• Title/Summary/Keyword: 반도체-디스플레이장비

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비정질 결정도에 따른 박막의 결합구조의 변화

  • O, De-Re-Sa
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.39-42
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    • 2007
  • 최근 C-H 수소결합의 강한 상한 상호작용에 의하여 blue shift를 나타내는 현상이 보고 되고 있다. 비정질 불화탄소의 화학적 이동유기 절연막의 경우, 화학적 이동의 원인은 매우 서로 다른 원인에 발생하지만 이러한 물질의 상호작용은 친핵성 첨가반응에 의한 것임을 확인하였다. a-C:F 박막의 화학적 이동은 XRD 패턴에 의해서 결합 구조와 연관이 있으며, C-H 결합이 불소에 의한 끌림현상으로부터 발생되면서 비정질 구조로 변하는 것을 확인하였다.

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트리즈를 이용한 전압측정용 탐침에 의한 전선피복 손상 방지 대책에 관한 연구

  • Gwak, Yun-Gi;Kim, Ho-Jong
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.259-262
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    • 2007
  • 현재의 전자제어 차량 정비에 있어서 각종 센서 및 엑츄에이터의 전압파형을 측정, 분석하여 원인을 진단하는 사례가 일반화 되어 가고 있다. 이러한 추세에 맞추어, 자동차 정비 실습 교육시 전압 파형 측정을 위하여 학생들이 직접 각 센서 및 엑츄에이터 커넥터에 탐침을 연결, 측정하고 있으며 이 과정에서 커넥터의 전선피복이 손상되는 사례가 빈번히 일어나고 있다. 본 논문에서는 트리즈의 6단계 창의성 기법을 적용하여 전선피복이 손상되는 원인을 찾아내고 혁신적인 해결책을 제시하였다.

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X선 감지를 위한 PIN형 실리콘 다이오드 어레이 제작

  • Cha, Gyeong-Hwan;Lee, Gyu-Hang;Nam, Hyeong-Jin
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.86-89
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    • 2007
  • 실리콘을 사용한 X선 감지 용 센서 어레이 제작에 대해 연구하였다. 단일 센서 소자에서는 필수적인 guard ring구조가 어레이에서는 적절히 설계되지 못할 경우 누설전류 증가를 초래하는 것으로 나타났다. 즉, 누설전류는 공??????층 두께와 능동영역 및 guard ring 구조 간 거리에 매우 민감한 것으로 조사되었다. 또한 다결정 실리콘과 n형 도핑 소스로 인을 활용하는 조합이 결함 gettering을 위한 효율적인 방법임이 입증되었으나 고온 공정과정에 보호되지 않은 채 노출되는 경우에는 효과적이지 못한 것으로 관측되었다. 본 연구에서는 이러한 결과들을 고려하여 어레이를 제작하였으며 우수한 특성을 관찰할 수 있었다.

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아르곤4P준위 광방출 분석법(OES)을 이용한 플라즈마의 전자온도 및 준안정 밀도 측정

  • Lee, Yeong-Gwang;Lee, Min-Hyeong;Jeong, Jin-Uk
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.104-108
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    • 2007
  • This paper reviews a simple model and spectroscopic method for extracting plasma electron temperature and argon metastable number density. The model is based on the availability of experimental relative emission intensities of only four argon lines that originate from 4p argon level. In this method, Maxwell-Boltzman distribution for EEDF is assumed and the calculation relies on the accuracy of the cross section. Therefore OES have to be compared with Langmuir probe to establish their practical validity.

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Experiment and characteristics for size of a planar rf-antenna in Inductively coupled plasma

  • Lee, Hyo-Chang;Bang, Jin-Yeong;Jeong, Jin-Uk
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.113-117
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    • 2007
  • 유도 결합 플라즈마의 안테나 크기에 따른 플라즈마 밀도와 온도 분포 등 플라즈마 변수들을 측정하였다. 플라즈마 진단을 위해서 단일 량뮤어 탐침(Single Langmuir probe)을 사용했으며 전자 에너지 분포함수 측정을 통해 플라즈마 변수들을 측정하였다. 단일 감은 수의 세 개의 안테나를 준비하고 각각의 안테나에 파워를 인가하고 플라즈마 변수들을 측정하였다. 안테나 크기에 따른 플라즈마 분포의 변화는 압력에 따라 많이 변했는데, 낮은 압력에서는 안테나의 의존성은 크지 않았으며 높은 압력에서는 밀도 분포의 변화가 크게 나타났다.

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레이저 변위 센서를 이용한 표면거칠기 측정방법

  • An, In-Seok;Choe, Seong-Ju;Lee, U-Yeong;Kim, Guk-Won
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.144-148
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    • 2007
  • 레이저 변위 센서를 이용한 비접촉식 표면거칠기 측정 방법에 관하여 접촉식과 비교 평가함으로 신뢰성을 확인하였으며, 비교측정하기 위하여 시편을 제작하고 접촉식 방법과 비접촉식 방법으로 측정하고 비교 분석하였다. 분석 결과 접촉식에 비해 비접촉식의 측정에서의 값은 신뢰할 수준으로 판단되었다.

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Retinex 알고리즘을 이용한 영상 개선에 관한 연구

  • Yu Seong-Jae;Sin Ho-Cheol;Lee Jun-Yeong;Kim Yeong-Seop;Jang Ji-Geun
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.05a
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    • pp.265-268
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    • 2006
  • 본 논문에서는 레티넥스(Retinex) 이론을 이용한 영상개선 알고리즘을 분석하고, 이를 최적화하기 위한 알고리즘을 제안하였다. 기존의 알고리즘이 가진 큰 단점인 수행속도를 보완하기 위해 그리고 작아진 필터 크기 때문에 충분한 면적의 조명정보를 분석하지 못하는 단점을 보완하기 위해 우리의 알고리즘에는 주변함수의 필터크기를 원래의 알고리즘과 비교하여 보다 작은 크기로 조절함으로써, 연산속도를 대폭 감소시킬 수 있었고 4번째 채널로 흑백영상을 선택하므로 써 충분한 면적의 조명정보를 분석하지 못하는 단점을 보완하였다.

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Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구

  • Lee Hyeong-Ju;Lee Jeong-Hwan;Seo Ju-Bin;Gyeong Jae-Seon;An Il-Sin
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.05a
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    • pp.172-176
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    • 2006
  • 본 논문에서는 물을 이용한 193nm immersion lithography에서 물이 photoresist(PR)에 흡수되는 현상을 측정하기 위하여 타원해석기(Ellipsometer)의 응용 가능성을 연구하였다. 물이 PR 에 흡수됨에 따라 swelling 현상이 발생하여 두께 증가로 나타났는데 이는 실시간 타원해석기를 적용하여 시간에 따른 두께 변화를 분석함으로써 그 반응정도를 분석해 낼 수 있었다. 또한 짧은 시간에 발생하는 물의 흡수 현상은 imaging 타원해석기론 이용하여 규명할 수가 있었다.

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Study on Evaporating Process Modeling for Estimation of Thin-film Thickness Distribution (박막두께 예측을 위한 증착 공정 모델링에 관한 연구)

  • Lee Eung-Ki;Lee Dong-Eun;Lee Sook-Han
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.05a
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    • pp.156-159
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    • 2006
  • In order to design an evaporation system, geometric simulation of film thickness distribution profile is required. In this paper, a geometric modeling algorithm is introduced for process simulation of the evaporating process. The physical fact of the evaporating process is modeled mathematically. Based on the developed method, the thickness of the thin-film layer can be successfully controlled.

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