• 제목/요약/키워드: 마이크로 가공

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웨이퍼 가공용 복합 블레이드 (Composite Blade for Dicing of Wafer)

  • 이정익
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2008년도 춘계학술발표논문집
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    • pp.46-48
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    • 2008
  • 나노복합 블레이드가 반도체 웨이퍼 가공을 위한 마이크로급 나노장치나 그 이상의 나노급 구조체를 위해 사용되었다. 금속 블레이드는 실리콘 웨이퍼 가공을 위해 사용되어 왔다. 그러나, 최근 레진 복합 블레이드는 반도체나 핸드폰의 쿼츠 웨이퍼 가공에 사용된다. 유기 또는 비유기 재료 선정은 기계가공성, 전기 전도성, 강도, 연성 및 웨이퍼 저항을 가진 블레이드를 만드는데 중요하다. 고성능 응용의 증대 요구에 따라 개발된 고기술 비유기성 재료의 혼합은 낮은 가격에 고기능의 신뢰도를 필요로 한다. 나노 입자의 크기를 가진 레진 복합물의 마이크로 설계는 입자간 상호작용의 제어가 필요하다. 형상 제작 동안 마이크로 차원에 두께를 유지하기 위해서는 마이크로/나노급 제작을 위한 가공기술이 중요한 것 중의 하나이다. 본 연구에서는 핫 프레스 구조물이 원래 설계 기준과 두께 차이의 실험 접근법을 사용해 만들어졌다. 다른 습식 공정 기술은 차원의 허용치를 개선하기 위해 만들었다. 실험들과 해석들은 신뢰성 결과가 사용가능함을 보여주었다. 반도체 시장에 사용될 레진 복합 블레이드의 개선 효과가 논의되었다.

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외날 다이아몬드 회전공구를 이용한 마이크로 형상가공 연구

  • 제태진;이종찬;최환;최두선;이응숙;홍성민
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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    • pp.265-265
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    • 2004
  • 최근 IT산업으로 대표되는 광통신 및 광신호 전달에 이용되는 광 반사경 및 렌즈어레이, 광가이드 판넬(BLU, FLU)등 광부품의 수요가 급증하고 있고, 이의 생산을 위한 다양한 제조공정이 연구 개발되고 있다 근년까지 이러한 마이크로 광부품의 제조방법은 포토리소그래피, 에칭기술을 베이스로 한 MEMS 기술, PDMS를 이용한 복재기술에 크게 의존하고 있다. 기계적 가공법으로는 오래전부터 초정밀 경면 선삭이나 연삭에 의한 마이크로 렌즈와 미세 패턴의 금형가공이 이루어져 왔다.(중략)

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마이크로 밀링 EDM 머신 개발 및 가공특성 분석 (Development of Micro Milling EDM and Analysis of Machined Characteristics)

  • 김선호;임한석
    • 한국기계가공학회지
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    • 제10권1호
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    • pp.1-7
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    • 2011
  • Micromachining is gaining popularity due to recent advancements in MEMS(Micro Electro Mechanical Systems). Using conventional micromachining, it is relatively difficult to produce moving components in the order of microns. Photolithography for silicon material has high accuracy machining, but it has low aspect ratio. X-ray lithography has ultra high accuracy machining, but it has expensive cost. Micro-EDM(electro discharge machining) has been gaining popularity as a new alternative method to fabricate micro-structures. In this study, Micro-EDM machine is developed available for fabricate micro-structures and two processes such as side cut EDM and milling EDM is proposed. Several sets of experiment results have been performed to study the characteristics of the machining process.

마이크로 가공기술의 현황과 미래의 마이크로 시스템 (Progress in Micromachining and Future Micro System)

  • 최준림
    • 기계저널
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    • 제33권6호
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    • pp.523-528
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    • 1993
  • 과거 10년 동안 마이크로 전자 공학의 극소형화는 실리콘 기판상에서 평면구조를 제작하는 기 술의 발전을 가져왔으며 정보처리 분야에 일대 혁명을 가져왔다. 그런데 지금은 이 기술의 발 전으로 기계공학에서도 이에 상응하는 연구개발이 진행되고 있으니 이를 총칭하여 마이크로 가 공기술(micromachining)이라 부른다. 기계, 광학, 전자 부품의 마이크로 집적화는 하나의 마이 크로 시스템으로 구현되어 기술혁신의 새로운 영역을 개척할 것으로 예상되고 있다. 이 새로운 기술은 마이크론 단위의3차원 초정밀 가공을 가능케 함으로써 미래 메카트로닉스 (mechatronics)의 새로운 영역으로 자리잡게 될 것으로 전망한다. 이 글에서는 마이크로 시스템에 대해서 기술하고자 한다.

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레이저를 이용한 마이크로-나노스케일 표면가공

  • 전호정
    • 기계저널
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    • 제57권1호
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    • pp.52-56
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    • 2017
  • 금속, 세라믹, 고분자 등 다양한 소재에 적용이 가능한 고출력 광에너지인 레이저 기반의 마이크로-나노스케일 표면가공기술의 기본 원리 및 응용 분야를 소개한다.

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전기화학 가공을 이용한 마이크로 홈 가공 (Micro Groove Machining for Electrochemical Micro-Machining)

  • 김영민;이은상
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.1844-1847
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    • 2003
  • Electrochemical micro-machining(EMM) is used to achieve a desired workpiece surface by dissolving the metal workpiece with an electrochemical reaction. This machining method can be applied to metal that is difficult to machining using other methods. The workpiece dissolves when it is positioned close to the tool electrode in electrolyte and current is applied. This aim of this work is to develop electrochemical micro-machining(EMM) technique for micro groove shape by establishing appropriate electrochemical parameters of machining

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마이크로 비구면 유리렌즈 성형틀의 초정밀 가공 기술

  • Suzuki Hirofumi;Okino Tadashi;Yamamoto Yuji;Shibutani Hideo
    • 광학세계
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    • 통권101호
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    • pp.31-38
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    • 2006
  • 디지털카메라, 카메라폰, DVD 픽업 등의 수요가 증가하고 있고, 유리 성형 기술의 자동화가 진보하고 있기 때문에 유리 성형 프로세스의 동아시아 이전·전개가 진행되고 있다. 최근 동아시아에서도 단순한 축대칭비구면의 성형틀은 정밀가공이 가능해져, 더욱 부가가치가 높은 광학부품을 생산해내기 위해, 복잡형상 세라믹틀의 연삭가공기술의 개발이 반드시 필요하다. 그래서 본고에서는 마이크로 복잡형상 광학부품 성형틀의 초정밀 미세가공기술의 일부를 소개하겠다.

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광학 재료의 연삭 가공

  • 한국광학기기협회
    • 광학세계
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    • 통권102호
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    • pp.18-21
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    • 2006
  • 최근에는 난이도가 높은 다양한 초정밀 광학 소자, 비구면 광학 소자나 마이크로 광학 소자 등 대부분의 가공 공정이 초정밀이면서 초미세한 연삭 가공에 의해 이루어지게 되었다. 그리고 일반적으로 초정밀 및 미세 가공 기술로서 자주 예로 드는 반도체 공정 기술에서는 제조가 어려운 다양한 광학 재료, 광학 부품 가공에 자유롭게 접근할 수 있는 초정밀 및 초미세 기계 가공으로서의 연삭 가공 기술의 진보가 새롭게 인식되기 시작했다고 할 수 있다.

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