• Title/Summary/Keyword: 막재료

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Deposition Characteristics of $TEOS-O_3$ Oxide Film on Substrate (기판 막질에 따른 $TEOS-O_3$ 산화막의 증착 특성)

  • Ahn, Yong-Cheol;Park, In-Seon;Choi, Ji-Hyeon;Chung, U-In;Lee, Jeong-Gyu;Lee, Jeong-Gyu
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.2 no.1
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    • pp.76-82
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    • 1992
  • Deposition of $TEOS-O_3$ oxide film as inter-metal dielectric layer shows the substrate dependency according to the substrate material and pattern density and pitch size. To minimize substrate and Pattern dependency, TEOS-base and $SiH_4-base$ Plasma oxide were predeposited as underlying material on the substrate. The substrate dependency of $TEOS-O_3$ oxide film was more significant on TEOS-base plasma oxide than on $SiH_4-base$ plasma oxide. The dependency of $TEOS-O_3$ oxide film was remarkably reduced, or nearly eliminated, by $N_2$plasma treatment on TEOS-base plasma oxide, which appears to be caused by the O-Si-N structure, observed on the the surface of TEOS-base plasma oxide.

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Effects of Wet Oxidation on the Nitride with and without Annealing (열처리 전후의 질화막에 대한 습식산화의 효과)

  • Yun, Byeong-Mu;Choe, Deok-Gyun
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.3 no.4
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    • pp.352-360
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    • 1993
  • A nitride layer was df'posited on the thermal oxide layer by LPCVD process. ONO(oxidenitricle oxide) capacitors with various thickness of component layer wore fabricated by wet reoxidation of the nitride with and without anrwalmg treatment and their properties were investigated. As a result of observation on the refrative index and etching behavior of the ONO fIlms, the nitride layer OF 40 A thick ness was not so dense that the bottom oxide during the reoxidation process and the capability of securing the capacitance decreased. The conduction current in the ONO multl-Iayer dielctric film was reduced as the bottom(or top) oxide layer became thicker. However, in the case of oxide with thickness more than 50A, it merely plays a factor of reduction in capacitance, and the effect of barrier for hole injection was not so much increased. Annealing of the nitride laypr bpfore reoxidation did not show a grpat effects on the refractive index and capacitance of the film, however, the annealing process increased the breakdown voltage by 2${\cdot}$V.

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Flame Resistance Performance of Architectural Membrane According to Woven Fabrics and Coating Materials (직포 및 코팅재 타입에 따른 건축용 막재의 난연성능)

  • Kim, Ji Hyeon;Song, Hun
    • Journal of the Korea Institute of Building Construction
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    • v.16 no.6
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    • pp.545-551
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    • 2016
  • Membrane structures which can be used large spatial structure are being expanded because of various advantages. However, despite the diverse membrane structure buildings and materials, the standard for membrane material performance that considering fire safety is still inadequate. Therefore, this study applied basalt or glass woven fabric with flame resistance on architectural membrane, and report the fire safety for architectural membrane using the strength properties, flammability and incombustibility. From the test result, the architectural membrane using basalt or glass woven fabric showed a low heat release rate and total heat release. Therefore, it was confirmed that the fire safety is relatively high.

Improvement for Shielding Effectiveness of EMI Shield Layers using Conformal Spray Coating Scheme (콘포멀 스프레이 코팅으로 형성한 EMI 차단막의 차폐효과 개선)

  • Hur, Jung;Lee, Won-Hui
    • The Journal of the Institute of Internet, Broadcasting and Communication
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    • v.18 no.6
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    • pp.107-112
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    • 2018
  • Shielding effectiveness (SE) improvement with EMI shield layers fabricated by conformal spray coating system was studied. Silver or Nickel powder filled acrylic resin were sprayed on the samples. We compared the performance with the viscosity of 400 cPs and 100 cPs cases. The thickness range of the coating layer was 20 to 50 um for the silver, 60 to 120 um for the nickel. The shielding effectiveness was measured by ASTM D4935 using coaxial type TEM-cell. The silver-filled resin showed much better performance than that of the nickel-filled resin. The shielding effectiveness increased almost proportional to the thickness of the coating layers until being saturated around 63 dB for the silver-layer or around 34 dB for the nickel-layer. The best performance measured in this study was the shielding effectiveness of 63 dB with $35{\mu}m-thick$ of silver-layer.

Introduction of vinyl Compounds Containing Hydroxyl Group into Polyamide Reverse Osmosis Membrane

  • 염민오;김학상;김성수;김재진
    • Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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    • 1995.10a
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    • pp.54-55
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    • 1995
  • 현재 수처리용 분리막으로 널리 사용되고 있는 상업용 polyamide membrane은 주사슬을 이루고 있는 amide bond가 chlorine에 쉽게 분해됨으로써 주쇄의 절단이 일어나므로 막이 파괴되는 결과를 초래하여 역삼투 분리막의 기능이 저하되는 문제점을 갖고 있다. 또한 분리막의 성능으로써 수투과도의 향상도 기존의 분리막의 개선점으로 지적되고 있다. 본 연구에서는 재료 자체의 친수성이 강한 hydroxyl group을 가진 vinyl계 화합물을 기존의 amine계 monomer와 혼합하여 가교반응을 시킴으로써 전체적인 분리막의 수투과도 및 내염소성의 향상을 도모하였다. 기존의 polyamide 분리막의 소재인 1,3-phenylenediamine(MPDA)에 친수성기인 hydroxyethylmethacrylate(HEMA) monomer를 첨가하고 가교제인 trymesoyl chloride(TMC)로 이를 가교시켜 HEMA 및 PVA의 친수성에 의한 수투과도 및 내염소성의 향상을 유도하여 보았다.

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Homogeneous Incorporation of Dimethylsiloxane into Polymethylsilsesquioxane (Dimethylsiloxane의 균일 도입에 의한 PMSSQ의 인성 강화)

  • 안창훈;석상일;진문영
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2003.03a
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    • pp.104-104
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    • 2003
  • 다양한 구조를 갖는 polysilsesquioxane은 열적, 전기적, 기계적 성질이 우수하여 차세대 고집적 반도체용 저 유전율 층간 절연막 재료로 부각되고 있으며, 유/무기 하이브리드 재료로 많은 연구 대상이 되고 있다. 그러나 PMSSQ(polymethylsilsesquioxane)는 취성으로 인한 반도체 제조의 CMP 공정에서 미세 크렉 발생의 위험이 있으므로 막의 인성 강화가 요구되고 있다. 이를 위하여 PMSSQ의 취성을 보완하기 위한 목적으로 선형 분자인 dimethylsiloxane을 10-20mo1% 도입하고자 하였다. 이때 도입된 dimethylsiloxane기가 PMSSQ에 균일하게 분포하지 않으면 실리콘 기판에 코팅 후 약 43$0^{\circ}C$의 열처리 공정 중에 열분해 되는 위험이 있다. 이에 따라 본 연구에서는 dimethylsiloxane기의 열분해에 의한 문제를 최소화하기 위하여 출발 물질인 MTMS(methyltrimethoxysilane)와 DMDMS(dimethyldimethoxysilane)과의 가수분해 속도차이를 고려한 단계(step) 반응법과 MTMS 와 DMDES(dimethyldiethoxysilane)를 사용한 리간드 교환법(ligand exchange)으로 dimethylsiloxane이 PMSSQ에 도입된 공중합체를 합성하였다. 각 합성 방법에 따라 합성된 공중합 PMSSQ의 특성을 TGA, TG-IR, $^1$H-NMR, $^{29}$ Si-NMR과 in-situ IR을 통하여 분석하였다. 또한 dimethylsiloxane 도입 양 및 상기 제조 방법에 따라 합성한 공중합체를 Si 기판위에 코팅하여 43$0^{\circ}C$에서 열처리한 후 코팅막의 강도, 두께 및 굴절율 변화를 ellipsometry 와 nanoindenter로 분석하였다.

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Dye-sensitized solar cell using ZnO nano-powder (ZnO 나노분말을 이용한 염료감응형 태양전지)

  • Kim, Hyun-Ju;Lee, Dong-Yun;Song, Jae-Sung;Koo, Bo-Kun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.07a
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    • pp.336-339
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    • 2004
  • 근래에 $TiO_2$를 이용한 염료감응형 태양전지에 대한 연구가 많이 진행되어 이미 실용화 단계에 이르고 있다. 그러나, 이러한 $TiO_2$를 이용한 태양전지 효율이 한계에 이르러 이를 향상시키기 위한 노력이 다방면에서 이루어지고 있다. 이에 본 연구에서는 넓은 밴드갭 직접형 반도체재료로서, 전기적, 열적, 광학적, 촉매 특성이 우수하고, 압전성이 크고 광투과성 및 형광성이 매우 우수하여, 현재 여러 전자사업 분야에서 사용될 뿐아니라, 태양전지분야에서도 최근 관심이 증대되고 있는, ZnO를 이용하여 $TiO_2$ 대체 전극재로서의 가능성을 고찰하였다. ZnO 슬러리는 유계 방법을 이용하여 제조하였고, 막은 닥터 블레이드(doctor blade)법에 의해 TCO 위에 형성되었다. 원료 분말 및 막의 형상은 FE-SEM에 의해 확인되었다. 형성된 막은 다양한 조건에서 소결하여, 최종적으로 샌드위치형 염료감응형 셀을 제조한 후 효율을 측정 비교하여 태양전지의 활성 전극 재료로서 적정한 ZnO 조건을 예측할 수 있었다.

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Sorption of Chlorinated Organics in Zeolite-filled PDMS Membranes (Zeolite가 혼합된 PDMS막에 의한 유기염화물의 수착)

  • 최상규;조민석;김진환
    • Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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    • 1998.04a
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    • pp.72-75
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    • 1998
  • 1. 서론 : 막분리기술의 발달과 더불어 휘발성 유기화합물(Volatile Organic Compounds, VOC)의 회수에 막분리기술의 이용이 가능하게 되어 VOC에 대한 선택성와 투과속도가 큰 막재료와 분리효율이 높은 공정의 개발에 관한 연구가 활발히 이루어지고 있다. 막분리기술에 의한 VOC의 회수는 소각이나 흡착등과 같은 기존의 정화방법에 비하여 설비비용과 운전비용이 저가이면서 오염물질을 제거한다는 측면 외에 오염물질을 재이용할 수 있다는 장점 때문에 앞으로 그 이용이 확대되어 갈 전망이다. (생략)

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