• Proceedings of the KAIS Fall Conference
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• 2008.05a
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• pp.43-45
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• 2008

박막 제작공정은 반도체 제작 공정, 고정밀도의 하드디스크 및 레이저 디스크 기술, LCD/P에 DML평판 디스크 플레이어 제작 공정에 있어 중요한 기술이다. 더욱이, 이 공정은 이동 전화 커버의 증착 및 전자 차폐의 일반기술, 램프의 반사판, 화장품 용기, 몇몇 상품에 있어 카메라 렌즈의 광학 표면 코팅과 코팅 필름 제작에 사용된다. 본 연구의 주요목적은 반도체 제작 공정과 많은 산업 분야에서 기본 재료로 사용되는 전영저항의 개발에 있다. 개발 공정은 다음과 같다. 전자빔이 최상의 진공 분위기에서 텅스텐 필라멘트의 열에 의해 방출된다. 그때 전자는 높은 전압에서 가속화된다. 전자들은 반대 재료에 충돌되고, 반대편 재료는 발생 열에 의해 코팅된다. 1차년도 연구목적은 고성능 전열 저항체 개발을 위한 지름 당 필라멘트 선의 기계적 특성을 조사하고 CAE 해석을 수행하며, 2차 년도에는 대량 생산 라인 구축을 위한 자동검사 라인 개발에 초점이 맞추어져 있다. 만일, 본 연구를 통해 전열 저항체가 개발된다면, 그 제품은 고효율, 외국제품 대비 가격 경쟁력을 가지므로 제품 경쟁력을 가질 수 있을 것으로 생각된다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2003.07a
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• pp.174-175
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• 2003

안정 동위원소는 원자력, 정밀전자, 제약 및 의료 분야 등에서 다양하게 사용되고 있다(그림1 참고). 원자로의 핵반응 조절을 위해 chemical shim으로 사용되는 B-10과 low activation 내부식성 재료인 감손 아연(Zn depleted in Zn-64)은 원자력 분야에서 사용되는 대표적인 안정 동위원소이다. 정밀 전자 분야에서 low alpha lead (LAL： Pb-210이 제거된 납)는 고집적 반도체 패킹 시 soft error를 줄이는 솔더 물질로 사용되고 있고, Si-28 은 열전도도가 높은 새로운 반도체 소재로 부각되고 있다. (중략)

• Journal of the Semiconductor & Display Technology
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• v.16 no.3
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• pp.36-40
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• 2017

In this paper, a new method of laser trimming of thick film heater is studied. Various laser waves (IR, Green, UV) are used to ablation the heater and the process parameters are also presented. For given initial printed resisters, the cutting length should be prepared to obtain the target resister value in advance. Therefore, the cutting model is very important. The well-known model was tested and proven that it is valid only within a certain range of cutting length. A new model is proposed for a wide range of resister laser trimming. The cutting lengths and resister variation was obtained and formulated. To verify the presented method, the cutting lengths of each resister are calculated for various target resister value and laser trimming using UV is conducted.

• Journal of the Semiconductor & Display Technology
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• v.20 no.3
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• pp.77-82
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• 2021

This numerical study focuses on the analysis of fume particle dispersion characteristics over the surface of target workpiece in laser micro-hole machining process. The effects of oblique stagnation flow over fume generating machining point are examined by carrying out a series of three-dimensional random particle simulations along with probabilistic particle generation model and particle drag correlation of low Reynolds number. Present computational model of fume particle dispersion is found to be capable of assessing and quantifying the fume particle contamination in precision hole machining which may influenced by different types of air flow patterns and their flow intensity. The particle size dependence on dispersion distance of fume particles from laser machining point is significant and the effects of increasing flow oblique angle are shown quite differently when slot blowing or slot suction flows are applied in micro-hole machining.

• Journal of the Semiconductor & Display Technology
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• v.21 no.2
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• pp.1-6
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• 2022

This computational investigation of micro-sized particle dispersion concerns the fume particle contamination over target surface in high-precision laser line machining process of semiconductor and display device materials. Employing the random sampling based on probabilistic fume particle generation distributions, the effects of sphericity for nonspherical fume particles are analyzed for the fume particle dispersion and contamination near the laser machining line. The drag coefficient correlation for nonspherical particles in a low Reynolds number regime is selected and utilized for particle trajectory simulations after drag model validation. When compared to the corresponding results by the assumption of spherical fume particles, the sphericity of nonspherical fume particles show much less dispersion and contamination characteristics and it also significantly affects the particle removal rate in a suction air flow patterns.

• Journal of the Semiconductor & Display Technology
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• v.22 no.4
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• pp.1-6
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• 2023

In CO₂ laser surface machining of plastic films in modern display manufacturing, scattering of fume particles could be a major source of well-recognized film surface contamination. This computational fluid dynamics research investigates the suction air flow patterns over a film surface as well as the dispersion of micron-sized fume particles with low-Reynolds number particle drag model. The numerical results show the recirculatory flow patterns near laser machining point on film surface and also over the surface of vertical suction slot, which may hinder the efficient removal of fume particles from film surface. The dispersion characteristics of fume particles with various particle size have been tested systematically under different levels of suction flow intensity. It is found that suction removal efficiency of fume particles heavily depends on the particle size in highly nonlinear manners and a higher degree of suction does not always results in more efficient particle removal.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.11 no.6
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• pp.400-404
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• 2000

All-optical clock recovery from a 10 Gb/s RZ signal has been demonstrated using an actively mode-locked figure-eight laser incorporating a semiconductor optical amplifier in the loop-mirror scheme. Optical pulses with 10 ps pulse width were modulated by a LiNb03 external modulator at $2^{23}-1$ PRES and injected into the clock recovery circuit to extract optical pulses with 12 ps width. Regeneration of the original bit pattern has been accomplished by modulating the recovered clock with the same modulator, and no power penalty was observed at $10^{11}$..

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2002.07a
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• pp.156-157
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• 2002

광 집적회로를 구현하기 위한 목적의 구성요소들로서 자기 광학적 효과를 이용한 아이솔레이터(isolator), 서큘레이터(circulator)등과 같은 소자들의 새로운 대안이 제시되고 있다. 현재 기존의 체적 아이솔레이터(bulk isolator)들이 마이크로 시스템에서 사용되고는 있으나 실용적인 해결점은 아닐 것이다. gyrotropic 도파로들의 광학적 TM 모드의 비가역적 위상변위(nonreciprocal phase shift)를 이용하는 경우 반도체 레이저를 광원으로 이용할 때 반사되어져 오는 광으로부터 레이저를 보호할 수 있는 광 아이솔레이터의 구현이 가능할 수 있다. 광통신에 사용되는 파장은 1.3$\mu$m 와 $1.5\mu$m에서 발달되어져 있다. (중략)

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2002.07a
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• pp.150-151
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• 2002

파장 분할 다중화(Wavelength division multiplexing ： WDM) 광전송 장치의 용량확대를 위한 방안으로 여러 가지 방법들이 연구 개발되고 있으며, 최근 들어 테라 급(Tb/s) 광전송 연구 결과들이 발표되고 있다. 이러한 장거리 광전송 장치의 광송신기는 LiNbO$_3$ 마하-젠더(Mach-Zehnder) 간섭계형 외부 변조기를 주로 사용하고 있다. 한편 반도체 레이저 집적된 전계 흡수형 변조기(Electro-absorption modulator integrated laser ： EML)를 이용한 외부 변조 방식 적용을 위해서 여러 연구소 및 기업체에서는 40Gb/s의 성능을 지닌 EML의 개발 결과들을 발표하고 있다. (중략)

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.4 no.2
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• pp.157-161
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• 1993

An optical autofocus system for a DUV KrF excimer laser wafer stepper was developed by using the PSD (Position Sensitive Detector) as the position sensor. The laser beam was incident on the surface of wafer and the reflected beam was magnified optically by a lens. And the beam was directed onto the surface of PSD by a mirror system. The spatial resolution of the autofocus system was found to be $0.03{\mu}m$.