최근 영상처리 분야는 디지털 영상장치들의 수요가 증대되면서 관심이 높아지고 있다. 그러나 디지털 영상은 영상을 처리하는 과정에서 다양한 원인으로 발생하는 잡음에 의해 훼손된다. 일반적으로 디지털 영상장치는 AWGN 등의 잡음이 발생하여 성능과 신뢰도를 저하하며 이를 제거하기 위한 다양한 연구가 진행되고 있다. 따라서 본 논문에서는 영상의 고주파 성분을 보호하고 AWGN을 효과적으로 제거하는 알고리즘을 제안하였다. 제안한 알고리즘은 가우시안 마스크를 적용한 추정치와 국부 마스크의 분포에 따라 적용된 가중치를 가감하여 최종 출력을 구한다. 그리고 제안한 알고리즘의 성능 평가를 위해 기존의 방법들과 시뮬레이션하였으며, PSNR과 처리한 확대 영상을 통해 특성을 비교하였다.
신원인증은 오래전부터 사회에서 개인을 식별하고 그에 맞는 서비스 등을 제공하기 위해 사용되던 중요한 기술이다. 인터넷 인프라의 발전으로 사회의 많은 부분이 온라인 영역으로 전환되며 신원인증 기술 또한 온라인으로 확장되었다. 하지만 여전히 신원인증 기술은 정부와 같이 신뢰하는 제3의 기관에 전적으로 의존하고 있다는 한계가 있다. 중앙화된 신원관리체계는 서로 다른 신원관리체계를 운용하는 기관 사이의 신원인증 과정을 매우 복잡하게 만들고 비용·시간적으로도 매우 비효율적으로 만들고 있다. 특히 2020년 코로나 바이러스로 인한 마스크 품귀 사태에서 사용된 중복구매 방지 시스템의 구축과정에서 중앙화된 신원관리체계의 한계가 여실히 드러났다. 분산신원증명은 사용자 스스로 자신의 신원정보를 관리하는 방법으로 최근에는 블록체인기술을 사용한 분산신원증명 기술이 다수 제안되고 있다. 본 논문에서는 기존의 중앙화된 신원관리체계의 한계를 분석하고 차후 코로나 바이러스와 같은 국가적인 비상상황에서 사용가능한 분산신원증명 시스템을 제안한다.
Objectives : This study was performed to enhance infection control and to establish the fundamental and practical improvement by the survey on personal protection of dental personnels with health science college students. Methods : We performed the survey with 585 individual students affiliated with health science in Jeonbuk province and statistically analyzed by SPSS 12.0 program. Results : The frequencies of the clinic gown as a personal protection were 96.0% of dentists (p<0.01) and 88.0% of dental hygienists (p<0.05) respectively in college-associated dental hospital when we compared with institution scale. The frequencies of the medical gloves as a compulsory personal protection were 47.2% of dentists and 34.6% of dental hygienists respectively (p<0.001). The frequencies of the medical mask as a compulsory personal protection were 84.0% of dentists (p<0.001) and 52.2% of dental hygienists (p<0.05) respectively shown by freshman students. The frequencies of the safety glasses as a compulsory personal protection were 12.3% of dentists and 2.5% of dental hygienists shown by freshman students (p<0.001). Conclusions : The results reflect that current dental personnel's concern of personal protection need to be increased continuously in accordance with current demands and eventually suggest their effort to put their action on personal protection in their dental office.
TV 방송 대역(white space) 내의 인접채널 간 WLAN과 WiBro 단말의 공존 가능성 파악을 위한 핵심 지표들을 얻기 위해 간섭분석을 수행하였다. 이를 위해 두 시스템의 각각에 해당하는 방사 및 블로킹 마스크, 안테나 높이 및 이득, 전송 전력 및 대역폭, 송수신 링크에 대한 채널모델 등 다양한 전송 파라미터를 적용하였다. 또한 이를 기반으로 인접채널에서 동작 가능한 사용자의 허용가능 전송 전력 및 서비스 단말 개수, 보호대역 변화에 따른 성능에 대해 분석을 수행하였다. 도심 환경을 고려하기 위하여 간섭원인 WLAN과 피간섭원인 WiBro 단말 부분에 각각 Extended Hata SRD, Extended Hata 모델을 적용하였다. 이를 통해 인접채널에서 각 단말이 어떻게 공존할 수 있는지를 확인할 수 있었다.
본 논문에서는 마이크로파 중계 시스템 망의 주파수 조정에 적용할 수 있는 효율적인 보호비 산출 방법을 제안하고 결과를 제시한다. 또한 인접 채널 보호비를 계산하기 위해 송신 스펙트럼 마스크와 수신 필터 특성에 관련된 통합 필터 변별도(NFD)를 고찰하였다. 보호비는 변조 방식에 따른 신호-대-잡음 비, 잡음-대-간섭 비, 다중 간섭 허용, 다중 경로 또는 강우 감쇠의 페이드 마진, 통합 필터 변별도의 변수들로 구성된다. 주파수 6.7 GHz, 64-QAM, 거리 60 km, BER $10^{-6}$에서 계산된 페이드 마진 및 보호비는 각각 41.1 및 75.2 dB를 얻을 수 있었다. 채널 대역폭 40 MHz의 NFD는 첫 번째 인접 채널에서 28.9 dB가 되며, 이로부터 첫 번째 인접 채널의 보호비는 46.3 dB가 됨을 알 수 있었다. 또한 실제 중계망의 적용을 위해 채널 대역폭 20 및 40 MHz를 갖는 이종 시스템간의 NFD 및 보호비도 고찰하였다. 제안된 방법은 계산의 용이성과 체계적 확장, 그리고 밀리미터파 중계망의 주파수 조정에도 동일한 개념을 적용할 수 있는 장점을 갖는다.
치과 진료실에서 병원성 미생물의 근원이 되는 곳은 환자의 구강이다. 구강 내에서 행하여지는 모든 진료행위는 타액과 혈액에 노출되고 그 안에 존재하는 병원성 미생물들은 다양한 경로를 통해 전파되어 감염성 질환이 쉽게 발생될 수 있다. 따라서 환자와 치과 종사자들의 감염방지를 위해 주위를 환기시키고 실천적 계기를 마련하기 위해 서울시 치과의원 100곳을 추출하여 진료실 감염관리와 폐기물 처리실태를 조사한 결과 다음과 같은 결론을 얻었다. 1 멸균준비를 위한 기구세척시 대부분 고무장갑을 착용하고 있으나(95%), 기구건조(56%), 기구포장(57%), 멸균지시테이프를 부착(24%)하는 기관은 적었으며, 대부분의 기관이 멸균기(가압증기멸균기 또는 불포화화학증기멸균기 또는 건열멸균기)를 보유하고 있으나(97%), 멸균기의 성능점검이 나 관리는 소홀한 것으로 나타났다. 3. mirror, pincette, explorer 등의 기본기구, 외과기구, 그리고 치주기구는 90% 이상 멸균하였다. 3 표면관리에 있어서 표면소독제로 알콜을 사용하는 경우가 94.0% 이었다. 4. 폐기물 처리의 경우 사용한 주사바늘, 수술용 칼, 봉합용 바늘은 97~98%가 별도의 밀폐용기에 모아서 별도로 처리하고 있으나, 아말감 찌꺼기를 올바르게 보관하는 기관은 65% 수은 찌꺼기를 올바르게 보관하는 기관은 74% 이었다. 5. scaling 시(수술용 고무장갑+구강 마스크+보안경)을 착용하거나(수술용 고무장갑+안면 보호대)를 착용하는 사람은 37% 이었고, 보철물 연마시(구강 마스트+보안경)을 착용하거나 안면 보호대를 착용하는 사람은 25% 이었다. 6. 간염예방주사를 맞았거나 면역되어 있는 사람은 90% 이었다. 7. 마취주사바늘 제거시 손으로 뚜껑을 닫고 제거하는 경우(84%)와 주사바늘에 찔린 경험(62%) 사이에 통계적으로 유의한 차이는 없으나, 많은 사람이 부주의 하고 있는 것으로 나타났다. 8. 환자의 안전관리에 대한 인식과 환자에게 납방어복을 입히는 것과 통계적으로 유의한 차이를 보이지 않으므로 환자의 안전관리를 주의한다고 생각하고 있지만(98%) 실제로 환자를 보호(37%)하는 것은 아니며, 본인의 안전관리에 대한 인식과 술자의 방어방법에서도 통계적으로 유의한 차이가 없으므로 주의한다고 인식(95%)하는 만큼 술자의 보호(88%)를 하지 않는 것으로 나타났다. 이상의 결과 기구의 소독과 멸균의 단계와 절차를 올바르게 적용하는 것과 표면소독제로 알콜 대체재료의 보급이 필요하고, 폐기물 처리 방법에 대한 교육을 더욱 확산시켜야 하며, 개인의 안전관리에 대한 인식에 비해 실천이 부족하므로 특히 환자보호와 더불어 술자 등 개인보호를 위한 실천이 필요하다고 검토되었다.
전력분석의 대응기법으로 가장 널리 알려진 마스킹 기법은 암호 알고리즘 수행 도중 비밀 중간 값을 노출시키지 않게 함으로써 공격자가 필요한 정보를 얻지 못하도록 한다. 마스킹 기법은 대칭키 암호 알고리즘에 적용되어 많은 연구가 진행되었다. 국제표준 알고리즘인 SEED 알고리즘에 대해 마스킹 대응기법 연구가 진행되었다. Cho 등이 제안한 Masked SEED 알고리즘은 1차 전력분석에 안전할 뿐만 아니라 Arithmetic to Boolean 변형 함수의 호출을 줄임으로써 효율성까지 만족시켰다. 본 논문에서는 Cho 등이 제안한 Masked SEED에 대한 취약점을 분석하였다. 효율적인 연산을 위해 추가로 수행되는 사전연산에 의해 마스크 값이 노출되고 이를 이용하여 1차 전력분석 공격으로 비밀키를 복원하였다. 우리는 이론적인 측면과 실험적인 측면을 모두 고려하여 취약점을 분석하였으며 제안한 공격기법은 Cho 등이 제안한 알고리즘이 탑재된 모든 디바이스에서 공통적으로 적용될 수 있음을 예상한다.
Negative-AND (NAND) flash의 대용량 및 소형화로 인해 10 nm급 공정을 도입한 128 Gb NAND flash가 개발된 이래, 공정이 미세화되면서 셀이 작이지고 간격이 좁아지게 되었다. 이로 인해 전자가 누설되는 간섭현상이 심화되게 된다. 이러한 문제를 해결하기 위해 기존 NAND의 평면 구조를 수직으로 적층하는 3D NAND 기술이 개발되었으며 차세대 소자를 위한 필수 기술로 각광받고 있다. 3D NAND에서 channel hole etching시 고 선택 비의 중요도가 증가하여 증착막 보호 역할을 하는 hardmask의 두께가 증가하게 되었으며 기존 하드마스크 대비 내식각성이 2배 이상 향상된 hard material 개발이 필요한 실정이다. 본 연구에서는 dopant에 따른 amorphous carbon layer (ACL)의 etch rate의 변화량을 Raman spectroscopy등의 측정장비를 이용하여 비교분석 하였다. dopant의 각각 유량별에 대한 etch rate 변화의 영향성을 비교하였다. dopant의 유량에 따라 etch rate이 변화하는 것을 관찰할 수 있었으며, 2000 sccm 이후에는 etch rate이 급격히 감소하는 경향을 보였다. Raman 측정결과, etch rate의 감소에 따라 G-peak의 red shift가 발생하였으며 두 peak 간의 차이 값이 etch rate의 변화율과 유사한 경향을 보이는 것을 확인하였다.
교량감시, 문화재감시, 하천감시, 노약자보호, 도시관제 및 환경감시 등 많은 분야에서 USN(Ubiquitous Sensor Network)을 이용한 서비스가 시작되고 있고, USN을 구현하기 위해서는 RF 송수신기가 반드시 필요하다. 본 논문은 2.4GHz 대역에서 동작하는 센서노드용 RF 송수신기의 설계 및 제작에 대해서 기술한다. RF 송수신기의 설계과정으로 AGC의 범위 설정과 송수신기의 설계 과정이 기술되어 있다. 또한 설계된 RF 송수신기를 제작하여 성능을 시험하였으며, 수신감도, 동작범위, 주파수 안정도, 위상잡음, 송신전력, 송신대역평탄도와 스펙트럼 마스크의 측정 결과가 기술되어 있다.
실리콘을 기판으로 하는 대부분의 태양전지에서는 표면반사에 의한 광에너지손실을 최소화시키고자 습식에칭(wet etching)에 의한 텍스쳐링처리가 이루어진다. 그러나 습식 에칭은 공정 과정이 번거롭고 비용이 많이 든다. Inductively Coupled Plasma Etcher 장비를 이용한 플라즈마 에칭 (plasma etching)을 실리콘 표면에 적용하여 공정을 간단하고 저렴하게 하며 반사도를 획기적으로 낮추는 기술이 개발되었다. 습식 에칭으로 형성된 표면의 피라미드 구조는 1차 반사 후 빛의 일부가 외부로 흩어져 나가지만 플라즈마 에칭으로 형성된 나노구조는 내부전반사가 가능하여 대부분의 태양 에너지를 흡수한다. 나노구조는 필라(pillar)의 형태로 형성되며 이 필라의 길이에 따라 반사도가 다르게 나타난다. 이는 플라즈마 에칭 시 발생하는 이온폭격과 에칭 측벽 식각 보호막(SiOxFy : Silicon- Oxy- Fluoride)이 필라의 길이에 영향을 주기 때문이며, 필라가 길수록 반사도를 저하시킨다. 최저의 반사도를 얻기 위해서 나노필라 형성에 기여하는 플라즈마 에칭 시간, RF bias power, SF6/O2 gas ratio의 변화에 따른 실험이 진행되었다. 플라즈마 발생 초기에는 표면의 거칠기만 증가할 뿐 필라가 형성되지 않지만 특정조건에서 3um 이상의 필라를 얻는다. 이는 에칭 측벽 식각 억제막이 약한 부분으로 이온폭격이 집중되어 발생한다. 플라즈마 에칭을 적용하여 형성된 나노필라는 반사도가 가시광 영역에서 대략 1%에 불과하며, 마스크 없이 공정이 가능한 장점이 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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