팔라듐 합금 복합막의 제조는 니켈 분말과 무기화합물의 혼합물로 개질된 튜브형 다공성 스테인레스 스틸 지지체 표면 위에 무전해 도금법(elctroless plating technique)에 의해 팔라듐 - 니켈 - 은을 박막으로 도금하는 형태로 이루어졌다. 일반적인 다공성 금속 지지체는 기공이 크기 때문에 그 자체로서 도금에 적합한 지지층이 되기가 어렵고, 결함이 없는 팔라듐 복합막의 제조가 쉽지 않아 본 연구에서는 금속 지지체와 팔라듐 사이에 중간층(intermediate layer)을 형성하여 이와 같은 문제점을 극복하고자 하였다. 중간층의 소재인 실리카 졸, 알루미나 졸, 이산화티타늄 졸 등의 무기화합물과 니켈 분말의 혼합물로 다공성 금속 지지체 위에 코팅하여 박막을 형성하고 제조 조건에 따른 질소 투과도를 측정하고 비교하였다. SEM 분석법에 의해 니켈과 무기화합물 혼합물의 표면층의 형성 모습도 측정하였다. 제조된 중간층 가운데 이산화티타늄 졸과 니켈의 혼합물이 가장 낮은 질소 투과도와 치밀한 표면층을 나타내었다. 최종적으로 니켈과 실리카의 혼합 중간층으로 이루어진 팔라듐-니켈-은 합금 복합막을 제조하고 수소와 질소의 투과도를 측정하였다. 1기압 이하에서 질소에 대한 수소 선택도는 무한대였으며 수소투과 속도는 1 기압, $500^{\circ}C$에서 $1.39{\times}10^{-2}mol/m^2{\cdot}s$의 값을 나타냈다.
A 110 mm diameter aspheric metal secondary mirror for a test model of an earth observation satellite camera was fabricated by ultra-precision single point diamond turning (SPDT). Aluminum alloy for mirror substrates is known to be easily machinable, but not polishable due to its ductility. A harder material, Ni, is usually electrolessly coated on an Al substrate to increase the surface hardness for optical polishing. Aspheric metal secondary mirror without a conventional polishing process, the surface roughness of Ra=10nm, and the form error of $Ra={\lambda}/12({\lambda}=632nm)$ has been required. The purpose of this research is to find the optimum machining conditions for reflector cutting of electroless-Ni coated Al alloy and apply the SPDT technique to the manufacturing of ultra precision optical components of metal aspheric reflector.
A ceramic coating is a surface treatment method that is being used widely in the industrial field, recently. Ni-P plating is also being used widely because of its corrosion resistance and low cost. An anodizing method is applicable to aluminum alloy. An anodizing method generates a thick oxide layer on the surface and then, that heightens hardness and protects the surface. These surface treatments are applied to various mechanical components and treated surfaces relatively move one another. In this study, tribological characteristics of Ni-P plating and TiAlN coating on anodized Al alloy are compared. The counterpart, anodized Al alloy, is worn out abrasively by Ni-P plating and TiAlN coating that have higher hardness. Abrasively worn debris accumulated on the surfaces of Ni-P plating and TiAlN coating, and then transferred layer is formed. This transferred layer affects the amplitude of variation of friction coefficient, which is related to noise and vibration. The amplitude of variation of friction coefficient of Ni-P plating is lower than those of TiAlN coating during the tests.
Metalization technology of the fine patterns by electroless plating is required in place of electrodeposition as high-density printed circuit boards (PCB) become indispensable with the miniaturization of electronic components. Electroless nickel plating is a suitable diffusion barrier between conductor metals, such as Al and Cu, and solder is essetional in electronic packaging in order to sustain a long period of service. Moreover, Electroless nickel has particular characteristics including non-magnetic property, amorphous structure, wear resistance, corrosion protection and thermal stability. In this study fundamental aspects of electroless nickel deposition were studied with effect of complexeing agents of different kinds. Then, the property of electroless deposit are controlled by the composition of the deposition solution, the deposition condition such as temperature and pH value and so on. the characteristics of the deposits has been carried out.
The fabrication of micro-size patterning on alumina substrate is generated by laser direct writing, which has high precision and selectivity of various laser beam energies. The depth and width of patterns is affected by laser parameter such as laser power, scan rate. Through the chemical and mechanical polishing Pd seeds was effectively got rid of alumina substrate for selectivity electroless Ni plating. Thermal treatment is good method for changing electrical property of conductor line, because the treatment can control of the grain size.
The electrochemical behaviors of UBM nickel were investigated. Electrode potential has been changed with the surface composition. Zinc is dissolved into the solution immediately after immersion. Electrode potential has three distinct regions: Zinc dissolution region, transient region and nickel plating region. The effects additives on electrode potential and polarization curves were also investigated. The addition of suppressor lowered the current density which is related with deposition rate.
In the basic study of selective electroless Ni plating of Si wafers, plating rate and physical properties are investigated to obtain optimum conditions of contact hole filling. Si wafers are excellently activated in the concentration of 0.5M IF, 1mM PdCl2, 2mM EDTA at $70^{\circ}C$, 90sec. The optimum condition of Ni-B deposition on p-type Si wafers is 0.1M NiSO4, 0.11M Citrate, $70^{\circ}C$, pH6.8, 8mM DMAB. The main factor in the sheet resistences variation of films is amorphous and on heat treating matrix was transformed into a stable phase (Ni+Ni3B) at $300-400^{\circ}C$. But pH or DMAB concentration in the plating solution doesn't play role of heat-affected phase change.
The adhesion of electroless plated Ni layer on Al/Si substrates has been investigated. The zincating treatment was conducted with a conventional method and a modified method. In a modified method, ultrasonic agitation was applied during zincating. Adhesion strength was evaluated by a pull-off test. The ultrasonic agitation during zincating increased the nucleation density of Zn particles and refined Zn particle size. the adhesion strength of electroless Ni layer deposited on the modified zincated surface was higher than that on the conventionally zincated surface. the improvement of adhesion was attributed to the fine and dense Zn particles.
Co-B, Co-P-B, Co-Ni-B and Co-Ni-P-B catalysts supported on Ni foam were prepared using electroless plating in the present study. The surface morphology of the catalysts/Ni foam was observed using SEM and EDS analysis. The Co-Ni-P-B/Ni foam catalyst showed the superior performance on hydrogen generation due to the uniform formation of catalyst particles on the Ni foam surface. The characteristics of hydrogen generation with Co-Ni-P-B/Ni foam catalyst was investigated at the variety of $NaBH_4$ and NaOH concentrations. Durability test was performed, resulting in the stable hydrogen generation for 6 hours.
Recently. high-density printed circuit boards(PCB) become indispensable with the minaturization of components. Nickel is deposited on the copper patterns and followed by the gold deposition for improving connection reliability between the printed circuit boards and electronic components. Conventionally electrodeposition has been applied to metalization of copper patterns. However metalization by this method is not applicable for the isolated fine and concentrated patterns. Therefore, metalization technology of the fine patterns by electroless plating is required in place of electrodeposition. The application of electroless nickel plating for interconnection with solder strongly relies on the solderability and the interactions between nickel and solder. Factors such as phosphorus content of the deposit additive and bath temperature may influence solderability of the electroless nickel deposit. So solderability of electroless nickel/ gold deposits was investigated with substrates plated changing the condition of nickel solution.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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