• Ceramist
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• v.5 no.3
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• pp.39-43
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• 2002

• Journal of Korean Electronics
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• v.3 no.3-4
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• pp.76-79
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• 1983

• Proceedings of the International Microelectronics And Packaging Society Conference
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• 2002.11a
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• pp.185-189
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• 2002

Mignetron sputter 장비를 이용하여 극자외선 노광공정용 Mo/Si 다층박막을 증착하였다. 증착 시편과 동일한 조건에서 수행된 시뮬레이션과 측정된 반사도 값을 비교하였고, d-spacing, 밀도, interface layer, 입사각 둥이 반사도에 어떠한 영향을 미치는지에 대하여 고찰하였다. 또한 측정된 반사도 그래프에 근접한 조건을 조사하였다. 이를 통하여 Mo/Si 다층박막의 반사도에 영향을 미치는 인자들과 그 영향에 대하여 알 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2004.07b
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• pp.977-980
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• 2004

본 논문에서는 저가 고효율 태양전지를 제작하기 위하여 p형 다결정 실리콘 기판을 사용하여 수산화 칼륨(KOH)이 포함된 용액에 Saw damage 과정 후 불산이 함유된 용액에 전기화학적 양극산화 과정으로 실리콘 웨이퍼 표면에 요철을 형성하여 다공성 실리콘을 형성 하였다. 본 논문은 전기화학적 에칭방법으로 기존의 진공장비로 제작된 반사방지막의 반사율만큼 감소된 다공성 실리콘 반사방지막을 형성하였다. 전자빔 증착기(e-beam evaporator)로 단층으로 형성된 $TiO_2$의 반사방지막은 400-1000 nm의 파장 범위에서 4.1 %의 평균 반사율을 가졌으며, 양극산화과정으로 형성된 다공성 실리콘은 400-1000 nm의 파장의 범위에서 4.4 %의 평균 반사율을 가졌다. 본 연구는 태양전지의 반사방지막 형성을 기존의 제작 방법보다 간단하고 저렴한 방법으로 접근하여 태양전지의 변환효율을 상승하는데 목적을 두었다.

• Journal of the Institute of Electronics and Information Engineers
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• v.52 no.5
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• pp.206-213
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• 2015

An omni-directional, graded-index and textured ZnO nanorods with $MgF_2$ anti-reflective(AR) coating films for the electro optical tracking system(EOTS) by e-beam evaporation method are presented. we achieved that the graded index structure can minimize image tracking interference of EOTS which is comparable to a general AR coating films. Optimized ZnO nanorods with $MgF_2$ AR coating films lead to decreasing Fresnel reflection by gradient refractive index. According to our experiment results, ZnO nanorods with $MgF_2$ AR coating films can be used for various electro optical system to improve the optical performance.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2009.11a
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• pp.274-274
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• 2009

고효율 결정질 실리콘 태양전지 구조를 갖기 위해서는 기본적으로 광포획 기능이 고려된 기판이 고려되어야 한다. 본 실험에서는 2-step 습식공정을 이용하여 기판의 반사율을 기존 대비 절반 이하로까지 줄일 수 있는 저반사율을 갖는 표면구조를 얻을 수 있었다. 일반적인 텍스처링 공정을 NaOH와 TMAH등을 이용하여 10um이하의 피라미드 구조를 통해 평균반사율을 10~13%수준을 얻었고, metal assist etching을 이용하여 추가적인 나노 텍스처링을 적용하였다. 전체적인 2-step에칭을 적용하여 평균 반사율을 5%이하까지 줄일 수 있었다. 이는 전반적으로 나노구조 형성으로 인하여 단파장쪽의 반사율이 적게 나오고 IR 파장쪽의 반사율도 같이 낮아짐으로써 저반사율이 달성되었다. 2-step을 이용한 나노 텍스처링 공정 최적화와 반사방지막을 증착하여 이에 대한 효과를 연구하였다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.12 no.1
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• pp.1-4
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• 2001

Via terahertz (THz) reflection radar, the characterizations of reflected THz electromagnetic pulses are reported. Quasi-optical techniques are used to efficiently reflect pulses of THz electromagnetic radiation from an aluminum mirror and several conducting and nonconducting materials. An incident THz pulse is reflected up to 9 times to know the magnitude change of a reflected pulse from the aluminum mirror. Using this method, aluminum board, undoped silicon, quartz, and LDPE samples' reflection coefficient and index of refraction can be measured. These results suggest a possible application of transient THz reflection spectroscopy without surface contact.ontact.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SC
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• v.49 no.4
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• pp.1-9
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• 2012

A method to estimate the 3-D shape of surface with specular reflection is proposed, where the difference between the images reflected from a flat surface and a curved surface is used. First, we analyzed the geometry of the spatial reflection at specular surface and the variation of reflected light due to curved surface, whose results are used to estimate 3-D shape. The proposed method is shown to be effective via experiments using the illumination with spatially distributed light source and the CCD camera to capture the light reflected from a surface. In experiments, the captured images from curved surface with specular reflection are processed to approximately estimate 3-D shape.

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 2004.05a
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• pp.39-40
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• 2004

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.8 no.2
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• pp.19-24
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• 2001

The effect of thickness variation and inter-diffusion layer on the reflectivity of Mo/Si multilayer has been investigated. The reflectivity of the imperfect Mo/Si multilayer with thickness variation of 28% was found to be lowered by 10.8% compared to that of ideal Mo/Si multilayers with 40-periods. When the inter-diffusion layer is taken into account, the reflectivity is decreased by 4.7% additionally. We also fecund that the reflectivity continued to increase until the 25th-layer but it showed irregular tendencies about increment and decrement from the 26th-layer of Mo/Si multilayer structures.