PECVD로 증착된 실리콘 산화막의 특성분석을 위한 신경망 모델링
(Predictive Neural Network Modeling for the Characterization of $SiO_2$ Film Deposited Using PECVD)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2006년도 하계학술대회 논문집 Vol.7
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- pp.186-187
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- 2006