고출력 반도체 레이저 다이오드는 발진 파장 및 광 출력에 따라 다양한 분야에 응용되고 있으며, 특히 발진파장이 808 nm 및 1470 nm 인 고출력 레이저 다이오드의 경우 재료가공, 펌핑용 광원 (DPSSL, 광섬유 레이저), 의료, 피부미용 (점 제거), 레이저 다이오드 디스플레이 등 가장 다양한 응용분야를 가진 광원 중의 하나라고 할 수 있다. 일례로 재료가공의 경우, 레이저 용접, 레이저 인쇄, 하드디스크의 레이저 텍스쳐링 등 그 응용분야는 무수히 많으며, 최근에는 미래 성장동력 사업의 하나로 중요한 이슈가 되는 태양전지에서 에지 분리 (edge isolation), ID 마킹, 레이저 솔더링 등에서 필수불가결한 광원으로 각광받고 있다. 808 nm 대역 In(Ga)AlAs quantum dots laser diode (QDLD) 성장을 위하여 In(Ga)AlAs QD active 와 In(Ga)AlAs QD LD 성장으로 크게 분류하여 여러 가지 test 실험을 수행하였다. 우선 In(Ga)AlAs QD LD 성장에 앞서 high power LD에 적용 가능한 GaAs/AlGaAs quantum well의 성장 및 전기 측정을 수행하여 그 가능성을 보았다. In(Ga)AlAs QD active layer의 효과적인 실험 조건 조절을 위해 QD layer는 sequential mithod (ex. n x (InGaAlAs t sec + InAs t sec + As 10 sec)를 사용하였다. In(Ga)AlAs QD active layer는 성장 온도, 각 sequence 별 시간, 각 source 양, barrier 두께 조절 및 타입변형, Arsenic flux 등의 조건을 조절하여 실험하였다. 또한 위에서 선택된 몇 가지 active layer 를 이용하여 In(Ga)AlAs QD LD 성장 조건 변화를 시도하였다.
OTFT소자는 각 박막계면간의 접촉성에 따라 그 성능이 좌우 된다는 것은 널리 알려진 사실이다. 즉 박막계면간의 접촉성 저하는 계면간의 결함을 형성하여 OTFT소자 성능을 저하시킨다. 이러한 결함을 고품질의 자기조립단분자막을 제작함으로써 박막계면간 결함을 최소화 할 수 있다. 이러한 고품질의 자기조립단분자막 형성은 박막계면간의 결함을 최소화 하기때문에 고성능OTFT소자 제작시 박막계면간 접촉성 향상에 효율적으로 적용할 수 있을것이다. 이 논문에서는 계면간의 접촉성 향상을 위해 실리콘 웨이퍼 위에 3-Aminoproplytriethoxtsilane과 용매인 무수톨루엔을 이용하여 고품질의 자기조립단분자막을 제작 하였으며 고품질을 자기조립단분자막 성장 조건을 찾기 위해 엄격한 수분조절 및 APS농도, 담근시간, 온도를 조절하여 각기 다른 조건의 샘플을 제작하였다. 또한 APS성장 분포를 알기위하여 접촉각 측정기를 이용하여 접촉각을 측정 하였고 AFM 이용하여 실리콘 웨이퍼에 생성된 박막의 균질도를 측정하였다. 그 결과 APS농도(33%) 24시간 $25^{\circ}C$, APS농도(33%) 24시간 $70^{\circ}C$, APS농도(33%) 72시간 $25^{\circ}C$, APS농도 (33%) 72시간 $70^{\circ}C$ 샘플이 기존에 알려진 APS 접촉각인 $19^{\circ}C{\sim}21^{\circ}C$ 접촉각이 나왔으며 AFM 이미지 또한 높은 균질도를 보였다. 이 결과 고품질의 APS단분자막은 농도와 시간 그리고 온도에 영향은 받으며 이렇게 완성된 단분자막은 높은 균질도를 가지게 된다. 현재 실험을 통해 얻어진 고품질의 자기조립단분자막 성장 조건을 이용하여 OTFT소자 제작하고 있으며 고품질의 자기조립단분자막 형성에 의해 결함을 최소화 하므로써 박막계면간 옴성결합을 형성하여 OTFT소자의 성능 향상이 기대되어 진다.
AUSM계열 수치기법의 수치적 불안정성에 대한 원인과 해결방안에 대한 연구를 수행하였다. Euler 유동에서 수치적 불안정성은 제어면에 수직한 방향의 유동속도가 영인 영역에서 발생하며 이 영역에서 Eule r 방정식은 근본적으로 부정해를 가지게 되어 무수히 많은 해를 가지게 된다. 지배방정식 자체로는 유일해를 찾는 것이 불가능하고 주위의 유동조건이나 외부교란에 의해 유일해를 결정하게 된다. 이러한 특징은 충격파 영역에서 교란이 존재할 경우 초기 상태에 대한 정보를 상실하게 되어 충격파 불안정성을 유발하게 된다. slip유동을 정확히 계산할 수 있는, 즉 유일해를 결정할 수 없는, 수치기법은 충격파 불안정성을 근본적으로 제거할 수 없다.
본 연구에서는 10∼15 ㎬의 압력, $1000∼1400 ^{\circ}C$의 온도 조건에서 함수 현무암질 물질로부터 합성된 스티쇼바이트의 함수량을 결정하였고, 스티쇼바이트에 고용하는 알루미늄과 수소와의 치환 메커니즘을 고찰하였다. 단결정 스티쇼바이트의 최대 함수량은 $844\pm$44 ppm $H_2$O이며, 수소 고용은 3가이온(주로 알루미늄)에 비례하여 증가하며, 다른 원소들보다 온도에 민감하다. 이러한 결과는 무수광물 중에서 스티쇼바이트는 중요한 함수상임을 시사하며, 하부맨틀로 물을 수송하는 중요한 운반매체 역할을 한다고 판단된다.
우로굴은 경북 문경시 호계면 우로실 마을 해발 110m 야산에 위치한 미공개 동굴로 수로동굴, 수평동굴의 특징을 잘 나타내주고 있다. 동굴입구 바로 밑에는 물이 용출하는 작은 못이 있고 그 아래에는 이물을 저장하는 또 다른 저수지가 있다. 우로굴의 동굴내 온도는 12~$15^{\circ}C$를, 습도는 90~95%를, 수소이온농도는 pH7~8를, 수온은 12~$15^{\circ}C$를, 이산화탄소는 500~900ppmv를, 경도는 약 110mg/$\ell$를 나타내고 있다. 우로굴은 일반 석회동굴과 유사한 동굴환경을 나타내고 있으며, 지형, 관광, 환경적으로 가치있는 특징을 발견할 수 없다. 우로굴 내의 지하수의 흐름은 일부구간에 무수 구간이 있음에도 불구하고 전반적으로 상시유출수가 있어 동굴내부의 수문 환경조건은 양호하며 경사된 통로를 따라 입구 쪽의 호소지대로 일단 유입 된 후 동굴 입구 밖에 있는 연못에서 용출한 후 하류로 흘러가서 저수지에 고였다가 구서골 하천에 유입되는 것으로 나타났다. 동굴내 지하수는 아직까지 외부의 오ㆍ폐수에 의한 2차 오염이 안 된 음용수의 수질기준치 범위 안에 있는 깨끗한 물로 나타났다.
본시험은 1966년 필리핀에 있는 국제수도연구소에서 벼멸구의 생태에 관한 시험을 위하여 벼멸구를 대량으로 집단접종사육하여 오딘 중 cage내 갑자기 벼멸구의 밀도가 줄고 장님노린재가 무수히 번식되고 있는 것을 관찰한 후 Hawaii에 있는 Bishop Museum, Dr. ASHLOCK 씨에이 장님노린재에 대한 동정을 의뢰함과 동시에 벼멸구에 대한 포식성을 조사한 결과 벼멸구의 포식식능력은 장님노린재를 산난된 도엽에 접종하였을 때 5일후 포식난율이 $69.1\%$인대 대하여 벼멸구 고충에 대하여서는 접종 1일 후$61.4\%$, 2일 후 $76.2\%$, 3일 후 $91.0\%$ 4일 후 $93.3\%$의 포식률로서 매우 놀라운 포식능력을 보여주었다. 이 장님노린채는 벼멸구뿐만 아니라 다른 멸구류의 밀도를 제압할 수 있기 때문에 단장조건하에서는 벼멸구류의 피해를 미연에 경감시킬 수 있는 유리한 천적이라고 생각되며, 금후 이의 실제적인 이용면에 대한 연구가 기대된다.
Ethylphenylcarbamate(EPC)와 포름알데히드를 산 촉매 하에서 축합하여 생성한[(ethoxycarbonyl)phenylaminomethyl phenylcarbamic acid ethyl esters(N-benzyl화합물)를 $90^{\circ}C$, 황산, 황산-무수에탄올 용매계, 황산-니트로벤젠 용매계, 3플루오르화 붕소 촉매 하에서 재배열반응에 의해 methylenediphenyldiurethane(MDU)의 합성조건을 검토한 결과 니트로벤젠 용매하에서 반응시킨것이 MDU 생성율이 64%로 가장 높은 생성율을 나타내었고 4,4'-MDU의 생성율도 전체 MDU의 58%를 차지하여 가장 높았다. EPC와 포름알데히드를 $70^{\circ}C$, 몇 가지 다른 양의 황산, 트리플루오르아세트산, 3플루오르화 붕소 촉매 하에서 축합과 재배열반응을 동시에 일으키기 위한 반응조건을 검토한 결과 촉매로서 황산의 양을 EPC 30mmol에 대해서 황산 17mmol을 첨가한 경우가 MDU의 생성율이 가장 높았으나 별도의 재배열 반응을 통한 합성보다 생성율이 낮았다.
본 논문은 DNAM(Dinitroammeline)합성공정 개발을 위한 Lab scale 합성 과정을 소개하고 분석결과를 기록한 것으로 주요 내용은 다음과 같다 Melamine을 출발물질로 하여 니트로화와 산화 반응을 통해 DNAM을 합성하였다. 수율과 순도의 최적 조건을 찾기 위해 투입순서, 반응시간, 반응물 당량 등을 변경하여 실험을 수행하였다. DNAM 합성의 최적화된 조건은 3시간에서 3시간 30분 정도 반응시간이고, 니트로화 혼합물의 무게비는 1:1.4(아세트산 무수물:농질산)이며, 최종 수율은 60% 이상이다.
본 연구에서는 칼슘채널 차단제로서 항고혈압 작용을 가진 (S)-(+)-pranidipine의 광학 분할에 의한 효과적인 제조방법을 제시하였다. (±)-Pranidipine을 가수분해시켜 얻은 monocarboxylic acid 5의 라세미 혼합물에 광학 활성이 있는 quinidine을 첨가하여 염을 형성한 다음 불용성 부분입체이성질체 염을 여과하고 염기와 산으로 처리하여 (R)-(-)-carboxylic acid 7을 분리하였고 이 carboxylic acid를 cinnamyl alcohol과의 에스터화 반응에 의해 (S)-(+)-pranidipine을 합성하였다. 이 화합물의 거울상 초과량(enantiomeric excess, ee)을 카이랄 HPLC로 분석한 결과 100% ee 값이 얻어졌고, 합성 과정에서 강염기 사용과 무수 조건 및 초저온 조건을 배제하였는바 이는 산업상 매우 유용한 개량방법이라 하겠다.
현재 수행하는 작업은 피페리딘 또는 암모늄 아세테이트 존재하에서 malononitrile와 $\beta$- aroylacrylic acid 유도체의 DMF 용매조건에서 상호작용에 대한 연구이며, 형성된 화합물을 이용한 퓨즈 되고 단리된 이중고리화 시스템의 합성에 관한 것이다. $\beta$-aroylacrylic acid (3)이 DMF 용매와 피페리딘 촉매조건에malononitrile와 반응하여 4H-피란유도체(4)를 형성한다. 촉매를 암모늄아세테이트로 바꿈으로서 피리딘 유도체를 얻었다. 또한 N-말레암산 유도체 (19)와 (27)은 말레 무수물과 함께 (4)와 (5)의 반응을 경유하여 합성되었다. 마이클 첨가 반응에서 이용되는 메틸렌화합물에 관한 이 연구는 B-aroylacrylic acid의 경우와 유사하게 형성된 말레암산 유도체의 반응성에 대한 것이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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