• Title/Summary/Keyword: 밴드 갭

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CuS/ZnO 이종 나노구조의 합성과 광촉매로의 응용 및 특성평가

  • Lee, Mi-Gyeong;Choe, Min-Gi;Yong, Gi-Jung
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.609-609
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    • 2013
  • 나노선은 대표적인 일차원 나노구조로 높은 부피-표면적 비율과, 조절 가능한 밴드갭 에너지, 뛰어난 광학적/전기적 특성으로 인해 다양한 잠재적 응용처를 가지며, 많이 연구되고 있다. 특히 ZnO 나노선은 대표적인 광촉매로, 높은 감광성과 높은 부피-표면적 비율 등의 특징을 가지지만, 상대적으로 넓은 밴드갭 에너지 때문에 가시광선 영역을 사용하지 못하는 단점이 있다. 본 연구에서는 CuS 나노입자/ZnO 나노선 이종구조를 간단한 두 가지의 방법으로 합성하였다. ZnO 나노선은 간단한 수열합성 방법으로 합성하였고, 그 위에 CuS 나노입자를 successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) 방법으로 증착하였다. 합성된 나노 구조는 기존의 ZnO 구조와는 달리 가시광 영역에서도 향상된 광촉매 특성을 보였으며, 이는 ZnO와 CuS사이의 interfacial charge transfer (IFCT)에서 기인한 것이다. SEM, TEM, XRD를 통해 CuS/ZnO 이종구조의 형태와 결정구조, 구성성분을 분석할 수 있었고, Acid Orange 7의 광분해 실험을 통해 향상된 광촉매 특성을 확인 할 수 있었다.

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Design of Bias Circuit for GHz BiCMOS Low Noise Amplifier (GHz BiCMOS 저 잡음 증폭기를 위한 바이어스 회로 설계)

  • Choi, Geun-Ho;Sung, Myeong-U;Rastegar, Habib;Kim, Shin-Gon;Kurbanov, Murod;Chandrasekar, Pushpa;Kil, Keun-Pil;Ryu, Jee-Youl;Noh, Seok-Ho;Yoon, Min
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2016.05a
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    • pp.696-697
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    • 2016
  • 본 논문은 5.25-GHz BiCMOS 저 잡음 증폭기를 위한 바이어스 회로를 제안한다. 이러한 회로는 1볼트 전원에서 동작하며, 저전압 및 저전력으로 동작하도록 설계되어 있다. 제안한 회로는 $0.18{\mu}m$ SiGe HBT BiCMOS로 설계하였다. 이러한 회로는 밴드 갭 참조회로 (band-gap reference circuit)를 사용하였다.

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Improvement of Performance of Thick and High Dielectric Patch Antennas using Photonic Bandgap Structures (포토닉 밴드갭 구조를 이용한 두껍고 유전상수가 높은 패치 안테나의 성능 향상)

  • 기철실;박익모;임한조;한해욱;이정일
    • The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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    • v.13 no.1
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    • pp.1-6
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    • 2002
  • This paper presents that photonic bandgap structures suppressing the propagation of surface waves can improve the performance of the patch antennas on a thick and high dielectric constant substrate. The forbidden propagation of surface wave due to the photonic bandgap enhances the radiation efficiency and reduces the back radiation drastically.

Electrical and optical properties in relation to Ga concentration of GZO films deposited by DC magnetron sputtering (DC 마그네트론 스퍼터링법으로 증착한 GZO 박막의 Ga 함량에 따른 전기적 및 광학적 특성)

  • Lee, Jeong-Cheol;Park, Sang-Eun;Lee, Jin-Ho;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.95-96
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    • 2007
  • DC magnetron sputtering 법으로 다양한 $Ga_2O_3$함량비( $2.27{\sim}$ 10.81 wt%)를 가진 고밀도 GZO 소결타겟을 사용하여 GZO박막을 증착한 후 도핑농도에 따른 광학적 특성과 전기적 특성을 조사하였다. GZO($Ga_2O_3$: 6.65 wt%)타겟을 사용하여 기판온도 $300^{\circ}C$에서 증착한 GZO박막은 상대적으로 낮은 비저항($5.1{\times}10^{-4}$ ${\Omega}cm$)과 85% 이상의 높은 투과율을 보였다. 또한 타겟의 $Ga_2O_3$함량이 6.65 wt%일때 광학적 밴드갭 에너지는 3.61 eV로 비교적 큰 흡수계수의 변화를 보였으며 그 이상의 $Ga_2O_3$농도에서는 밴드갭 에너지가 감소하는 경향을 보였다.

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Ga-ZnO film using electrochemical method (전기화학적 방법을 이용한 Ga-ZnO film)

  • Sim, Won-Hyeon;Kim, Yeong-Tae;Park, Mi-Yeong;Im, Dong-Chan;Lee, Gyu-Hwan;Jeong, Yong-Su
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2009.10a
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    • pp.151-151
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    • 2009
  • ZnO 박막은 큰 밴드 갭 및 가시광 영역에서 높은 광투과성을 가지며, 제조조건에 따라 비저항의 범위가 폭넓게 변화하므로 태양전지, 평판 디스플레이의 투명 전극뿐만 아니라 음향공전기, 바리스터 등에 이용되고 있다. ZnO 박막의 전도성을 향상시키기 위해서 일반적으로 Al, Ga, Ti, In, B, H(n-type), 등과 N, As(p-type)의 도펀트를 사용한다. 본 연구에서는 전기화학적인 방법을 사용하여 ITO/glass위에 ZnO film에 농도에 따른 Ga을 doping 하여 전기전도성 향상과 밴드갭을 넓힘으로서 전자의 recombination을 방지하여 유기태양전지의 효율을 높이는데 목적을 두었다.

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A Temperature Stable PWM Controller Using Bandgap Reference Voltage (밴드갭 기준전압을 이용한 동작온도에 무관한 PWM 컨트롤러)

  • Choi, Jin-Ho
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.11 no.8
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    • pp.1552-1557
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    • 2007
  • In this work, temperature stable pulse width modulation controller using bandgap reference voltage is proposed. Two bandgap reference voltages are designed by using BiCMOS technology which are temperature dependent and independent voltage references. PWM controller is designed by using 3.3 volt supply voltage and the output frequency is 1MHz. From simulation results, the variation of output pulse width is less than form +0.86% to -0.38% in the temperature range $0^{\circ}C\;to\;70^{\circ}C$.

용액공정을 이용한 AlZnSnO 박막 트랜지스터에서 Al의 효과

  • Han, Gyeong-Ju;Park, Jin-Seong;Jeong, Gwon-Beom
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.08a
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    • pp.167-167
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    • 2012
  • Aluminium-zinc-tin oxide (AZTO) 박막 트랜지스터는 Spin-coating 방법으로 제작되었다. AZTO용액의 용매는 2-Methoxyethanol, 용질은 각각 Aluminium nitride, Zinc acetate dihydrate, Tin chloride가 사용되어 제작되었다. 용액의 안정성을 위해서 미량의 Mono ethyl amine이 첨가되었다. 용액의 Zn:Sn의 몰 비율은 1 : 1로 고정 되었으며 Al의 mole비를 다양하게 늘리면서 실험을 진행하였다. 이렇게 만들어진 AZTO용액은 3,000 rpm으로 30초간 Spin-coating하였으며 이후 Furnace system을 통하여 $500^{\circ}C$의 온도로 1시간 동안 후열처리 공정을 진행하였다. AZTO박막을 활성층으로 제작된 박막 트랜지스터는 Al의 비율이 늘어남에 따라 처음엔 이동도가 증가하였으나 이후 이동도가 낮아지며 소자특성이 나빠지는 것을 보였다. 이러한 현상의 원인을 알아보고자 물리적, 전기적, 광학적 분석을 통해서 Al양의 변화가 박막트랜지스터 구동에 미치는 영향을 해석하였다. 먼저 AZTO용액은 열중량측정/시차열분석법(Thermo Gravimetry/Differential Thermal Analysis)을 이용하여 spin-coating 이후 후 열처리 온도 결정 및 박막의 변화를 관찰하였으며, X-선 분광(X-ray photoelectron spectroscopy)을 이용하여 박막의 조성 및 전자구조의 변화를, 타원분광해석법(Spectroscopic Ellipsometry)분석을 통하여 밴드 갭과 전도대 이하 밴드 갭 내에 존재하는 결함상태변화를 관찰하였다. AZTO 박막 내의 Al양을 조절하는 것은 박막내의 에너지 준위의 변화를 야기하고 그로인해 박막트랜지스터의 특성을 변화킨다는 결과를 도출하였다.

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Experiment of Graphene Etching by Using $O_2$ Plasma Ashing ($O_2$ plasma ashing을 이용한 그라핀 식각 실험)

  • Oh, Se-Man;Kim, Eun-Ho;Park, Jae-Min;Cho, Won-Ju;Jung, Jong-Wan
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2009.06a
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    • pp.424-424
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    • 2009
  • 그라핀은 밴드갭이 없어서 세미메탈의 성질을 띠므로 초고속 RF 소자에는 응용이 가능하지만, 현재 사용되는 반도체 칩에 사용하기가 불가능하다. 그러나 그라핀을 매우 좁은 리본 형태로 만들 경우 밴드갭이 생기고 이에 따라 반도체특성을 뛰게 된다. 이러한 특성은 시뮬레이션을 통해서만 이해되다가 2007년 P. Kim이 그라핀 나노리본의 밴드캡이 리본의 폭이 좁아짐에 따라 증가함을 실험적으로 최초로 발표하였다. 하지만 그라핀을 나노리본형태로 식각 방법에 대해서는 정확히 연구되지 않았다. 따라서 본 연구에서는 $O_2$ plasma ashing 방법을 이용하여 그라핀을 식각하는 방법에 대해 연구하였다. 먼저 Si기판을 initial cleaning 한 후, highly-oriented pyrolytic graphite(HOPG)를 이용하여 기존의 mechanical exfoliation 방식을 통해 그라핀을 형성하였다. Photo-lithography 방법을 통하여 패터닝한 후, 그라핀을 식각하기 위하여 Reactive Ion Etcher (RIE) system을 이용한 $O_2$ plasma ashing을 50 W에서 1 분간 실시하였다. 다시 image reverse photo-lithography 과정과 E-beam evaporator system를 통해서 Al 전극을 형성하여 graphene-FET를 제작하였고, 광학 현미경과 AFM (Atomic force microscope)을 통해 두께를 확인하였다. 본 연구를 통하여 $O_2$ plasma ashing을 이용하여 쉽게 그라 E을 식각할 수 있음을 확인 하였으며, 제작된 소자의 전기적 특성에 대해서 현재 실험중에 있다.

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ESD(Exponential Standard Deviation) Band centered at Exponential Moving Average (지수이동평균을 중심으로 하는 ESD밴드)

  • Lee, Jungyoun;Hwang, Sunmyung
    • Journal of Intelligence and Information Systems
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    • v.22 no.2
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    • pp.115-125
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    • 2016
  • The Bollinger Band indicating the current price position in the recent price action range is obtained by adding/substracting the simple standard deviation (SSD) to/from the simple moving average (SMA). In this paper, we first compare the characteristics of the SMA and the exponential moving average (EMA) in the operator's point of view. A basic equation is obtained between the interval length N of the SMA operator and the weighting factor ${\rho}$ of the EMA operator, that makes the centers of the 1st order momentums of each operator impulse respoinse identical. For equivalent N and ${\rho}$, frequency response examples are obtained and compared by using the discrete time Fourier transform. Based on observation that the SMA operator reacts more excessively than the EMA operator, we propose a novel exponential standard deviation (ESD) band centered at the EMA and derive an auto recursive formula for the proposed ESD band. Practical examples for the ESD band show that it has a smoother bound on the price action range than the Bollinger Band. Comparisons are also made for the gap corrected chart to show the advantageous feature of the ESD band even in the case of gap occurrence. Trading techniques developed for the Bollinger Band can be straight forwardly applied to those for the ESD band.