• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2012.05a
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• pp.64.2-64.2
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• 2012

전자산업에서 소자를 제작하는 핵심공정으로써, 패턴을 형성하는 방식은 식각 마스크를 통해 이루어진다. 공정 순서는 원하는 물질을 증착한 후 사진공정 (photolithograpy)을 통하여 원하는 패턴의 감광제 식각마스크 (etch mask)를 형성하게 된다. 이후, 습식식각이나 건식식각을 통하여 물질의 불필요한 부분을 제거한 후 최종적으로 감광제 식각마스크를 제거하여 원하는 물질의 패턴을 얻게 된다. 최근에 소개된 잉크젯 프린팅 기술 (inkjet printing technology)은 나노 잉크를 이용하여 사진공정과 식각공정을 이용하지 않고, 직접 나노잉크를 분사하여 패턴을 형성하는 방법으로, 패터닝 공정을 단순화 시킬 수 있을 뿐만 아니라 각종 전자 산업의 환경오염물을 획기적으로 줄일 수 있는 친환경기술이다. 특히, OLED, O-TFT, RF-ID, PCB 분야 등 다양한 전자산업분야의 제조기술로서 응용하고자, 전도성 폴리머나 실버 (silver) 나노파티클 잉크를 이용한 전도성 라인 패터닝 (line patterning)에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 강연에서는 친환경 생산공정기술 측면에서의 잉크젯기술을 분석하고, 기술의 구성요소, 응용분야, 기술 동향에 관해서 소개하고, 또한 현재 한국생산기술연구원에 진행하고 있는 잉크젯 프린팅 기술 기반의 인쇄전자 분야에 관한 내용을 소개한다.

• Proceedings of the Korean Operations and Management Science Society Conference
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• 2000.10a
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• pp.118-121
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• 2000

본 연구는 반도체 생산에서 제조공기 단축과 생산 능력의 극대화를 동시에 추구하는 스케줄링에 관한 연구이다. 반도체 공정에서의 생산능력은 사진 공정 안에 있는 병목 설비에 의존한다. 본 연구는 사진 공정의 병목 설비인 스테퍼의 효율적인 스케줄링을 생성하여 제조 공기의 단축과 생산량의 최대화를 위한 선형 계획법 모델을 제시하였다.

• Resources Recycling
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• v.16 no.1 s.75
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• pp.54-58
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• 2007

In the continuous flow reductive treatment for recovery of silver from actual photographic wastewater, the effects of electrolysis time, applied potential, and the concentration of silver ion on the process have been examined. The efficiency of silver recovery for diluted photographic wastewater was increased with applied potential and reached its maximum at 6 V. However, the recovery of silver was shown to be decreased with potential above this. When the wastewater was undiluted, the efficiency of silver recovery was observed to rise as the applied potential became lower under the experimental conditions.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.17 no.7
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• pp.36-44
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• 2000

X-선 사진식각공정(이하 LIGA 기술이라 함)을 이용한 초소형, 초정밀 금형 및 3차원 구조물 제작 가공기술은, 생산기반 기술 중 금형기술 및 가공기술 분야에 해당하는 기술로 포항가속기와 같은 방사선 가속기에서 생성되는 수 보대 파장의 X-선을 이용하는 기술이다. 짧은 파장을 사용하는 연유로, 일반 반도체 공정으로는 실현할 수 없는 높고, 광학적 용도까지 가능한 거울정도의 벽면 거칠기(수백${\AA}$이하)를, 그러면서도 서브 마이크론의 정밀도 (1$\mu\textrm{m}$이하)를 가지는 금형 및 3차원 구조물을 일괄 가공할 수 있는 기술이다.(중략)

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2011.05a
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• pp.172-173
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• 2011

실리콘 태양전지의 공정의 단순화와 효율을 극대화시키기 위하여 전기화학적 방법을 통하여 반사방지막(Anti-Reflection layer)의 선택적 식각공정과 선택적 오믹 전극을 형성하였다. Anti-Reflection coating 층의 식각 공정은 종전의 사진공정을 이용하지 않는 전기-화학적 나노식각을 적용하여 보다 용이한 공정을 연구하였다. 또한 태양전지의 효율을 증대시키기 위하여 전면에서 받은 빛 에너지로 발생된 전자가 전극부분에서 회로로 이동하기 위해 더욱 낮은 저항 값을 가지는 전극 구조가 필요하다. 이를 위해 Ni-P 박막을 형성시킨 전극부분을 열처리함으로써 오믹 접합 특성을 향상시켜 접촉 저항을 현격히 낮출 수 있는 기술을 연구하였다.

• 한국전기화학회:학술대회논문집
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• 2003.10a
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• pp.41-41
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• 2003

• 방재와보험
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• s.96
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• pp.4-6
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• 2003

한국화재보험협회는 행정자치부와 손해보험회사의 후원으로 범국민적인 화재예방의식을 심어주고 불조심 생활화의 확산을 위해 "제3회 화재사진 현상공모" 행사를 개최하였다. 이번 행사는 지난 7월 10일부터 10월 5일까지 화재사진을 모집, 총 158점의 작품이 접수되었다. 2차에 걸친 공정한 심사를 통해 일반부 작품 31점과 학생부 작품 2점을 최종 선정하였으며, 지난 11월 12일 시상식을 개최하였다. 협회는 당선된 작품과 협회에서 보유하고 있는 불조심 포스터 및 화재사진과 함께 전국 순회 전시회를 열어 화재예방 홍보활동을 하고 있다.

• Journal of the Korean Graphic Arts Communication Society
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• v.20 no.1
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• pp.133-145
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• 2002

A study on electronic imaging system with silver halide photography emulation by a parametric approach will be introduced. The study contains the comparison analysis between silver halide imaging process and electronic imaging process, the characterization of the detailed process in those imaging chains, such as exposure, developing, photographic print and the other photographic and digital process. We investigated the characteristic curve between optical density and the amount of exposure in silver halide and digital photography systems. Under wide range of exposure condition, several sensitometric parameters were obtained via studio and outdoor photographic experiments with conventional photography and a digital camera. whose experimental results will be shown. Finally, the comparison between electronic imaging and conventional photography via silver halide photography emulation and modeling the silver halide process wi13 be discussed.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2001.02a
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• pp.76-77
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• 2001

리소그래피 공정은 반도체 공정에 있어서 그 선폭과 집적도를 결정짓는 핵심 공정이다 이러한 리소그래피 공정 중 만들고자 하는 패턴을 사진전사에 의해서 형성해주는 도구인 노광장비는 광학계, 스테이지계, 제어계로 구성되는 데, 여기에서는 이 중에서 광학계를 중심으로 노광장비를 설명한다. 노광장비의 기본적인 형태는 그 사용되는 광학계에 파라서 결정되는데, 크게 나누어서 밀착 노광 방식과 투영 노광 방식이 있다. (중략)

• 한국공간정보시스템학회:학술대회논문집
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• 2005.05a
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• pp.327-331
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• 2005

본 연구의 목적은 공간데이터 구축시 아직까지 체계화되어 있지 않은 공간데이터의 품질 평가요소를 정립하는데 있다. 총 17개의 국내 공간데이터 품질관련 법규를 구축 공정, 작업방법, 장비, 정확도 등을 중심으로 분석하였다. 항공사진 촬영이 가능한 대규모 업체를 대상으로 작업순서, 사용장비, 작업순서 전후의 결과물의 정확도를 중심으로 조사하고 팀장급 직원들을 대상으로 현행 관련법규와 실무의 차이에 대하여 조사, 분석하였다. 조사, 분석한 내용을 기반으로 공간데이터의 구축공정을 항공사진을 이용한 수치지도 신규제작, 기존 수치지도 수정제작, 영상지도제작, 수치표고모델 구축 공정으로 구분하고, 각 공정별로 생성되는 공간데이터의 품질을 체크할 수 있는 요소들을 정립하였다.