• 제목/요약/키워드: 박막 밀도

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펄스레이저 입사수에 따른 $YBa_2Cu_3O_{7-x}$박막의 표면입자밀도 변화 (Effect of Laser Shot Number on the Surface Particle Density of $YBa_2Cu_3O_{7-x}$ Thin Films by Pulsed Laser Deposition)

  • 서정대;성건용
    • 한국세라믹학회지
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    • 제31권3호
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    • pp.312-320
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    • 1994
  • Effect of the laser shot number on the particulates density of the pulsed laser deposited YBa2Cu3O7-x thin films and the laser irradiated surface morphology of the YBa2Cu3O7-x bulk target have been investigated. Until 100 laser shots of cumulative irradiation, the films has the particulates density of ~103 mm-2. However, after 100 laser shots, the density was increased more than 10 times. This results has been explained by the change of particulate ejection path with the development of conical structure at the target surface.

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EFFECTS OF Nb ON MAGNETIC AND MICROSTRUCTURAL PROPERTIES OF FePt ALLOY FILMS

  • Kim, Min-Kyu;Kim, Young-Keun;Lee, Seong-Rae
    • 한국자기학회:학술대회 개요집
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    • 한국자기학회 2002년도 동계연구발표회 논문개요집
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    • pp.176-177
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    • 2002
  • Ll$_{0}$ 규칙 구조를 가지는 동일조성의 FePt는 높은 결정자기이방성에너지로 인해 차세대 고밀도 자기기록매체 재료로서 현재 활발히 연구가 진행되고 있다. 100 Gbit/in$^2$를 목적으로 할 때 결정립의 크기는 10nm 이하가 되어야 한다. [1] 더 나아가 향후 1Tb/in$^2$의 초고기록밀도를 가지는 미디어 재료로서 열적 안정성을 극복하기 위한 측면에서 이용될 수 있다.[2] 이러한 Ll$_{0}$ 규칙 구조를 얻기 위해서 증착된 FePt 합금 박막을 50$0^{\circ}C$이상에서 열처리를 하여야 한다.(중략)

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고정밀 저항용 질화탄탈 박막의 특성 (Characteristic of Tantalum Nitride Thin-films for High Precision Resistors)

  • 최성규;나경일;남효덕;정귀상
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.537-540
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    • 2001
  • This paper presents the characteristics of Ta-N thin-(ibm for high precision resistors, which were deposited oni substrate by DC reactive magnetorn sputtering in an argon-nitrogen atmosphere(Ar-(4∼16%)N$_2$). Sturcutural properties sutided using X-ray diffraction (XRD) indicate the presence of TaN, Ta$_3$N$\sub$5/ or a mixture of Ta-N phases in the films depending on the amount of nitrogen in the sputtering gas. The chemical composition are investigated by auger electro spectroscopy(AES). The optimized conditions of Ta-N thin-film resistors were deposited in 4 % N$_2$ gas flow ratio. Under optimum conditions, the Ta-N thin-film resistors are obtained a high resistivity, $\rho$=305.7 ${\mu}$Ωcm, a low temperature coefficient of resistance, TCR=-36 ppm/$^{\circ}C$.

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Selenium박막의 광학적 특성연구 (A study on the optical characteristics of selenium thin film)

  • 허창수;오영주
    • E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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    • 제9권1호
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    • pp.44-50
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    • 1996
  • In this study, Selenium device was fabricated by vacuum evaporation method with the substrate temperature at room temperature and its electrical and optical properties were investigated to be used in optical device. The film properties largely depended on the transmittance and annealing time, and improved with aging owing to stress release. We found that the photocurrent of the films increase linearly with light illumination. As a result, Selenium device made by this method yielded a short circuit current density of 10.5mA/$\textrm{cm}^2$, an open circuit voltage of 39OmV.

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열처리효과에 따른 저밀도 폴리에틸렌 박막의 유전특성 (The Dielectric Characteristics of Low Density Polyethylene Film due to Thermal Treatment Effect)

  • 김왕곤;가출현;이용우;홍진웅
    • 한국안전학회지
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    • 제11권1호
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    • pp.67-74
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    • 1996
  • In order to investigate the effect and reliability coming up to properties of the matter due to the change of solid structure in dielectrics, the effect of dielectric characteristics for thermal treated LDPE film was made researches. Specimens of LDPE with thickness 100 [$\mu\textrm{m}$] were investigated into the change of solid structure by ageing. Thermal treated specimen were made, that were after applying heat at 100 [$^{\circ}C$] for 1 [hour] \circled1 air-cooled specimen slowly, \circled2 water-cooled specimen under the ,com temperature, \circled3 liquid nitrogen gas-cooled specimen rapidly. With specimen of thermal treated three types turn out and original, it was for dielectric characteristics to be experimented in the temperature range of 20~120 [$^{\circ}C$], frequency range of 30~1.5${\times}10^5/$[Hz], appling voltage from 300 to 1500[㎷]. Consequently, the degree of crystallinity was changed with 49~57 [%] according to the thermal treatment. In case of frequency, 100 [Hz], on the thermal dependance in dielectric characteristics, tan decreases due to cooling method.

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온도에 따른 펄스 전해도금 구리박막의 물성변화 (The Effects of Temperature on Mechanical Properties in Pulse-Electrodeposited Cu Thin Film)

  • 박상우;서성호;진상현;왕건;유봉영
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2015년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.55-55
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    • 2015
  • 오늘날 전해동박은 리튬이온전지의 집전체, PCB, FPCB등의 핵심부품으로써, 산업 전반에 걸쳐 널리 사용되고 있다. 그러나 전자 회로의 미세화로 인한 열 발생, 낮은 강도에 의한 신뢰성 하락 등이 문제가 되고 있는 실정이다. 구리에 나노 쌍정을 높은 밀도로 형성하게 되면, 전기 저항의 변화 없이 기계적 강도를 높이는데 도움이 된다. 특히 펄스 전해증착에서는 높은 전류밀도가 인가되기 때문에 고밀도의 나노쌍정을 얻을 수 있다는 점이 여러 논문에서 보고되었다. 이번 연구에서는 펄스도금 조건에서 온도 조건의 변화를 통해 강도가 향상됨을 알 수 있었다.

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질소와 탄소 함량이 티타늄 화합물의 색상 변화에 미치는 영향 (Effects of $N_2$ and C contents on color changes of Ti Composites)

  • 장승현;이영민;정재인;양지훈;박영희;이경황;임태균
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2009년도 추계학술대회 초록집
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    • pp.169-169
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    • 2009
  • 티타늄 화합물은 뛰어난 물리적 특성과 인체 무해성을 가지고 있어 생체, 내식 및 내마모 재료 등에 널리 응용되고 있으며, 비교적 공정이 단순하고 공정 변수 조절이 용이한 스퍼터링법으로 밀도가 높고 공극이 없는 박막을 만들 수 있다. 티타늄 화합물은 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 합성하였고, 소량의 질소와 메탄 가스의 유량 조절을 통해 화합물의 조성을 변화시켜 색을 경향성 있게 변화 시켰다.

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MFS 구조로 적층된 Yttrium Manganates의 기판 변화에 따른 특성 연구 (Properties of Yttrium Manganates with MFS Structure Fabricated on Various Substates)

  • 강승구
    • 한국세라믹학회지
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    • 제40권2호
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    • pp.206-211
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    • 2003
  • Sol-gel 공정으로 제조된 YMnO$_3$박막의 결정상과 강유전특성에 미치는 기판종류와 버퍼층의 영향에 대하여 고찰하였다. Si(1OO) 기판위에는 hexagonal YMnO$_3$이 형성되었으나 Pt(111)/TiO$_2$/SiO$_2$/Si 기판위에는 hexagonal과 orthorhombic YMnO$_3$이 함께 형성되었다. 기판위에 미리 $Y_2$O$_3$버퍼층을 형성시킨 경우에는 Si(100)와 Pt(111)/TiO$_2$/SiO$_2$/Si 두가지 기판 모두 단일 hexagonal YMnO$_3$이 성장하였으며, 특히 c-축 배향성이 향상되었다. 박막내에 hexagonal과 orthorhombic YMnO$_3$이 혼재된 시편보다는 hexagonal 단일상이 형성된 시편이, 또한 단일상 시편중에서도 c-축 우선배향성이 좋은 시편이 그렇지 않은 시편에 비해 누설전류밀도 특성이 우수하였다. YMnO$_3$박막의 잔류분극값은 Si(100)기판을 사용했을 경우, 버퍼층 없이 제조된 시편은 0.14, 버퍼층이 삽입된 시편은 0.24$\mu$C/$ extrm{cm}^2$의 값을 나타내었다 한편 Pt(111)/TiO$_2$/SiO$_2$/Si 기판의 경우, 버퍼층 없이 형성된 YMnO$_3$시편은 이력곡선을 보여주지 못하였고, 버퍼층이 삽입된 시편은 1.14$\mu$C/$\textrm{cm}^2$의 잔류분극값을 나타내었다. 이상의 연구를 통하여 기판의 종류와 $Y_2$O$_3$버퍼층 삽입으로 YMnO$_3$박막의 결정상과 배향성을 제어함으로서 박막시편의 누설전류밀도 특성 및 강유전특성을 제어할 수 있음을 확인하였다.

청색과 녹색 GaN계 LED 및 LD소자를 이용한 자발 발광 시 효율 감소 현상에 대한 연구

  • 정규재;이재환;한상현;이성남
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.311-311
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    • 2014
  • III-N계 물질로 이루어진 GaN 기반의 광 반도체는 직접 천이형 넓은 밴드갭 구조를 갖고 있기 때문에 적외선부터 가시광선 및 자외선까지를 포함한 폭 넓은 발광파장 조절이 가능하여 조명 및 디스플레이 관련 차세대 광원으로 많은 관심을 받고 있다. 하지만, GaN기반의 발광 다이오드는 많은 연구기관들의 오랜 연구에도 불구하고 고출력을 내는데 있어 여전히 많은 문제들이 존재한다. 그 중, 주입전류 증가에 따른 효율감소 현상은 출력을 저해하는 대표적인 요소로 알려져 있는데, 이전의 연구 결과에서 알려진 효율감소 현상의 원인으로 결정결함에 의한 누설전류, Auger 재결합, 이송자 넘침 현상 그리고 p-n접합부의 온도 상승 등의 현상이 알려져 있다 [1-2]. 하지만 여전히 주입 전류 증가에 따른 효율 감소 현상의 원인에 대해 명확한 해답은 없으며 아직도 많은 논의가 이루어 지고 있다. 따라서, 본 연구에서는 GaN기반의 청색 및 녹색 LD와 LED소자를 이용하여 주입전류 밀도의 변화에 따른 자발 발광 영역에서의 효율감소 현상의 원인을 규명하고 한다. 유기금속화학증착법(MOCVD)를 이용하여 c면 사파이어 위에 서로 다른 발광파장을 가지는 InGaN/GaN 다중양자우물구조의 질화물계 LED와 LD 박막을 제작하였으며 성장 구조에 의한 특성으로 인해 발생하는 효율 저하 현상을 방지하고자 InGaN/GaN으로 이루어진 다중양자우물층의 조성만 제어하여 청색과 녹색으로 발광하도록 하였다. 청색 및 녹색 LD 웨이퍼들을 이용하여 주입전류 증가에 따른 발광특성을 조사하기 위해 LD와 LED는 표준 팹 공정에 의해 제작되었다. 전계 발광 측정을 위해 상온에서 직류 전류를 주입하여 GaN계 청색 및 녹색 LED와 LD에 각 5 mA/cm2에서 50 mA/cm2까지 전류밀도를 증가시킴에 따라 LD 및 LED칩 형태에 상관없이 청색 LD와 LED의 파장은 약 465nm에서 약 458nm로 감소하였고 녹색 LD와 LED의 파장은 약 521nm에서 약 511~513 nm까지 단파장화가 발생했다. 이는 동일한 웨이퍼에 동일한 전류 밀도를 주입하였기 때문에 발생하는 것으로 판단된다. 그러나, 청색 LED의 효율은 50 mA/cm2에서 약 70%정도로 감소하고 반면 녹색 LED의 경우 동일한 전류밀도 하에 약 52%정도로 감소하였지만, 청색과 녹색 LD의 경우 동일한 전류 밀도의 범위 내에서 더욱 낮은 효율저하 현상을 나타내었다. 또한, 접합 온도를 측정한 바 청색소자가 녹색 소자에 비하여 낮은 접합 온도를 나타낼 뿐아니라, 청색 및 녹색 LD의 경우 LED 보다 낮은 접합 온도를 나타내고 있었다. 이는 InGaN 활성층의 In 조성이 증가할수록 비발광 센터에 의한 접합온도 상승 뿐 아니라, LD ridge 구조에서 더 많은 열이 방출되어 접합 온도가 감소될 수 있는 것으로 판단된다. 우리는 동일한 웨이퍼에 LED와 LD를 제작하였고, 동일한 전류 주입밀도를 인가하였기 때문에 LD와 LED의 효율 감소 현상의 차이는 이송자 넘침 현상, 결정 결함, 오제 재결합 등이 원인보다 활성층의 접합 온도 상승이 가장 큰 영향이 될 수 있을 것으로 판단된다.

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저밀도 실리카 중공미세구 표면에 Co 박막의 코팅에 의한 경량 전파흡수체 제조 (Fabrication of Lightweight Microwave Absorbers with Co-coated Hollow Silica Microspheres)

  • 김선태;김성수;안준모;김근홍
    • 한국자기학회지
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    • 제15권2호
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    • pp.67-75
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    • 2005
  • 경량 전파흡수체 구현 방안의 하나로 저밀도(약 0.2g/cc) 중공미세구 표면에 수 ${\cal}um$ 두께의 Co 피막을 무전해 도금에 의해 코팅하고, 고주파 전자기 특성 및 전파흡수특성을 조사하였다. Co 도금은 활성화 처리와 도금공정 2단계 과정을 거쳐 시행되었다. 도금공정의 반복에 의해 두께 $2{\~}3\mu$m의 균일한 Co 피막을 얻을 수 있었다. 이 분말을 실리콘 고무와 혼합하여 복합체를 제조하고, 고주파 전자기 물성 및 전파흡수특성을 회로망 분석기로 측정하였다. Co 피막의 강자성 특성 및 전도 특성에 의해 높은 자기손실 및 유전상수를 얻을 수 있었다. 이와 같은 전자기적 특성에 의해 GHz 대역에서 우수한 전파흡수특성(두께 2.0$\~$2.5mm, 전파흡수능 20dB 이상)이 확인되었다. 특히 Co 도금 중공미세구의 밀도(0.84 g/cc)는 페라이트(5.0 g/cc)에 비해 약 1/6에 불과하기 때문에 경량 전파흡수체로서 응용가치가 매우 높음을 제시할 수 있었다.