments were conducted under various H2O2 concentration conditions. Benzene and toluene were mostly volatilized before reaching the oxidation process due to high volatility. Considering the volatility, oxidation experiments were performed at an initial concentration of 5 mg/L for benzene and toluene. The UV/H2O2 oxidation process achieved 100% of benzene and toluene removal after 20 minutes under all hydrogen peroxide concentration conditions. The phenol was rarely removed from the volatile experiments and oxidation tests were performed at an initial concentration of 50 mg/L. The process showed 100 % phenol removal after 30 minutes under 0.12 v/v% of hydrogen peroxide concentration condition. Methyl ethyl ketone was removed 58 % after 2 hours of volatile experiments. The process showed 99.7% Methyl ethyl ketone removal after 40 minutes under 0.08 v/v% of hydrogen peroxide concentration condition. It was confirmed that the UV/H2O2 process showed high decomposition efficiency for the four selected organic compounds, and identified the amount of hydrogen peroxide in classified organic contaminants.

Well-Aligned Nano-Sized Pores Using Aluminum Thin Film Fabricated by Aluminum Anodized Oxidation Method (알루미늄 박막을 이용하여 양극산화법으로 제작한 규칙적으로 정렬된 미세기공)

  • Han, Ga-Ram;Yun, Tae-Uk;Kang, Min-Ki;NamGung, Hyun-Min;Kim, Chang-Kyo
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2010.06a
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    • pp.207-207
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    • 2010
  • 알루미늄 양극산화 기술은 저가로 공정이 가능하고, 경제적이며 규칙적인 배열의 나노 미터 크기의 미세기공을 형성할 수 있다는 장점을 가지고 있다. 인가전압, 양극산화 용액의 종류, 용액의 농도 및 온도 등의 양극산화 조건을 변화시킴에 따라 나노 기공의 직경 및 길이, 밀도 조절이 용이하다. 알루미늄 판 (aluminum plate)을 이용한 양극산화 기술은 상대적으로 많이 알려져 있으나 알루미늄 박막을 이용한 양극산화기술은 아직도 확립되어 있지 않다. 본 실험에서는 실리콘 기판에 Al을 $5000{\AA}$$8000{\AA}$으로 증착시켜서 기판으로 이용하였다. 아주 얇은 두께의 Al은 작은 변화에도 민감하게 반응하기 때문에 공정 변수인 온도와 전압의 정밀한 제어가 되어야 나노 기공의 크기 조절이 가능한 것을 확인하였다.

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Tunnel Magnetoresistance with Top Layer Plasma Oxidation Time in Doubly Oxidized Barrier Process (이중 절연층 공정에서 상부절연층의 산화시간에 따른 터널자기저항 특성연구)

  • Lee, Ki-Yung;Song, Oh-Sung
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.12 no.3
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    • pp.99-102
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    • 2002
  • We fabricated TMR devices which have doubly oxidized tunnel barrier using plasma oxidation method to form homogeneously oxidized AlO tunnel barrier. We sputtered 10 $\AA$-bottom Al layer and oxidized it with oxidation time of 10 sec. Subsequent sputtering of 13 $\AA$-Al was performed and the metallic layer was oxidized for 50, 80, and 120 sec., respectively. The electrical resistance changed from 500 Ω to 2000 Ω with increase of oxidation time, while variation of MR ratio was little spreading 27∼31 % which is larger than that of TMR device of ordinary single tunnel barrier. We calculated effective barrier height and width by measuring I-V curves, from which we found the barrier height was 1.3∼1.8 eV sufficient for tunnel barrier, and the barrier width (<15.0 $\AA$) was smaller than physical thickness. Our results may be caused by insufficient oxidation of Al precursor into A1$_2$O$_3$. However, doubly oxidized tunnel barriers were superior to conventional single tunnel barrier in uniformity and density. Our results imply that we were able to improve MR ratio and tune resistance by employing doubly oxidized tunnel barrier process.

Optimization of an Ozone-based Advanced Oxidation Process for the Simultaneous Removal of Particulate Matters and Nitrogen Oxides in a Semiconductor Fabrication Process (반도체 제조공정 미세먼지-질소산화물 동시 저감을 위한 오존 고속산화공정 최적화 연구)

  • Uhm, Sunghyun;Lee, Seung Jun;Ko, Eun Ha;Hong, Gi Hoon;Hwang, Sangyeon
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.32 no.6
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    • pp.659-663
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    • 2021
  • 10 m3/min (CMM) multi-pollutants abatement system was successfully developed by effectively integrating ozone oxidation, wet scrubbing, and wet electrostatic precipitation for the simultaneous removal of particulate matters (PMs) and NOx in a semiconductor fabrication process. The sophisticated control and optimization of operating parameters were conducted to maximize the destruction and removal efficiency of NOx. In particular, the stability test of a wet electrostatic precipitator was carried out in parallel for 30 days to validate the reliability of core parts including a power supply. An O3/NO ratio, which is the most important operating parameter, was optimized to be about 1.5 and the optimization of wet scrubbing with a reducing agent made it possible to analyze the contribution of neutralization reaction.

A Study on the Heat Resistance and Polarization Characteristics of Poly(vinyl alcohol)-I2 Complex Films Prepared with a Potassium iodide (KI를 사용하여 제조한 Poly(vinyl alcohol)-I2 착체 필름의 편광특성 및 열저항에 관한 연구)

  • Oh, Se Young;Shin, Dong Yoon
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.10 no.4
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    • pp.603-607
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    • 1999
  • The polarization characteristics of poly(vinyl alcohol)-iodine complex, (PVA-KI system) prepared by the oxidation process of PVA film containing a potassium iodide (KI) were investigated. The UV-visible spectrum of the PVA-KI system polarizing film showed avsorption bands corresponding to $I^{-}$, $I{_3}{^-}$ and $I{_5}{^-}$ chromophoric species at 220 nm, 290~360 nm, respectively. The polarization efficiency and transmittance of PVA-KI system film were significantly influenced by oxidation time, stretching ratio and concentration of KI. The prepared polarizing film exhibited a high polarization efficiency(99.5%) and transmittance(45%). Especially, the heat resistance of the polarizing film was higher than that of a commercial PVA-$I_2$ polarizing film. It may be argued that the result should come from a difference in oxidation process of PVA polarizing film.

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Development and Analysis of Graphene Oxide Thin Film Coating (산화그래핀 박막 코팅기술 개발 및 특성평가)

  • Cheon, Yeong Ah;Nam, Jin-Su;Son, Kyung Soo;Im, Young Tae;Ahn, Won Kee;Chung, Bong Geun
    • Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers B
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    • v.39 no.5
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    • pp.463-469
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    • 2015
  • In this study, we synthesized graphene oxide and developed novel spin-spray coating technology. The graphene oxide thin film was uniformly coated on amine-functionalized glass surfaces using spin-spray coating technology. We also stacked up to four layers of graphene oxide on glass substrates in a uniform manner. From the results, we infer that this spin-spray coating of graphene oxide thin film could be a powerful tool for various electronic display coating applications.