• 제목/요약/키워드: 사진공정

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복합기에서의 토너 카트리지 수명 결정 방법(X5622 : 2004)

  • 한국광학기기협회
    • 광학세계
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    • 통권99호
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    • pp.80-83
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    • 2005
  • 흑백, 컬러 프린터(잉크젯 포함), 복합기들의 토너카트리지, 잉크카트리지에 대한 공정하고 객관적인 프린트 매수 측정을 위한 규격제정을 통해 소비자에게 정확한 정보를 제공하고자 지난해 한국광학기기협회에서는 기술표준원에서 ISO 관련 규격을 토대로 KS규격제정 용역을 받아 추진한 바 있다. 이번 호에서는 세 번째 순서로‘전자 사진 방식의 흑백 프린터와 프린터를 포함하는 복합기에서의 토너 카트리지 수명 결정 방법’에 대해 소개하고자 한다.

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공간데이터 표준구축공정의 관리방법론 연구 (A Study on the Process management Methodology of Spatial Database Standard Construction)

  • 최병길;나영우
    • 한국측량학회지
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    • 제27권3호
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    • pp.331-345
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    • 2009
  • 본 연구의 목적은 공간데이터 구축공정에 표준으로 적용 가능한 관리방법론을 연구하는데 있다. 우리나라는 아직까지 구축공정 및 품질관리에 대한 체계적인 기준인 정립되지 않은 실정이어서 국가예산이 낭비될 우려의 소지가 있다. 또한 현재 공간데이터 구축과 관련된 법규는 기준이 명확하지 않은 경우가 있어서 공간데이터의 품질에 대한 신뢰성이 부족한 실정이다. 공간데이터의 제작 및 품질검사와 관련이 있는 법규, 국토지리정보원에서 수행한 공간데이터의 품질관련 연구 등 각종 문헌자료, 지방자치단체의 지리정보시스템을 구축한 경험이 있는 주요 업체의 공간데이터 제작공정 및 작업방법에 대하여 조사, 분석하였다. 분석한 내용을 기반으로 GPS에 의한 기준점 측량, 수준측량, 항공사진촬영, 수치지도 제작, 지형도 제작, 수치표고자료 제작, 항공사진 DB 구축, 정사영상지도 제작 등 8개 사업을 대상으로 선정하고 표준화된 관리방법론을 제시하였다.

공간데이터 제작과정의 품질관리방법 정립에 관한 연구 (The Establishment of the Quality Management Method for Spatial Data Construction Process)

  • 최병길;조광희;이광원
    • 대한공간정보학회지
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    • 제13권3호
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    • pp.3-13
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    • 2005
  • 본 연구의 목적은 공간데이터 제작과정의 품질관리방법을 정립하는데 있다. 이를 위하여 총 17개의 국내 공간데이터 품질관련 법규 및 주요 항측 업체를 대상으로 작업순서, 사용장비, 작업 전후의 결과물의 정확도를 중심으로 조사, 분석하였다. 조사, 분석한 내용을 기반으로 공간데이터의 구축공정을 '항공사진을 이용한 수치지도 신규제작', '기존 수치지도 수정제작', '수치표고모델 구축', '영상지도제작'에 의한 공간데이터 구축 공정을 표준화하였으며, 공정별로 생성되는 공간데이터의 품질을 체크할 수 있는 요소들을 정립하였다.

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수치사진측량 기법을 이용한 3차원 공간정보의 품질 분석 (Quality Analysis of Three-Dimensional Geo-spatial Information Using Digital Photogrammetry)

  • 이현직;유지호;김상연
    • 대한공간정보학회지
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    • 제18권4호
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    • pp.141-149
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    • 2010
  • 3차원 공간정보는 효율적 국토이용 및 관리, 지자체의 도시계획수립, 도시관리 등 도시 활동의 입체적인 표현과 분석을 위한 중요한 정보로써 공공분야뿐만 아니라 공간정보 서비스 산업 활성화로 민간분야에서도 다양하게 이용되고 있다. 고품질 3차원 공간정보의 생성을 위해서는 원시영상 및 3차원 지형모델의 품질 뿐만 아니라 LoD 수준, Texturing과 같은 가시화 수준이 중요한 요소가 된다. 하지만 기존 3차원 국토공간정보는 구축 공정이 복잡하고, 기 제작된 수치지도를 이용하여 자료의 최신성이 부족하다. 또한 일반정사영상의 이용으로 영상의 기복변위가 존재하여 가시성이 낮고, LoD 수준이 2~3급 정도로 인공지물의 3차원 모델이 단순화 되어 현실감이 다소 부족하다는 단점이 있다. 이에 본 논문에서는 기존의 대축척 디지털항공사진카메라와 다방향 촬영 디지털카메라로 촬영된 디지털항공사진영상을 이용하여 수치사진측량기법을 적용한 3차원 모델링 기법으로 제작된 3차원 공간정보의 품질 분석을 수행하였다. 3차원 모델의 가시화 정보의 정확도 분석결과 별도의 가시화 정보의 획득 없이 원영상만으로 84% 이상의 정확도를 확보할 수 있었다. 촬영시기와 동일한 3차원 공간정보 구축이 가능하여 자료의 최신성 확보가 용이 하였고, 작업공정의 실감정사영상의 위치정확도 분석결과 1:1,000 수치지도의 수평위치 허용정확도보다 양호한 결과를 나타냈다.

열 처리를 통한 그래핀/폴리벤족사진 전도성 복합 박막 제조 (Preparation of Graphene/Polybenzoxazine Conductive Composite Thin Film through Thermal Treatment)

  • 고영수;차지정;임진형
    • 폴리머
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    • 제37권4호
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    • pp.513-517
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    • 2013
  • 고내열성 고분자인 폴리벤족사진(PBZ)과 전도성 그래핀을 혼성화시켜 새로운 전도성 복합박막을 제조하는 연구를 처음으로 수행하였다. 단순한 열처리 공정에 의해 동시에 그래핀 옥사이드와 벤족사진 단량체를 환원 및 경화를 시켜 기계적/전기적 특성이 크게 향상된 그래핀/PBZ 복합 박막을 제조하였다. 그래핀/PBZ 복합 박막의 화학/결정 구조 및 형태학적 미세구조 분석으로부터 약 3 wt%의 그래핀이 복합 박막에 들어가더라도 그래핀이 비교적 균일하게 분산된다는 것을 알 수 있었다. 본 연구를 통하여 PBZ박막의 기계적 물성 향상과 동시에 도전성을 부여하는 효과적인 경로를 제공할 수 있었다.

Polymer Light Emitting Diode(PLED)의 특성에 관한 연구 (A study on the Characteristics of the Polymer Light Emitting Diode)

  • 문형돈;김화영;권영호;김영호
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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    • pp.1082-1085
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    • 2003
  • 본 연구에서는 고분자를 사용하여 만든 유기EL소자인 PLED (Polymer Light Emitting Diode)의 제조공정 변화에 따른 소자성능을 연구하였다. PLED의 제작은 크게 ITO 기판 제작, 발광층 및 전극 증착 등의 공정으로 나누어진다. ITO 기판은 사진식각공정으로, 발광층의 증착은 스핀코팅법으로, 전극은 진공증착법으로 각각 제작하였다. 코팅 시 스핀속도 및 점도 조절을 통하여 발광층의 두께를 조절하였고, 스핀코팅 후 건조방법에 따라서 표면의 uniformity와 발광특성을 비교해 보았다. 실험결과 특정 두께에서 발광특성이 우수하게 나타나는 것을 확인할 수 있었다. 그리고 건조방법에 따라 발광층의 표면 uniformity에 차이가 있었으며, 표면 uniformity에 따라 diode의 I-V 특성 경향이 달리 나타났다.

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수치지형도 제작과정의 품질관리요소 정립에 관한 연구 (Establishment of Quality Checking Factors for Construction Process of Digital Topographic Map)

  • 최병길;김감래;문용현
    • 한국지형공간정보학회:학술대회논문집
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    • 한국지형공간정보학회 2005년도 아시아 태평양 국제 GSIS 학술발표회
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    • pp.73-83
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    • 2005
  • 본 연구의 목적은 수치지형도 제작과정의 품질관리 방법을 정립하는데 있다. 이를 위하여 총 17개의 국내 공간데이터 품질관련 법규 및 국내 주요 항측업체를 대상으로 작업순서, 사용장비, 작업 결과물의 정확도를 중심으로 조사, 분석하였다. 조사, 분석한 내용을 기반으로 '항공사진을 이용한 수치 지도 신규제작', '수치지도 수정제작', '기존 지도의 수치화' 공정으로 표준화하였으며, 공정별로 생성되는 공간데이터의 품질을 체크할 수 있는 요소들을 정립하였다.

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고해상도 디지털 항공사진을 이용한 국가기본도 고도화 방안 (Advanced National Base Map by Using High-Resolution Digital Aerial Photograph)

  • 이현직;구대성;박찬호
    • 대한공간정보학회지
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    • 제18권1호
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    • pp.135-143
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    • 2010
  • 국가기본도는 국가공간정보의 기준이 되는 공간정보로서 그 가치와 역할이 매우 중요하다. 그러나 현행 국가기본도인 1/5,000 수치지도는 품질 및 정확도의 한계로 인하여 기초 공간정보로서의 역할을 충분히 수행하지 못하고 있는 실정으로 이에 대한 보완 방안이 필요한 시기이다. 이에 본 연구에서는 현 1/5,000 국가기본도의 고도화 방안을 제시하고자 GSD 0.25m 디지털 항공사진으로 제작 가능한 수치지도 지형 지물 항목을 선정하고, GSD 0.25m 디지털 항공사진을 이용한 최적 수치지도 제작 실험을 통해 수치지도 제작 최적 방법을 정립하였다. 또한 GSD 0.25m 디지털 항공사진으로 제작된 수치지도의 정확도 및 활용성 분석을 수행하였다. GSD 0.25m 디지털 항공사진을 이용한 수치지도 제작 기준을 정립하기 위하여 판독력 분석을 수행하여 대분류 9 개, 중분류 31개, 소분류 509개의 지형 지물 항목을 선정하였으며, 수치지도 제작 방법에 따른 수치지도 제작 실험을 수행하여 입체도화 방법을 수치지도 제작 최적 방법으로 선정하고, 최적 공정을 정립하였다. 본 연구 성과를 이용하여 GSD 0.25m 디지털 항공사진을 이용한 수치지도 시범 제작을 수행한 결과 기존 1/5,000 수치지도에 비해 약 2배의 수평 및 수직위치 정확도를 확보할 수 있었으며, 지형 지물의 상세한 묘사가 가능하여, GSD 0.25m 디지털 항공사진을 이용하여 국가기본도를 제작할 경우 신뢰성 있는 공간정보를 제공으로 대국민 서비스 만족도 향상과 국가기본도 고도화를 추진할 수 있을 것으로 판단된다.

광조형을 이용한 마스크리스 패턴형성에 관한 연구 (A Study of Mastless Pattern Fabrication using Stereolithography)

  • 정영대;조인호;손재혁;임용관;정해도
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2002년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.503-507
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    • 2002
  • Mask manufacturing is a high COC and COO process in developing of semiconductor devices, because of the mass production tool with high resolution. Direct writing has been thought to be one of the patterning method to cope with development or small-lot production of the device. This study focused on the development of the direct, mastless patterning process using stereolithography tool for the easy and convenient application to micro and miso scale products. Experiments are utilized by three dimensional CAD/CAM as a mask and photo-curable resin as a photo-resist in a conventional stereo-lithography apparatus. Results show that the resolution of the pattern was achieved about 300 micron because of complexity of SLA apparatus settings, inspite of 100 micro of inherent resolution. This paper concludes that photo resist and laser spot diameter should be adjusted to get finer patterns and the proposed method is significantly feasible to mastless and low cost patterning with micro and miso scale.

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0.18${\mu}{\textrm}{m}$이하 metal layer 사진공정에서의 overlay 보정 (Overlay correction in sub-0.18${\mu}{\textrm}{m}$ metal layer photolithography process)

  • 이미영;이홍주
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2002년도 춘계학술발표논문집
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    • pp.106-108
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    • 2002
  • 반도체 physical layout design rule이 작아짐에 따라 Proximity effect와 overlay가 Pattern 구현에 크게 영향을 미치고 있다. Metal layer와 contact의 부족한 overlay margin으로 overlay 불량이 발생하고, 감소한 space margin으로 인해 bridge와 같은 문제가 나타난다. 따라서, resolution을 향상시키고, 최소한의 overlay margin을 확보함으로써 미세 pattern의 구현을 가능하게 한다. 이를 위해 OPC와 attPSM 같은 분해능향상기술이 사용된다. 그러나 attPSM의 사용은 원하지 않는 pattern이 생성되는 sidelobe와 같은 문제가 발생한다. 따라서 serial image simulation올 통해 추출한 rule을 rule-based correction에 적용하여 sidelobe현상을 방지한다. 그리고 overlay margin 부족으로 나타나는 문제는 metal layer와 contact overlap되는 영역의 line edge를 확장하고, rule checking을 통해 최소한의 space margin을 확보하여 해결한다 따라서 overlay error를 rule-based correction을 사용하여 효과적으로 방지한다.