• 제목/요약/키워드: 반도체 폐수

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디스플레이 반도체 기술 적용을 위한 청정 나노잉크 제조 기술 (Recent Advances in Eco-friendly Nano-ink Technology for Display and Semiconductor Application)

  • 김종웅;홍성제;김영석;김용성;이정노;강남기
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제17권1호
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    • pp.33-39
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    • 2010
  • 나노잉크를 이용한 프린팅 기술은 기존의 리소그래피를 통한 절연체, 반도체 및 전도체의 패터닝 기술에 비해 비용절감, 대면적 기판 적용 가능성 및 회로의 유연성 등의 측면에서 장점을 가지므로 최근 크게 주목받고 있다. 이러한 프린팅 기술이 반도체 또는 디스플레이 제조 공정에 성공적으로 적용되기 위해서는 먼저 나노입자, 용매 및 첨가제로 구성된 나노잉크 또는 페이스트의 개발이 선행되어야 한다. 본 고에서는 이러한 반도체 및 디스플레이 적용을 위한 나노잉크의 청정 제조기술과 관련하여 최근의 연구 동향에 대하여 보고하고자 한다. 또한 나노잉크의 청정 제조기술과 관련한 구체적인 예를 설명하기 위하여 본 연구팀에서 개발한 청정 저온 $SiO_2$ 합성 기술을 소개하고자 하였다. 먼저 저온에서의 무폐수 청정공정을 통해 $SiO_2$ 나노입자를 제조하고, 이를 이용하여 프린팅 기술에 적용이 가능한 나노잉크를 제조하였다. 제조된 잉크를 유리 기판에 프린팅하여 다양한 특성 평가를 실시하였으며, 마지막으로 제조 공정상의 여러 시험변수가 프린팅된 필름의 전기적 특성에 미치는 영향에 대한 고찰을 통해 기술의 적용가능성을 평가하고자 하였다.

지속가능한 에너지를 이용한 오존 발생시스템 개발 (Development of Ozone Generation System by using Sustainable Energy)

  • 김기동;김민영;이승윤;지홍기
    • 한국수자원학회:학술대회논문집
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    • 한국수자원학회 2008년도 학술발표회 논문집
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    • pp.1452-1456
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    • 2008
  • 우리나라 주요 상수원인 낙동강, 금강 등의 수질이 급격히 악화됨에 따라, 기존의 정수방법에 어려움이 발생되고 있다. 과거 염소에 의존한 수처리방법이 많이 사용되어 왔으나, 1989년 이후 중금속, THM(Trihalomethane), 페놀사건, 벤젠 등 각종 수돗물 유기물질 오염사고가 다발하면서, 활성탄 및 오존$(O_3)$ 등을 이용한 다양한 처리 시설들이 도입되기 시작했다. 이중 강력한 산화력을 지니고 있는 오존의 경우, 상수처리, 폐 배수처리, 식품의 살균 및 보관, 나아가 반도체 제조공정중의 포토레지스터의 제거에 이르기까지 폭넓게 사용되고 있다. 그러나 오존이 가지는 뛰어난 정화능력에도 불구하고, 막대한 설치비용 및 운전비용의 문제로 하수처리장과 같은 대규모 시설에서는 도입되지 못하고 있었다. 이러한 문제점을 극복하고자 본 연구에서는 재생 가능한 에너지를 오존시스템의 전력원으로 대용시킴으로써, 그 효과를 극대화시키고자 하는데 목적이 있다. 에너지 밀도가 낮지만, 지역 의존성이 적고, 청정한 무한 에너지인 수력, 풍력 및 태양에너지를 혼용한 오존 발생시스템은 소규모의 연못이나 농촌의 저수지 같은 유역뿐만 아니라, 농촌폐수로 인해 오염된 지하수의 국소지역에 대한 수처리에 사용될 수 있다.

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진동막분리장치에 의한 반도체폐수처리와 재이용에 관한 연구 (A Study on the Semiconductor Wastewater Treatment and Recycling by VSEP system)

  • 강경환
    • 한국환경과학회지
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    • 제14권3호
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    • pp.335-343
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    • 2005
  • The objective of this research is to evaluate a feasibility of wastewater reuse by membrane treatment with vibrating membrane separation equipment. Molecular weight of compounds in wastewater, permeability of membrane and retentate characterization after membrane filtration were investigated in order to determine appropriate membrane pore size and materials for wastewater treatment. Selected membrane was evaluated with vibration membrane separation equipment to optimize operating conditions. The following conclusion are drawn. 1. We got as following test results after the distribution of particles in the semiconductor wastewater, are made up of $1\~20{\mu}m$. Si, gold and Al in turn are contained in semiconductor wastewater. 2. Recovery rate is changeless under increasing recovery rate in operation. Though a value can be if pressure can be changed, the highest value of permeate rate is presented in 150 psi. 3. The AS-100(polysulpone) was selected as the most appropriate membranes for the treatment of semi-conductor wastewater to VSEP system. The fouling almost did not occur during this experiments. The analyses of treated water with VSEP system showed conductivity: 0.059,us/cm, TDS: 40mg/l, COD: 20mg/l, SS : 5mg/l, n-Hexane: 8.3mg/l. Comparing previous systems, operating expenses is decreased by more $50\%$.

폐수의 악취측정을 위한 금속산화물 반도체 및 전기화학식 가스센서 어레이 특성 평가 (Evaluation of Metal Oxide Semiconductor and Electrochemical Gas Sensor Array Characterization for Measuring Wastewater Odor)

  • 임봉빈;이석준;김선태
    • 센서학회지
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    • 제24권1호
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    • pp.29-34
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    • 2015
  • This study aimed to evaluate the characterization of a metal oxide semiconductor and electrochemical gas sensor array for measuring wastewater odor. The sensitivity of all gas sensors observed in sampling method by stripping was 6.7 to 20.6 times higher than that by no stripping, except sensor D (electrochemical gas sensor). The average reduction ratio of sensor signal as a function of initial dilution rate of wastewater was in the order of food plant > food waste reutilization facility > plating plant. The sensitivity of gas sensors was dependent on both the type of wastewater and the dilution rate. The sensor signals observed by the gas sensor array were correlated with the dilution factor (OU) calculated by the air dilution sensory test with several wastewater ($r^2=0.920{\sim}0.997$), except the sensor signals of sensor D measured in the plating plant wastewater. It seems likely that the gas sensor array plays a role in the evaluation of odor in wastewater and is useful tool for on-site odor monitoring in the wastewater facilities.

굴패각과 천연광물질을 이용한 수목여과용 비점오염시설 장치 개발 연구 (Development of Non-point Pollution Facility for Forest Filtration Using Oyster Shell and Natural Mineral)

  • 김정호;구현우;이영재
    • 한국수자원학회:학술대회논문집
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    • 한국수자원학회 2018년도 학술발표회
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    • pp.53-57
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    • 2018
  • 고도의 산업화에 따라 도시의 성장과 인구의 밀집으로 인하여 물의 수요가 증가하고 이에 따라 각종 오염원의 유입이 증가함에 따라서 적절한 수질 관리에 대한 필요성이 대두되고 있다. 그리고 산업이 다양화됨에 따라 배출되는 하 폐수의 특성도 다양해져 기존의 수질처리장은 효율적인 처리를 하는데 있어 많은 어려움이 발생되고 있다. 굴 패각은 하수처리의 담체로 이용할 경우 살수여상의 문제점 중 하나로 나타나는 막힘 현상을 다소 감소시킬 수 있고, 다공질체로서 표면적이 불규칙하고 비표면적이 크기 때문에 반응기내에 공기를 원활하게 공급할 수 있으며, 중금속 이온과 유기물에 대한 흡착 효율이 뛰어나 미생물이 쉽게 부착, 성장할 수 있는 장점을 가지고 있다. 천연광물질은 전 세계적으로 발견되어 활용된 역사가 짧지만, 그 특징은 산소결핍보충, 유해원소 흡착 성능, 반도체 작용, 인체 면역력 강화, 바이러스성 질병의 예방, 중금속 해독 등의 다양한 특징으로 환경호르몬 제고, 음이온 원적외선 발생으로 세포의 노화방지, 인체 노폐물 제거와 같은 특징을 지닌 매우 유용한 자원으로 확인되고 있으며, 수질정화 능력이 탁월한 것으로 보고 있다. 이에 본 연구는 어촌폐기물인 굴 패각과 수질정화에 탁월한 천연 광물질을 혼합하여 경제적이고, 효율성이 높은 다공성 수질개선 담체를 개발하고, 수목여과용 비점오염시설 장치에 적용하여 혼합 담체가 수처리 시설의 담체로서 사용이 가능한지, 수목여과용 비점오염시설 장치에 적용할 수 있는지 검토하고자 수행하였다. 이 연구는 2017년 중소기업청 기술개발사업에서 연구지원을 받아 연구되었습니다.

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항생제 분해용 광촉매막: 리뷰 (Photocatalytic Membrane for Degradation of Antibiotics: A Review)

  • 라비아 카갛니;라즈쿠마 파텔
    • 멤브레인
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    • 제32권5호
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    • pp.304-313
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    • 2022
  • 활성 의약품 성분(APIs)의 존재가 수생 생태계와 인간의 건강에 위험하다는 증거가 있다. 물에 항생물질인 테트라사이클린과 같은 API가 존재하면 미생물에 항균제 내성(AMR)이 발생해 개인과 사회에 막대한 비용이 발생한다. TiO2 또는 비스무트 기반 촉매와 같은 촉매가 내장된 막은 유기 유출물을 분해하고 폐수로부터 분리한다. 촉매의 광촉매 활성은 귀금속 도핑 및 탄소성 물질의 첨가 및 다른 반도체와의 헤테로 접합 형성으로 향상될 수 있다. 광촉매의 회수는 고분자 막에서 광촉매의 고정화를 통해 가능하다. 이 검토에서는 물 속 항생제의 분해가 논의된다.

변형 알루미나를 이용한 저농도 불소이온 제거 연구 (A Study on the Removal of Low-concentration Fluoride-ion by Modified Alumina)

  • 김소영;김주희;김현자;조영상
    • 대한환경공학회지
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    • 제27권3호
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    • pp.247-252
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    • 2005
  • 불소는 화학활성이 높아 반도체, 유리, 금속가공 등의 표면처리 및 세정제로 넓게 사용되고 있으며, 배출에 관해서는 수질환경보전법에 기준이 정해져 있다. 따라서 불소폐수는 일정한 수준 이하까지 불소를 제거하여 방출하여야 하며 일반적으로 고농도의 불소를 함유한 폐수처리에는 응집 침전법이 사용되어왔다. 그러나 이 방법은 10 ppm 이하의 저농도 불소 제거에는 효과가 없었다. 본 연구에서는 수용성 산을 함침시켜 소성한 변형 알루미나를 이용하여 저농도 제거가 어려운 불소 이온을 흡착에 의해 제거하는 기술을 개발하고자 하였다. 저농도 불소 이온을 제거하기 위해서 변형 알루미나를 이용하여 회분식 실험을 실행하였고, 흡착제 조성, 소성 온도, 흡착제의 투입량과 교반시간에 따른 제거효율을 조사하였다. 불소 이온의 가장 좋은 제거율은 황산으로 처리된 변형 알루미나에서 얻을 수 있었으며, 변형 알루미나 제조시의 적정한 소성온도는 $500^{\circ}C$였다. 또한 본 연구에서는 흡착등온식으로 널리 알려진 Freundlich식을 이용하여 흡착등온식을 구하였다. 회분식 실험을 통해 얻은 결과를 Freundlich 흡착 등온식에 적용한 결과 Freundlich 흡착 등온식의 상수 K값은 6.63이였고, 1/n은 0.29을 얻을 수 있었다.

반도체 산업폐수의 재이용 기술에 관한 연구 (A Study on the Waste Water Recycling Technology for Semiconductor Industry)

  • 지은상;김재우;신대윤
    • 환경위생공학
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    • 제14권4호
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    • pp.137-142
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    • 1999
  • Current semiconductor industry factories are relying on the end-of-pipe treatment technology for waste water treatment and thus they mostly suffer from severe industrial water shortage. As a result in order to solve those waste and industrial water problems, there requires to be changed to the Clean Technology, that is Pollution Prevention Technology. Through above strategic actions with the Clean Technology, we shall strength more powerful and logical environmental pollution prevention system than those in the past. By changing the end-of-pipe treatment technology for waste water treatment and thus they mostly suffer from severe industrial water problems, there requires to be changed to the Clean Technology, that is Pollution Prevention Technology. Through above strategic actions with the Clean Technology, we shall strength more powerful and logical environmental pollution prevention system than those in the past. By changing the end-of-pipe treatment technology with physical, chemical and biological treatment methods as a mixed stream basis for treating of semiconductor waste stream into clean technology with pollution prevention technology as a waste segregation basis, we can bet 20 to 30% investment reduction as compared with end-of-pipe treatment technology.The results for water quality analysis were as follows : 1. Water quality analysis of the before treatment : pH : 9~10.5, Conductivity : $300~7,000{\mu}s/cm$, TDS : more then $3,000mg/{\ell}$, COD : $200~250mg/{\ell}$, SS : $500~600mg/{\ell}$, n-H : $8.3mg/{\ell}$ 2. Water quality analysis of the after treatment : pH : 6.5~7.5, Conductivity : 0.059, TDS : $40{\mu}s/cm$, COD : $20mg/{\ell}$, SS : $5mg/{\ell}$ n-H : $0.6mg/{\ell}$

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Struvite 결정화를 이용한 반도체 폐수처리 시 불소제거를 위한 최적 조건 (Optimum Condition for Fluoride Removal Prior to the Application of Struvite Crystallization in Treating Semiconductor Wastewater)

  • 안명기;우귀남;김진형;강민구;류홍덕;이상일
    • 한국물환경학회지
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    • 제25권6호
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    • pp.916-921
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    • 2009
  • This study was aimed to both enhance the fluoride removal and to reduce the phosphorus removal in treating semiconductor wastewater using $Ca(OH)_2$ at low pH so as to facilitate struvite crystallization reaction. The struvite crystallization could be introduced after fluoride removal by retaining the phosphorus source. As the results, the method applied in this study achieved high fluoride removal efficiency (about 91%) with retardation of phosphorus removal at pH 4, compared to conventional methods where the removal of fluoride and phosphorus were done at pH 11. Therefore, the fluoride removal at low pH would contribute to the enhancement of nitrogen and phosphorus removals in a consecutive struvite crystallization reactor. Treatment of semiconductor wastewater at low pH using $Ca(OH)_2$ also had lower (about 20%) water content of precipitated sludge compared to conventional method. As the molar ratio of Ca to F increased the removal efficiencies of fluoride and phosphorus increased. Although the amount of seed dosage didn't affect the removal of fluoride and phosphorus, its increase reduced the water content of precipitated matter. Finally, considering consecutive struvite reaction, the optimum condition for the removal of fluoride and phosphorus was as follow: pH: 4, the molar ratio of Ca:F: 1:1.

이온교환막 공정의 연구개발 전망 (Research and Development Trends of Ion Exchange Membrane Processes)

  • 이홍주;최재환;장봉준;김정훈
    • 공업화학전망
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    • 제14권6호
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    • pp.21-28
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    • 2011
  • 이온교환막을 이용한 전기적 탈염기술은 막모듈 내에 양이온교환막과 음이온교환막을 교대로 장착시키고 모듈의 양단 전극에 전압을 적용함으로써 물속에 용존되어 있는 양이온과 음이온들을 전기의 힘을 이용하여 선택적으로 투과시키는 원리를 기반으로 하는 청정공정 기술이다. 이온교환막 공정은 전통적으로 산/알칼리의 생산, 산업폐수의 중금속의 제거, 해수의 담수화, 반도체 산업의 초순수의 제조, 해수에서 식염의 제조, 발효산업의 유기산 및 아미노산의 회수 등 다양한 산업분야에서 응용되어 왔다. 최근에는 이러한 기존의 응용분야에서 벗어나 새롭게 응용분야가 넓어지고 있다. 이온교환막과 다공성 탄소전극을 결합한 막축전식 해수담수화기술, 해수와 담수의 염도차를 이용한 역전기투석식 해수발전 등의 새로운 선택분리기능 및 응용분야를 가진 이온교환막의 개발 및 공정에 관한 연구가 활발히 이루어지고 있다. 그러나 국내에서는 이온교환막이 아직 상용화되지 않고 있어 이온교환막을 이용한 응용연구가 활발하게 진행되지 못하고 있어 그 개발이 시급하다. 본 논문에서는 먼저 이온교환막을 이용한 전기투석식 탈염기술, 물분해 전기투석, 전기탈이온 공정에 관한 동향을 조사하였다. 아울러 미래의 이온교환막의 응용기술인 해수담수화기술로서 역삼투법과 경쟁하여 에너지를 낮게 소모할 것으로 예상되는 분리막을 이용한 막축전식 탈염기술과 무한한 신재생에너지원인 해수와 담수를 이용한 역전기투석 해수발전기술에 대해 기술의 원리들과 최근의 연구동향 등을 정리하였다.