• Title/Summary/Keyword: 막손상

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Analysis on Transformation of Synapse Transmission Mechanism and Diffuse Axonal Injury by Shock (충격에 의한 축색의 손상과 신경전달 메카니즘의 변화분석)

  • 김석환;류광렬;허창우
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2001.05a
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    • pp.325-328
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    • 2001
  • 정상적인 뉴런의 활성전위는 외부에서 일정한 자극이 인가되었을 때 세포막을 기준으로 하여 각 이온간의 농도 차에 의해 발생한다. 최근에 관심이 되어지고 있는 쇼크에 의한 세포가 손상이 발생할 경우, 즉 신호를 받아들이고 전달하는 뉴런 중에서 축색에 이온채널이 이상증세를 발생하면 신경 전달 흐름을 흐트러지게 하여 이웃한 정상세포에게 커다란 영향을 미치게 된다. 이것은 병리학적인 중요한 역할을 하는 축색 내에 이상이 발생하였다고 가정을 하지만 이 가정을 뒷받침 해 주는 증거는 매우 적다고 보고되고 있다. 최근 연구에서 손상된 축색의 모델은 쇼크이후에 이온의 칼륨 채널에 blocking 현상이 발생하여 나트륨 이온이 다수 유입됨을 고려하고있다. 이에 본 연구에서는 쇼크나 충격에 의해 축색의 손상을 입을 경우 운동신경의 변형으로부터 병리학적인 중요한 이상결과를 일으킬 수 있는 상태를 고려하여 신경모델을 설계해 시뮬레이션 해 보았다.

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Evaluation of Toxic Effects Caused by Pesticides in Escherichia coli Using Recombinant Bioluminescent Bacteria (유전자 재조합 발광박테리아를 이용한 농약 독성평가)

  • Kim Jiwon;Gu Man Bock
    • Environmental Analysis Health and Toxicology
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    • v.19 no.3
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    • pp.295-305
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    • 2004
  • 본 연구에서는 유전자 재조합 발광 박테리아를 이용하여 농약에 대한 박테리아의 스트레스 반응과 세포 독성을 분석하였다. 15종류의 농약에 대하여 유전자 손상, 생물막 손상, 산화적 손상 및 단백질 손상을 측정할 수 있는 발광 박테리아와 독성 유무로 인한 세포 독성을 측정할 수 있는 발광 박테리아, 5종을 이용하여 스트레스 반응을 분류하고 세포 독성 정토를 분석하였다. 그 결과, 농약의 화학적 구조가 박테리아의 스트레스 반응에 영향을 미치며, 산화과정이 진행 됨에 따라 독성의 작용 기작이 변하는 것을 확인 할 수 있었다. 이와 같은, 유전자 재조합 발광 박테리아를 이용한 생물체내의 독성 메커니즘에 대한 분석은 생태계 유해물질들에 의한 독성을 분석하고 예상하기 위해 적용될 수 있을 것이다.

$Al_2O_3/SiO_2$, $HfO_2/SiO_2$ 적층 감지막의 두께 최적화를 통한 Electrolyte Insulator Semiconductor 소자의 pH 감지감도특성 비교

  • Gu, Ja-Gyeong;Jang, Hyeon-Jun;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.448-448
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    • 2012
  • 최근에 pH 감지막의 감지감도특성을 평가하기 위해 electrolyte insulator semiconductor (EIS) 구조가 유용하게 이용되고 있다. EIS는 간단한 구조와 pH 용액에 빠른 응답속도, 낮은 단가 및 집적이 용이하다는 장점이 있다. EIS 구조에서 화학적 용액에 대한 감지감도 평가 중 가장 중요하게 작용하는 부분이 감지막이다. 이 감지막은 감지 대상 물질과 물리적으로 직접 접촉되는 부분으로서 일반적으로 기계적/화학적 강도가 우수한 실리콘 산화막($SiO_2$)이 많이 사용되어져 왔다. 최근에는 기존의 $SiO_2$ 보다 성능이 향상된 감지막을 개발하기 위하여 $Al_2O_3$, $HfO_2$, $ZrO_2$, 그리고 $Ta_2O_5$와 같은 고유전 상수(high-k)를 가지는 물질들을 EIS 센서의 감지막으로 이용하는 연구가 활발하게 진행되고 있다. High-k 물질 중 $Al_2O_3$는 산성에서 알칼리성 영역까지의 넓은 화학안정성을 가지며 화학용액에 대해 내구성이 우수한 특성을 가진다. $HfO_2$은 내식성이 뛰어나며 출력특성이 높은 장점을 가진 물질이다. 본 실험에서는 특성이 다른 두 물질을 EIS의 감지막으로 각각 사용하여 두께에 따른 의존성을 평가하였다. 제작한 EIS 구조의 pH 센서를 바이오 센서에 적용하였을 때 신호대 잡음비(SNR: signal to noise)가 여전히 취약하다는 문제점이 있었다. 이런 문제점을 보완하기 위하여 감지막의 물리적 두께는 점점 얇아지게 되었고 그 결과 높은 출력 특성을 얻게 되었지만, 감지막이 얇아짐에 따라서 화학 용액 중의 이온 침투로 인한 감지막 자체의 손상 또한 심각한 문제로 대두되었다. 이로 인해 최적화 된 감지막의 두께를 얻을 필요가 있다. 결론적으로 $Al_2O_3$, $HfO_2$ 두 감지막 모두 두께가 23 nm일 때 가장 우수한 특성을 보였으며, $Al_2O_3$를 감지막으로 사용하였을 경우 화학적 용액에 대해 내구성이 뛰어났고, $HfO_2$을 사용하였을 때에는 화학적 용액에 대한 안정성 보다는 pH 용액변화에 따른 향상된 감지감도특성을 보였다.

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수소 제조용 치밀질 세라믹 멤브레인 제조기술 개발

  • Hwang, Gwang-Taek
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2005.11a
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    • pp.51-59
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    • 2005
  • 수소 분리막의 적용 분야는 석탄가스, 천연가스, 메탄가스 혼합기체이며, 고온/고압 및 수소농도가 낮은 혼합기체에서 고순도의 수소를 제조하는 곳이다. 특히 치밀질 세라믹 멤브레인은 고온에서 가스화한 석탄가스나 차세대의 쓰레기 처리 기술인 가스화 용융처리에서 생긴 고온가스로부터 고순도의 수소를 분리할 수 있다. 분리한 수소는 고온을 유지하기 때문에 연료전지 발전에 최적이다. 종래의 연료전지는 발전을 위해서 수소의 가열이 필요했으나 이것이 불필요하게 되어 발전 전체의 효율이 향상된다. 석유화학 산업에서 발생하는 혼합기체에서 수소를 분리하여 사용하고 남은 기체는 연료로 재사용할 수 있다. 분리막의 재질로는 고분자계가 개발되고 있으며 고분자 지지체에 백금이나 로듐과 같은 촉매를 코팅하는 방법이다. 이는 기공의 제어가 용이하고 대량생산이 가능한 장점이 있지만 고온에서 사용이 불가능하고 입자상 물질에 의해 분리막의 손상이 문제가 되고 있다. 이에 비해 치밀질 세라믹 멤브레인은 세라믹의 특성에 의해 고온 및 고압에서도 적용이 가능하며, 실온이나 저압의 조건에서도 적용이 가능한 특징을 가진다. $900^{\circ}C$의 고온에서 적용시 세라믹 멤브레인에는 특성열화가 없어 수명이 긴 장점을 가지게 된다. 수소가 포함되어 있는 기체에서 수소 만을 분리하는 방법은 흡착이나 분리막을 이용하는 방법이 일반적이며 흡착에 의한 방법은 일부 실용화가 진행되고 있다. 고효율의 수소를 분리하는 방법으로 분리막을 이용하는 방법이 있다. 현재 치밀질 수소 분리막의 연구는 외국(미국, 일본 등)에서도 초기 연구 단계이다. 국내에서도 이런 연구가 선행되어 외국과의 기술 격차를 줄이고 에너지 자원에 대한 확보가 필요하기 때문에 이 연구가 수행되었다. 치밀질 멤브레인의 소재로는 proton 및 전자전도가 가능한 소재로서 Ba-Ce-Y계를 기본조성으로 하여 내구성과 전기전도도를 향상시키기 위해 Ca, La, In, Yb를 치환하였다. 제조한 재료의 물리화학적 특성을 평가하였고, 수소여과 장치를 이용하여 여과 효율을 평가하였다.

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Toxicity Monitoring and Classification of Endocrine Disruptors using Bioluminescent Bacteria.

  • Min, Ji-Ho;Gu, Man-Bok
    • 한국생물공학회:학술대회논문집
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    • 2000.04a
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    • pp.117-120
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    • 2000
  • For detecting toxicity of endocrine disruptors (EDs), rapid, sensitive, and simple methods are needed. Therefore, in this study, a new method in which the different toxic effect of EDs can be monitored using 4 different recombinant bacteria was designed and evaluated. It was found that the recombinant bacteria could monitor the toxic effect, not estrogenic effect, due to EDCs through the measurement of bioluminescence and cell growth rate, which were shown to depend upon a form of cellular toxicity, such as DNA damage, protein damage, oxidative damage, and membrane damage. In addition, it was found that the damage done by EDCs can be divided into several groups based upon the toxic mechanisms of the EDCs

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A Study of Damage and Contamination on Silicon by Magnetized Inductively Coupled $\textrm{C}_{4}\textrm{F}_{8}$ Plasma Etching of $\textrm{SiO}_2$ (자화된 유도결합형 $\textrm{C}_{4}\textrm{F}_{8}$ 플라즈마를 이용한 $\textrm{SiO}_2$ 건식 식각시 실리콘 표면에 발생하는 손상 및 오염에 관한 연구)

  • Nam, Uk-Jun;Kim, Hyeon-Su;Yun, Jong-Gu;Yeom, Geun-Yeong
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.8 no.9
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    • pp.825-830
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    • 1998
  • 자화된 유도결합형 C4F8 플라즈마로 SiO2를 건식식각시 실리콘 표면에 발생하는 손상과 오염에 대하여 연구하였다. 오염의 분석을 위해서 XPS, SIMS, TEM을 사용하였으며, 손상정도를 측정하기 위해서 HRTEM과 Schottky-diode 구성을 통한 I-V특성 측정을 사용하였다. 유도 결합형 C4F8 플라스마에 0에서 18Gauss까지의 자장이 가해짐에 따라서 실리콘 표면에 생기는 잔류막의 두께가 SiO2식각속도와 선택비의 증가와 함께 증가하였으며, XPS를 통하여 그 조성이 fluorine-rich에서 carbon-rich 한 상태로 변화함을 알 수 있었다. 자장을 가하지 않는 상태에서는 표면에서 $40\AA$부근까지 고밀도의 손상층이 관찰되었으나, 자장을 가함에 따라서 노출된 손상층의 깊이는 깊어지나 그 밀도는 줄어들음을 HRTEM을 통하여 관찰 할 수 있었다. Schottky-diode를 통한 I-V특성곡선의 분석으로 자장이 증가함에 따라서 전기적인 손상이 감소함을 알 수 있었다.

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Thermal behavior of modified silicon surface by $CHF_3/C_2F_6$ reactive ion etching ($CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의해 변형된 실리콘 표면의 열적 거동에 관한 연구)

  • Park, Hyung-Ho;Kwon, Kwang-Ho;Koak, Byong-Hwa;Lee, Joong-Whan;Lee, Soo-Min;Kwon, Oh-Joon;Kim, Bo-Woo;Seong, Yeong-Gwon
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.2 no.1
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    • pp.35-42
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    • 1992
  • Thermal behavior of residue and damaged layer formed by reactive ion etching (RIE) in $CHF_3/C_2F_6$ were investigated using X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) and secondary ion mass spec-trometry(SIMS) techniques. Decomposition of polymer residue film begins at $200^{\circ}C$ and above $400^{\circ}C$ carbon compound as graphite mainly forms by in-situ resistive heating. It reveals that thermal decomposition of residue can be completed by rapid thermal anneal treatment above $800^{\circ}C$ under nitrogen atmosphere and out-diffusion of carbon and fluorine of damaged layer is observed.

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Comparison of Properties of Polymer Based Glass Lenses by Chemical Etching Reaction (고분자 안경 렌즈의 재질별 화학적 식각 반응성 비교)

  • Lee, Junghwa;Noh, Hyeran
    • Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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    • v.17 no.2
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    • pp.119-126
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    • 2012
  • Purpose: To study changes in coating and lens materials after chemically etched different polymer based glass lenses in short-term and ambient condition using hydrofluoric acid. Methods: Vinyl ester polymer (Lens A) and thiourethane polymer (Lens B), both dyed in gray 70%, were etched in hydrofluoric acid solution for 5, 10, or 15 min. The mechanical properties, degrees of damages in hard coating, anti-reflection coating, and other coatings, rates of refractive index and light transmission of both polymer types were evaluated. Results: Rates of refractive index of both lens types were not changed significantly after chemical etching. However, anti-reflection coatings and hard coatings were removed and lens surfaces were damaged. As a results, UV light transmission of lenses increased and mechanical properties decreased. Chemical etching notably changed various properties of thiourethane polymer materials. Conclusions: Depending on types of polymer materials, chemical reactions by hydrofluoric acid were dissimilar. Thus, various properties of les materials were altered differently.

A study on a silicon surface modification by $CHF_3/C_2F_6$ reactive ion etching ($CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의한 실리콘 표면의 변형에 관한 연구)

  • Park, Hyeong-Ho;Gwon, Gwang-Ho;Gwak, Byeong-Hwa;Lee, Su-Min;Gwon, O-Jun;Kim, Bo-U;Seong, Yeong-Gwon
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.1 no.4
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    • pp.214-220
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    • 1991
  • The effects of $SiO_2$ reactive ion etching (RIE) in $CHF_{3/}C_2F_6$ on the surface properties of the underlying Si substrate were studied by X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) and secondary ion mass spectrometry(SIMS) techniques. Angle-resolved XPS analysis was carried out as non-destructive depth profile one for investigating the chemical bonding states of silicion, carbon, oxygen and fluorine. The residue layer consists of C-F polymer. O-F bond was found on the top of the polymer layer and Si-O, Si-C and Si-F bonds were detected between Si substrate and polymer film. A 60nm thick damaged layer of silicon surface mainly contains carbon and fluorine.

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Oxidative Stress in Spermatozoa during Boar Semen Storage (돼지 정액을 저장하는 동안 정자에 미치는 산화스트레스)

  • Seunghyung Lee
    • Journal of Life Science
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    • v.33 no.7
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    • pp.586-592
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    • 2023
  • Oxidative stress is a critical factor affecting the quality and viability of sperm during boar semen storage. Oxidative stress is also a significant concern during the process of freezing semen. The process of semen storage involves exposing the sperm to various stressors, including temperature changes, cryoprotectants, and extended periods of incubation. In addition, oxidative stress can lead to the production of reactive oxygen species (ROS) within the sperm, resulting in oxidative damage to cellular components, such as lipids, proteins, and DNA. Striking a balance between ROS production and the antioxidant defense system is crucial for maintaining sperm viability and functionality during semen storage. Moreover, the prolonged storage of boar semen leads to an increase in ROS levels, which can impair sperm motility, membrane integrity, and DNA integrity. ROS-induced lipid peroxidation affects the fluidity and stability of sperm membranes, leading to decreased sperm motility. Moreover, oxidative damage to the DNA can result in DNA fragmentation, compromising the genetic integrity of the sperm. In conclusion, oxidative stress is a significant challenge in maintaining sperm quality during boar semen storage. Understanding the mechanisms underlying oxidative stress and their impacts on sperm function is crucial for developing effective strategies to minimize oxidative damage and improve sperm storage outcomes.