• Title/Summary/Keyword: 바늘형 전극

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Comparison of Plasma Jets between Two Electrode-Structures of Cylindrical Needle and Cup

  • Jeong, Jong-Yun;Han, Sang-Ho;Kim, Dong-Jun;Kim, Jeong-Hyeon;Kim, Yun-Jung;Kim, Jung-Gil;Jo, Gwang-Seop
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.228-228
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    • 2011
  • 바늘형 전극과 컵형 전극을 사용한 대기압 플라즈마 제트 장치의 플라즈마 분출 특성을 조사한다. 바늘형 전극은 원통형 주사기 바늘을 사용하였다. 컵형 전극은 냉음극 형광 램프의 전극을 사용하였다. 방전 가스는 Ar을 사용하고 가스의 유량은 3 lpm이다. 구동 전원은 DC-AC 인버터를 사용하고 구동 주파수는 40 kHz이다. 방전 전압-전류 특성과 전류별 플라즈마 방출 길이를 측정한 결과, 원통형 바늘보다 컵형 전극이 방전 개시 전압이 낮았으며 동일 전류에서 플라즈마 방출 길이가 더 길다.

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Characteristics of Plasma Plume with a Cylindrical Syringe Plasma Jet Device (원통형 바늘 구조의 플라즈마 제트 방출 특성)

  • Lim, H.K.;Jin, D.J.;Kim, J.H.;Han, S.H.;Cho, G.S.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.20 no.1
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    • pp.14-21
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    • 2011
  • The plasma emission characteristics are investigated in cylindrical syringe plasma jet device. Cylindrical syringe electrode is applied AC power using inverter. In the center of syringe is injected into a inert gas and plasma jet occurs. If there is no ground electrode, firing voltage is 3 kV and plasma column length is 10 mm. According to high firing voltage and large current, the plasma column length control is difficult. The case of an internal ground electrode, firing voltage is 1 kV. Because of the losing current from internal ground, even if a higher input voltage, plasma emission does not occur. The case of an external ground electrode, the plasma column can be controlled between 0~10 mm with change the applied voltage from 1 to 2 kV, and the discharging current changed from 1 to 4 mA.

대기압 저온 아르곤 플라즈마 제트의 분광 분석

  • Han, Guk-Hui;Kim, Yun-Jung;Kim, Jung-Gil;Kim, Yeon-Jeong;Jo, Hyeon;Jo, Gwang-Seop
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.191-191
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    • 2016
  • 대기압 저온 Ar 플라즈마 제트에서 발생되는 플라즈마에 대해 연구하였다. 플라즈마 제트의 본체는 주사기 바늘, 유리관 그리고 테프론 튜브로 구성되어 있다. 바늘의 앞부분은 유리관에 삽입되어 있으며 바늘의 뒷부분은 테프론 튜브와 연결되어 있다. 주사기 바늘에는 수십 kHz의 사인파를 발생시키는 DC-AC 인버터로 수 kV의 고전압을 인가해준다. 기체는 테프론 튜브를 통해 바늘의 안쪽으로 흐른다. 사용 기체는 Ar이며 유량은 3 lpm이다. 주사기 바늘형 전극의 내경은 1.3 mm, 외경은 1.8 mm, 총 길이는 39.0 mm이며 재질은 스테인레스강이다. 유리관의 내경은 2.0 mm, 외경은 2.4 mm, 총 길이는 80.0 mm이다. 자외선-근적외선 분광계를 이용하여 대기압 저온 Ar 플라즈마 제트에서 발생된 플라즈마의 분광 분석을 하였다. 플라즈마 제트에서 발생되는 플라즈마의 휘도는 대략 $10{\sim}30cd/m^2$이다. 플라즈마의 측정 위치, 플라즈마 제트의 입력 전압과 입력 전류, 기체 종류 등의 변수에 따른 분광 실험을 하였으며 이를 통해 얻은 분광 데이터를 일반적인 볼츠만 기울기법에 대입하여 플라즈마의 들뜸 온도를 측정하였다. 또한 Ar 플라즈마 제트의 분광 데이터를 수정된 볼츠만 기울기법에 대입하여 플라즈마의 전자 온도를 측정하였다. 이는 바이오-의료용 플라즈마 및 플라즈마 공정 등의 다양한 응용 분야에서 유용하게 활용할 수 있을 것이다.

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Capacitor 값에 따른 Plasma Jet의 전류 특성

  • Lee, Min-Gyeong;Jeong, Jong-Yun;Kim, Yun-Jung;Han, Guk-Hui;Gang, Han-Rim;Kim, Jung-Gil;Kim, Jeong-Hyeon;Han, Sang-Ho;Jo, Gwang-Seop
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.334-334
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    • 2011
  • 본 연구는 바늘 형 전극을 가진 대기압 방전 Plasma jet에서 Capacitor 값의 변화를 주어 방전 전압-전류 특성을 찾고자 한다. 유리관 내부의 주사기 바늘에 교류 고전압을 인가하였고, inverter와 고전압 전극 사이에 5.0 pF, 7.5 pF, 13.5 pF, 27.0 pF 다섯 가지의 Capacitor를 연결하였다. 작은 Capacitor 값을 연결했을 때, 방전 개시 전압이 낮았다. 또한, 같은 구조의 Plasma jet를 알루미늄 판에 조사하여 전압과 전류의 변화를 알아보았다. 유리관 밖으로 방출되는 플라즈마 제트를 알루미늄 판에 조사했을 때, Output Voltage와 Output Current가 감소하는 경향을 보였다.

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초음파화학가공을 이용한 미세봉의 제작에 관한 연구

  • 윤재웅;양민양
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 1990.04a
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    • pp.53-61
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    • 1990
  • 미세봉(Fine Rod) 혹은 매우 가는 바늘등의 미세가공은 전자산업계나 공구의 제작등에 있어서 최근 수요가 점차 증가하고 있다. 예를 들면 잉크젯 프린터 헤드의 대량생산에 필요한 펀치나 이온빔장치의 에미터전극(Emitter Electrode)등은 지름이 100 .mu. m이하이며, 방전가공을 이용 하여 미세구멍을 가공할 때 지름 수십마이크로미터인 전극의 가공은 문제가 되고 있다. 본 연구 에서는 미세봉의 제작을 위해 초음파화학가공(Ultrsonic-Assisted Chemical Machining)이라는 새로운 방법을 제시하였으며, 원통형의 가공물을 제작할 경우, 화학가공에 대한 기본적인 이론을 소개하고 그에 대한 실험을 수행한 후 그 결과에 대해 기술하였다.

Ar/N2 혼합가스 비율에 따른 대기압 저온 플라즈마제트의 플라즈마 전파 속도 및 전자 온도 조사

  • Han, Guk-Hui;Kim, Yun-Jung;Jin, Se-Hwan;Kim, Hyeon-Cheol;Suanpoot, Pradoong;Jo, Gwang-Seop
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.247.2-247.2
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    • 2014
  • 플라즈마 전파 속도와 전자 온도를 조사하기 위해 ICCD카메라(Intensified Charge-Coupled Device Camera, 이하 ICCD)를 이용하여 대기압 저온 플라즈마제트의 방전 이미지를 촬영하였다. 사용된 플라즈마 제트 장치는 유리관 안에 주사기 바늘형 전극이 들어있는 형태이다. 전극의 내경은 1.3 mm, 외경은 1.8 mm, 총 길이는 39.0 mm이며 재질은 스테인레스강이다. 유리관의 내경은 2.0 mm, 외경은 2.4 mm, 총 길이는 80.0 mm이다. 입력 전압은 3.0 kV이며 구동 주파수는 40 kHz이다. 아르곤과 질소의 혼합가스 비율은 각각 100:1, 98:2, 95:5을 사용하였으며 총 가스유량은 400 sccm이다. 각각의 비율별로 군속도는 267 km/s, 305 km/s, 313 km/s이며 이온 음향 속도는 1.16 km/s, 1.24 km/s, 1.25 km/s이고, 전자 온도는 0.55 eV, 0.63 eV, 0.65 eV로 관찰되었다.

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플라즈마 이온 식각 공정을 이용한 피라미드 구조의 결정질 실리콘 태양전지 텍스쳐링

  • Jo, Jun-Hwan;Gong, Dae-Yeong;Seo, Chang-Taek;Yun, Seong-Ho;Jo, Chan-Seop;Kim, Bong-Hwan;Lee, Jong-Hyeon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.373-375
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    • 2011
  • 최근 태양전지 연구에서 저가격화를 실현하는 방법 중 하나로 폐 실리콘 웨이퍼를 재생하는 방법에 관하여 많은 연구가 진행되고 있다. 그러나 기존 웨이퍼 재생공정은 높은 재처리 비용과 복잡한 공정등의 많은 단점을 가지고 있다. 결정형 태양전지에서 저가격화 및 고효율은 태양전지를 제작하는데 있어 필수 요소 이다. 그 중 결정질 태양전지 고효율을 위한 여러 연구 방법 중 표면 텍스쳐링(texturing)에 관한 연구가 활발하다. 텍스쳐링은 표면반사에 의한 광 손실을 최소화 하여 효율을 증가시키기 위한 방법으로 습식 식각과 건식 식각을 사용하여 태양전지 표면 위에 요철 및 피라미드구조를 형성하여 반사율을 최소화 시킨다. 건식식각은 습식식각과 다른 환경적 오염이 적은 것과 소량의 가스만으로 표면 텍스쳐링이 가능하여 많은 연구가 진행중이다. 건식 식각 중 하나인 RIE(reactive ion etching)는 고주파를 이용하여 플라즈마의 이온과 silicon을 반응 시킨다. 실험은 RIE를 이용하여 SF6/02가스를 혼합하여 비등방성 에칭 및 피라미드 구조를 구현하였다. RIE 공정 중 SF6/02가스는 높은 식각 율을 갖으며 self-masking mechanism을 통해 표면이 검게 변화되고 반사율이 감소하게 된다. 이 과정을 통해 블랙 실리콘을 형성하게 된다. 블랙 실리콘은 반사율 10% 이하로 self-masking mechanism으로 바늘모양의 구조를 형성되는 게 특징이며 표면이 검은색으로 반사율이 낮아 효율증가로 예상되지만 실제 바늘 모양의 블랙 실리콘은 태양전지 제작에 있어 후속 공정 인 전극 형성 시 Ag Paste의 사이즈와 표면 구조를 감안할 때 태양 전지 제작 시 Series resistance를 증가로 효율 저하를 가져온다. 본 연구는 SF6/02가스를 혼합하여 기존 RIE로 형성된 바늘모양의 구조의 블랙 실리콘이 아닌 RIE 내부에 metal-mesh를 장착하여 단결정(100)실리콘 웨이퍼 표면을 텍스쳐링 하였고 SF6/02 가스 1:1 비율로 공정을 진행 하였다. metal-mesh 홀의 크기는 100um로 RIE 내부에 장착하여 공정 시간 및 Pressure를 변경하여 실험을 진행하였다. 공정 시간이 변경됨에 따라 단결정(100) 실리콘 웨이퍼 표면에 피라미드 구조의 균일한 1um 크기의 블랙 실리콘을 구현하였다. 바늘모양의 블랙 실리콘을 피라미드 구조로 구현함으로써 바늘 모양의 단점을 보완하여 태양전지 전기적 특성을 분석하여 태양전지 제작시 변환 효율을 증가시킬 것으로 예상된다.

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Plasma Jet with Small Hole Muzzle

  • Kim, Yun-Jung;Jeong, Jong-Yun;Kim, Jeong-Hyeon;Kim, Dong-Jun;Han, Sang-Ho;Gang, Han-Rim;Jo, Gwang-Seop
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.230-230
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    • 2011
  • 대기압 플라즈마 제트 장치의 분출구 크기에 따른 플라즈마 분출 특성을 조사한다. 플라즈마가 분출되는 홀 모양의 방전관 출구의 직경 0.2, 0.5, 0.7, 1.0 mm에 대하여 비교 실험하였다. 플라즈마 제트 장치는 원통형 바늘 전극을 유리관 속에 삽입하고, 가스가 주입되는 형태이이다. 방전 가스는 Ar을 사용했으며 유량은 5 lpm이다. DC-AC 인버터를 사용하여 주파수 45 kHz 수 kV의 고전압을 인가하여 플라즈마 제트 장비를 구동한다. 직경이 작을수록 방출되는 플라즈마가 가늘고 방전 전압이 낮다. 직경이 작을수록 분출량 미세 조절이 용이하고 또한 낮은 방전 전압으로 인체 실험에 적용하는 경우에 전기적 충격이 적을 것으로 예상된다.

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Observation and Characteristics of Ozonizer using Injection Needle Electrode (주사바늘 전극형 오존발생기 특성 연구)

  • Park, Hyun-Mi;Kwon, Young-Hak;Park, Won-Zoo
    • Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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    • v.29 no.12
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    • pp.77-82
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    • 2015
  • Ozone is a powerful disinfectant and oxidizing agent, and it is used in a wide range of applications, such as waste water treatment, food processing, etc.. There is also a great potential of using ozone in new emerging medical applications, such as ozone dentistry and ozone oxygen therapy. For these purposes, simple, small, compact and efficient sources of ozone are needed. In this study, in order to increase the current-voltage range of the discharge and to avoid the overheating of the gas in the ozonizer we suggested ozonizer of injection needle and plate electrode type(INP Type) with the gas through the needle. A ozonizer of INP type have been investigated by focusing on ozone concentration and yield according to flow rates and Gap of two electrodes. The results of studies of ozone production for DC corona discharge in oxygen at atmospheric pressure about the ozonizer of INP type. The ozone concentration and the generation yield increased as the gap of two electrodes and gas flow were decreased. Also, when the gap of two electrodes and gas flow with no change, the ozone concentration and generation yield each have variation of direct proportion and inverse proportion with discharge voltage.

RIE기반 저결함 결정질실리콘 표면 Texturing패턴 연구

  • Jeong, Ji-Hui;Yun, Gyeong-Sik;Lee, Byeong-Chan;Park, Gwang-Muk;Lee, Myeong-Bok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.283-283
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    • 2010
  • 17~18% 대역의 고효율 결정질실리콘 태양전지를 양산하기 위하여 국내외에서 다양한 연구개발이 수행되고 있으며 국내 다결정실리콘 태양전지 양산에서도 새로운 구조와 개념에 입각한 공정기술과 관련 장비의 국산화에 집중적인 투자를 진행하고 있다. 주지하는 바와 같이, 태양전지의 광전효율은 표면에 입사되는 태양광의 반사를 제외하면 흡수된 광자에 의해 생성되는 전자-정공쌍의 상대적인 비율인 내부양자효율에 의존하게 된다. 실제 생성된 전자-정공쌍은 기판재료의 결정상태와 전기광학적 물성 등에 의해 일부가 재결합되어 2차적인 광자의 생성이나 열로서 작용하고 최종적으로 전자와 정공이 완전히 분리되고 전극에 포집되어 실질적인 유효전류로 작용한다. 16% 이상의 고효율 결정질 실리콘 태양전지 양산이 요구되고 있는 현실에서 광전효율 개선 위해 가장 우선적으로 고려되어야 할 변수는 입력 태양광스펙트럼에 대한 결정질 실리콘 표면반사율을 최소화하여 광흡수를 극대화하는 것이라 할 수 있다. 현재까지 다결정 실리콘 표면을 화학적으로 혹은 플라즈마이온으로 50-100nm 직경의 바늘형 피라미드형상으로 texturing 함으로 단파장대역에서 광반사율의 감소를 기대할 수 있기 때문에 결정질실리콘 태양전지효율 개선에 긍정적인 영향을 미치는 것으로 알려져 있다. 고효율 다결정실리콘 태양전지 양산공정에 적용하기 위해 마스크를 사용하지 않는, RIE기반 건식 저반사율 결정질실리콘 표면 texturing 패턴연구를 수행하였다. 마스크없이 표면 texturing이 완료된 시료들에 대하여 A1.5G 표준태양광스펙트럼의 300-1100nm 파장대역에서 반사율과 minority carrier들의 life time 분포를 측정하고 검토하여 공정조건을 최적화 하였다. 저반사율의 건식 결정질실리콘 표면 texturing에 가장 적합한 플라즈마파워는 100W 내외로 낮았고 $SF_6/O_2$ 혼합비율은 0.8~0.9 범위엿다. 본 연구에서 확인된 최적의 texturing을 위한 플라즈마공정 조건은 이온에 의한 Si표면원자들의 스퍼터링과 화학반응에 의한 증착이 교차하는 상태로서 확인된 최저 평균반사율은 ~14% 내외였고 p-형 결정질실리콘 표면 texturing 패턴과 minority carrier의 life time 상관는 단결정이 16uS대역에서 14uS대역으로 감소하는 반면에서 다결정은 1.6uS대역에서 1.7uS대역으로 오히려 미세한 증가를 보여 다결정 웨이퍼생산과정에서 발생하는 saw-damage 제거의 긍정적 효과와 texturing공정의 표면 결함발생에 의한 부정적 효과가 상쇄되어 큰 변화를 보이지 않는 것으로 해석된다.

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