optical Simulation on EUV Reflectivity of Mo/Si Multilayer Structure

Mo/Si 다층박막의 극자외선 반사도에 대한 전산모사

The effect of thickness variation and inter-diffusion layer on the reflectivity of Mo/Si multilayer has been investigated. The reflectivity of the imperfect Mo/Si multilayer with thickness variation of 28% was found to be lowered by 10.8% compared to that of ideal Mo/Si multilayers with 40-periods. When the inter-diffusion layer is taken into account, the reflectivity is decreased by 4.7% additionally. We also fecund that the reflectivity continued to increase until the 25th-layer but it showed irregular tendencies about increment and decrement from the 26th-layer of Mo/Si multilayer structures.

EUV 노광공정의 반사형 노광계 및 마스크에 사용되는 Mo/Si 다층박막 착탁 시 발생하는 각 층의 두께 변화와 상호확산 층 (inter-diffusion layer)이 생성될 경우에 대하여 이들이 다층박막 반사도에 미치는 영향을 전산모사를 통하여 알아보았다. 본 연구그룹에서 개발한 다층박막 반사 시뮬레이션 프로그램을 사용하여 Mo/Si 40-period박막의 반사토플 계산한 결과, 각각의 period가 두께의 편챠(28%)를 갖는 경우, 모든 period가 같은 두께를 갖는 다층박막에 비해 최대반사도가 10.8% 감소가 되었으며 두 층간 물질 사이의 상호확산(interdiffustion) 층을 가정하였을 경우, 다층박막의 경우 그렇지 않은 경우에 비해 4.7%의 최대반사도가 감소가 예상되었다. 그리고 각 층의 적층에 따른 반사도의 변화를 시뮬레이션 프로그램을 통해 계산한 결과 반사도는 25층까지 계속 증가하며 26층부터 불규칙한 경향성을 가지며 증가와 감소를 반복함을 알 수 있었다.