• Title/Summary/Keyword: 반응성 이온 에칭

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Failure Analysis of Ferroelectric $(Bi,La)_4Ti_3O_{12}$ Capacitor in Fabricating High Density FeRAM Device (고밀도 강유전체 메모리 소자 제작 시 발생하는 $(Bi,La)_4Ti_3O_{12}$ 커패시터의 불량 분석)

  • Kim, Young-Min;Jang, Gun-Eik;Kim, Nam-Kyeong;Yeom, Seung-Jin;Hong, Suk-Kyoung;Kweon, Soon-Yong
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2007.06a
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    • pp.257-257
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    • 2007
  • 고밀도 FeRAM (Ferroe!ectric Random Access Memory) 소자를 개발하기 위해서는 강유전체 물질을 이용한 안정적인 스텍형의 커패시터 개발이 필수적이다. 특히 $(Bi,La)_4Ti_3O_{12}$ (BLT) 강유전체 물질을 이용하는 경우에는 낮은 열처리 온도에서도 균질하고 높은 값의 잔류 분극 값을 확보하는 것이 가장 중요한 과제 중의 하나이다. 불행히도, BLT 물질은 a-축으로는 약 $50\;{\mu}C/cm^2$ 정도의 높은 잔류 분극 값을 갖지만, c-축 방향으로는 $4\;{\mu}C/cm^2$ 정도의 낮은 잔류 분극 값을 나타내는 동의 강한 비등방성 특성을 보인다. 따라서 BLT 박막에서 각각 입자들의 크기 및 결정 방향성을 세밀하게 제어하는 것은 무엇보다 중요하다. 본 연구에서는 16 Mb의 1T/1C (1-transistor/1-capacitor) 형의 FeRAM 소자를 BLT 박막을 적용하여 제작하였다. 솔-젤 (sol-gel) 용액을 이용하여 스핀코팅법으로 BLT 박막을 증착하고, 후속 열처리 공정을 RTP (rapid thermal process) 공정을 이용하여 수행하였다. 커패시터의 하부 전극 및 상부 전극은 각각 Pt/IrOx/lr 및 Pt을 적용하였다. 반응성 이온 에칭 (RIE: reactive ion etching) 공정을 이용하여 커패시터를 형성시킨 후, 32k-array (unit capacitor: $0.68\;{\mu}m$) 패턴에서 측정한 스위칭 분극 (dP=P*-P^) 값은 약 $16\;{\mu}C/cm^2$ 정도이고, 웨이퍼 내에서의 균일도도 2.8% 정도로 매우 우수한 특성을 보였다. 그러나 단위 셀들의 특성을 평가하기 위하여 bit-line의 전압을 측정한 결과, 약 10% 정도의 커패시터에서 불량이 발생하였다. 그리고 이러한 불량 젤들은 매우 불규칙적으로 분포함을 확인할 수 있었다. 이러한 불량 원인을 파악하기 위하여 양호한 젤과 불량이 발생한 셀에서의 BLT 박막의 미세구조를 분석하였다. 양호한 셀의 BLT 박막 입자들은 불량한 셀에 비하여 작고 비교적 균일한 크기를 갖고 있었다. 이에 비하여 불량한 셀에서의 BLT 박막에는 과대 성장한 입자들이 존재하고 이에 따라서 입자 크기가 매우 불균질한 것으로 확인되었다. 또 이러한 과대 성장한 입자들은 거의 모두 c-축 배향성을 나타내었다. 이상의 실험 결과들로부터, BLT 박막을 이용하여 제작한 FeRAM 소자에서 발생하는 불규칙한 셀 불량의 주된 원인은 c-축 배향성을 갖는 과대 성장한 입자의 생성임을 알 수 있었다. 즉 BLT 박막을 이용하여 FeRAM 소자를 제작하는 경우, 균일한 크기의 입자 및 c-축 배향성의 입자 억제가 매우 중요한 기술적 요소임을 알 수 있었다.

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Histomorphometry and Stability Analysis of Loaded Implants with two Different Surface Conditions in Beagle Dogs (하중을 가한 두 가지 표면의 임플란트에 관한 조직형태학적 분석 및 안정성 분석 (비글견을 이용한 연구))

  • Kim, Sang-Mi;Kim, Dae-Gon;Cho, Lee-Ra;Park, Chan-Jin
    • Journal of Dental Rehabilitation and Applied Science
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    • v.24 no.4
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    • pp.337-349
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    • 2008
  • Despite an improved bone reactions of Mg-incorporated implants in the animals, little yet has been carried out by the experimental investigations in functional loading conditions. This study investigated the clinical and histologic parameters of osseointegrated Mg-incorporated implants in delayed loading conditions. A total of 36 solid screw implants (diameter 3.75 mm, length 10mm) were placed in the mandibles of 6 beagle dogs. Test groups included 18 Mg-incorporated implants. Turned titanium Implants served as control. Gold crowns were inserted 3 months. Radiographic assessments and stabilitytests were performed at the time of fixture installation, $2^{nd}$ stage surgery, 1 and 3 months after loading. Histological observations and morphometrical measurements were also performed. Of 36 implants, 32 displayed no discernible mobility, corresponding to successful clinical function. There was no statistically significant difference between test implants and controls in marginal bone levels (p=0.413) and RFA values. The mean BIC % in the Mg-implants was $54.4{\pm}20.2%$. The mean BIC % in the turned implant was $48.9{\pm}8.0%$. These differences between the Mg-implant and control implant were not statistically significant (P=0.264). In the limitation of this study, bone-to-implant contact (BIC) and bone area of Mg-incorporated oxidized implant were similar to machine-turned implant. The stability analysis showed no significantly different ISQ values and marginal bone loss between two groups. Considering time-dependent bone responses of Mg-implant, it seems that Mg-implants enhanced bone responses in early loading conditions and osseointegrated similarly to cp Ti implants in delayed loading conditions. However, further investigations are necessary to obtain long-term bone response of the Mg-implant in human.