유행병 후 시대에 COVID-19는 아직 완전히 통제되지 않고 있다. 마스크 착용은 여전히 전염병 예방의 주요수단이며, 마스크로 인한 부정적인 영향은 계속되고 있다. 오랫동안 마스크를 착용하면 두 가지 문제가 발생할 수 있다. 첫 번째 문제는 저산소증이고 다른 하나는 심리적 스트레스의 증가이다. 마스크의 부정적인 영향을 줄이기 위해 이 논문에서는 새로운 호흡방식을 제안하였다. 저산소증과 스트레스 증가의 두 가지 문제를 동시에 해결하는 "음~"발성호흡이다. 이 논문에서 새로운 호흡 패턴으로 스트레스를 해소하는 원리를 파악하였고, HRV와 스트레스 지수의 관계를 설명하면서 SDNN을 지표로 사용하여 이 호흡 패턴의 효과를 스트레스지수로 측정하였다. 실험결과 "음 ~"발성호흡이 마스크 착용으로 인한 스트레스를 해소 할 수 있을 뿐만 아니라, 마스크를 쓰지 않을 때도 일상적인 스트레스를 해소해 주기도 한다. 따라서 누구나 쉽게 구현할 수 있는 이 방법은 앞으로 더 대중화될 것이다.
본 연구는 안면 마스크 착용에 따른 피부 스트레스 인식도와 뷰티 케어 현황조사를 목적으로 2021년 3월 11일-3월 27일 까지 210명을 대상으로 온라인과 오프라인을 이용하여 설문조사를 실시하였다. 수집된 자료는 SPSS 25.0을 이용하여 Cronbach's α, Frequency Analysis, chi-square test, One way Anova로 분석하였다. 코로나19 기간 중 일일 평균 마스크 착용 시간은 43.8%가 7시간 이상이며, 마스크 착용에 의한 피부 스트레스 인식도는 30대(M=4.27)와 서비스직(M=4.64)이 가장 높고 여드름, 피부 트러블(M=4.47) 고민이 있는 사람이 스트레스를 높게 인식하였다. 홈 케어 시 중요 요소는 클렌징(67.6%)이, 뷰티 케어 현황에서는 피부 관리(36.7%)가 가장 높았다. 뷰티 케어 선택 시 고려 사항은 서비스 및 고객관리 능력이 54.3%, 체형관리를 위한 방법은 운동이 45.7%로 가장 높게 나타났다. 본 연구 결과 안면 마스크의 장시간 사용으로 인해 피부 스트레스가 많이 인식되고 있으며 코로나 상황에 의해 피부 관리실 이용이 불안해짐에 따라 홈 케어 관리가 늘어난 것으로 나타났다.
본 연구는 천연광물질로 나염 처리된 스포츠마스크가 방역마스크와 면마스크와 비교하여 주관적인 구취관련특성과 심리적 특성에서 차이가 있는 지 조사하는 것이다. 연구대상자는 스포츠마스크 군(Sports Mask Group) 30명, 방역마스크 군(KF Mask Group, KMG) 30명과 면 마스크 군(cotton mask group, CMG) 30명으로 나누어 총 90명의 대상자가 연구에 참가하였으며, 하루 1개, 3일 간 3개의 마스크를 사용하게 하였다. 또한 연구 기간은 2020년 10월 15일부터 2020년 10월 30일까지 실시하였다. 연구결과 구취건강과 구강건조 항목에서는 3군 간 차이가 없는 것으로 나타났지만 구강호흡과 구취자각도에서는 스포츠 마스크가 다른 마스크에 비하여 우수하게 나타났다. 심리적 요인을 분석한 결과 우울증은 3군 간 차이가 없는 것으로 나타났지만, 스트레스 요인에서는 스포츠마스크가 다른 마스크보다 스트레스지수가 감소된 것으로 나타났다. 연구의 결과는 기능성 마스크의 활용 방향성을 제시한 것으로써 가치가 있으며, 향후 연구될 기능성 마스크 연구의 기초 자료로 활용되길 바라는 바이다.
GaN 에피층을 성장에 있어서 가장 문제가 되는 통과 전위를 줄이기 위한 방법 이 여러 가지로 진행되고 있다. 그중에서도 PE(Pendeo Epitaxy) 방법으로 많은 연구가 이루어 졌는데 이경우에 열적인 요인으로 인해 발생하는 스트레스와 마스크 물질로 인하여 그러한 물질들이 서로 반응하거나 성장시 악영향을 끼쳐 결국은 성장되는 GaN층의 결정학적 기울기의 원인이 된다는 것이 밝혀졌다. 따라서 이러한 마스크를 제거하여 PE GaN에서 마스크와 수평으로 자라나는 GaN층사이의 간섭이 사라져서 결정학적 기울기가 감소시킬 수 있게 되었다. 이 연구에서 우리는 위에서 언급했던 마스크를 사용하지 않은 PE GaN의 미세구조적인 특성과 전위들의 거동을 투과전자현미경, 주사 전자현미경 그리고 HRXRD(High Resolution X-Ray diffraction)결과를 이용하여 살펴보았다.
본 연구는 아브젝시옹 개념의 특성을 모티브로 한 아트마스크를 제작함으로써 아트마스크 디자인 개발에 방향성을 제시하고 사람들의 라이프케어에 도움이 되고자 한다. 선행연구와 전문서적, 예술작품 등을 중심으로 아브젝트와 아브젝시옹의 개념 정의와 특성을 고찰하였다. 이론연구를 바탕으로 한 아브젝 시옹의 특성은 이상적 미의 기준 해체, 파편화된 신체표현, 병들고 소외된 신체표현, 부패한 시체와 해골로 죽음을 표현하는 것이다. 본 연구자는 추하고 혐오스러운 아브젝트가 유발하는 매혹적인 아브젝시옹을 디자인적 요소에 접목하여 연구 작품 6점을 제작하였다. 본 작품은 얼굴 형태의 각 부분을 절단과 해체로 파편화 시키고, 그로테스크한 변형을 주어 보는 이로 하여금 아브젝시옹을 느끼게 하였다. 연구 작품을 통해 얻은 결과는 다음과 같다. 첫째, 아브젝시옹 특성을 응용한 작품은 사람들에게 아브젝시옹을 느끼게 함으로써 정신적인 스트레스와 상처에 긍정적인 승화작용을 유도하여 정신적인 스트레스 해소와 상처 치유에 도움을 주는 도구로 사용되었다. 둘째, 아브젝시옹 특성을 바탕으로 작품을 제작함으로서 아트마스크 디자인 구상의 범위가 확대되고, 디자인 발상을 새롭게 구축하는 계기가 되었다. 셋째, 아브젝시옹 특성을 응용한 모티브를 아트마스크 디자인에 적용한 결과 다양한 오브제 사용으로 창의적인 디자인 표현이 가능하였고, 재료 사용에 다양성을 확보하였다. 향후 이와 같은 연구가 아트마스크 디자인 관련 후속연구의 기초자료로 활용되기를 기대해 보며 아트마스크 디자인 개발에 도움이 되길 바란다.
본 논문에서는 반도체 소자 제조 공정 중, 염산화 공정 시에 발생하는 스트레스에 따른 산화막의 3차원적 거동을 시뮬레이션하였다. 이를 위해, 이동하는 3차원 경계면에서의 노드 생성 및 제거 기능을 지는 3차원 적응 메쉬 생성기를 개발하였고, 지배 방정식을 유한요소법(finite element method)으로 이산화시켜 수치 해석적으로 해를 구하는, 스트레스 효과를 고려한 3차원 산화 시뮬레이터를 개발하였다. 본 연구에서는 열산화 공정에 의한 산화막의 3차원적 거동을 관찰하기 위하여, 섬구조(island) 및 공구조(hole structure)의 산화막 성장을 <100> 실리콘 기판에 대하여 $1000^{\circ}C$, 60분간 습식 산화 조건에서 시뮬레이션하였다. 초기 산화막의 두께는 $300\AA$, 질화막의 두께는 $2,000\AA$으로 가정하였다. 마스크의 형태에 따라 코너에서의 새부리(bird's beak)형태가 변하는데, 코너에서의 효과는 마스크 형태에 따라 산화제의 확산이 다른 영역에 비해 감소하거나 증가하는 영향이 주된 이유이지만, 스트레스에 의해 그 영향이 더 커짐을 확인하였다. 섬구조에서는 compressive 스트레스에 의해 코너 부근에서 산화가 감소하는 결과를 가져오고, 공구조에서는 tensile 스트레스로 인해 산화가 더 증가하는 결과를 보임을 확인하였다.
유기물/무기물 나노복합체를 사용한 비휘발성 메모리 소자는 낮은 공정 가격 및 높은 유연성 때문에 많은 연구가 진행되고 있다. 그러나 나노복합체를 사용한 비휘발성 메모리 소자의 형성 및 전기적 특성에 대한 연구는 많지만, 나노 입자가 포함된 고분자층을 이용한 플렉서블 유기 메모리 소자의 전기적 특성 및 동작 메커니즘에 대한 연구는 미미하다. 이 연구에서는 나노입자와 고분자가 혼합된 나노복합체를 유연성 있는 indium-tin-oxide (ITO)가 코팅된 polyethylene terephthalate (PET) 기판 위에 형성하여 비휘발성 메모리 소자를 제작하여 유연성 있는 기판이 휘어짐에 따른 전기적 특성과 기억 메커니즘을 설명하였다. 나노입자가 포함된 고분자층은 스핀코팅 방법을 이용하여 쉽게 형성한 후, 그 위에 금속 마스크를 사용하여 상부 Al 전극을 형성하였다. Al/나노입자가 포함된 고분자층/ITO/PET 메모리 소자의 전류-전압 (I-v) 특성에서 낮은 전도도와 높은 전도도를 갖고 있는 쌍안정성 동작을 관측할 수 있었다. 같은 조건에서 나노입자가 포함되지 않은 메모리 소자를 제작하여 측정한 I-V 특성은 쌍안정성 동작이 일어나지 않은 것을 관측하였다. 실험적 결과를 바탕으로 나노입자가 쌍안정성을 일으키는 메모리 저장 물질임을 확인할 수 있었다. 유연성 있는 기판의 휘어짐에 따른 I-V 특성과 스트레스에 의한 전도도 상태 유지 능력 측정을 수행하여 기판 휘어짐에 따른 전기적 특성과 안정성이 변화되는 것을 관측하였다. 측정된 I-V와 스트레스에 의한 전도도 상태 유지 능력 측정 결과를 기반으로 기억 메커니즘과 기판의 휘어짐에 따른 안정성을 설명하였다.
광섬유 격자는 외부의 가해진 물리량에 대해 선형적인 응답을 하며, 광섬유 격자의 파장 인코딩 특성으로 인해 S/N비가 높은 신호 처리를 할 수 있는 장점이 있다. 본 논문에서는 편광 유지 광섬유 격자를 이용한 압력 센서에 관한 실험을 수행하였다. 편광 유지 광섬유 격자는 위상 마스크를 이용하여 Bow-Tie형 광섬유에 형성시켰는데, 편광 유지 광섬유는 두 개의 고유 편광 축을 가지므로 두 개의 브래그 peak을 가진다. 종방향 스트레인과 온도 변화에 따른 두 개의 브래그 파장 변화를 측정한 결과 각각 1.2 pm/.mu..epsilon.의 종방향 스트레인에 대한 파장 민감도와 11.4 pm/.deg. C의 온도에 대한 파장 민감도가 관측되어, 단일 모드 광섬유 격자의 보고된 값과 거의 일치하였다. 반면에 편광 유지 광섬유 격자에 횡방향 스트레스를 가하면 두 브래그 파장사이의 간격이 변화함을 관측하였고, 두 브래그 파장 간격에 대하여는 14.6 pm/N의 횡방향 스트레스에 대한 파장 민감도를 얻었다. 편광 유지 광섬유 격자 센서는 온도의 변화에 무관한 횡방향 스트레스 즉, 압력센서로 이용할 수 있음을 보였다.
본 연구에서는 다마스크 장미 내 고분자 당단백을 bioconversion 기술을 이용하여 저분자화한 다마스크 장미추출물(Rosa damascena extract containing low molecular glycoprotein, RELG)의 항노화 효능을 측정하였다. DPPH 라디칼 소거능을 이용한 RELG의 항산화능 평가($IC_{50}$)는 $22.6{\mu}g/mL$으로 양성대조군인 ascorbic acid $21.1{\mu}g/mL$와 비교하여 비슷한 수준의 항산화능을 나타내었고 피부세포실험에서는 $15{\mu}g/mL$에서 자외선과 $H_2O_2$에 의한 활성산소 생성을 28% 억제하였다. 또한 같은 농도에서 자외선에 의한 콜라겐 분해효소(MMP-1)의 생성을 48% 억제하고 $10{\mu}g/mL$에서 대조군 대비 보습인자인 aquaporin 3 (AQP3)의 발현을 44%, 중성지질 생합성을 10% 촉진하여 항주름 효능과 더불어 보습효능까지 나타냈다. 추가적으로 두피 모유두세포에서는 스트레스로 인한 세포사멸을 $15{\mu}g/mL$에서 10% 억제하고 활성산소의 생성을 90% 감소시켰다. 본 연구 결과, RELG는 효과적인 항노화 화장품 소재임을 확인하였다.
유기물/무기물 나노복합체를 이용하여 제작한 비휘발성 메모리 소자는 간단한 공정과 플렉서블 기기 응용 가능성 때문에 많은 연구가 진행되고 있다. 다양한 나노입자를 포함한 고분자 박막에 대한 연구는 많이 진행되었지만, 비휘발성 메모리소자에서 CdSe/InP 나노입자를 사용한 나노복합체의 전기적 안정성과 동작 메커니즘에 대한연구는 미흡하다. 본 연구는 CdSe/InP 코어/쉘 나노입자가 poly (N-vinylcarbazole) (PVK) 박막에 분산되어 있는 나노복합체를 이용하여 메모리 소자를 제작하여 전기적 특성과 안정성을 관찰 하였다. 소자 제작을 위해PVK 고분자를 용매인 클로로벤젠에 용해한 후, 헥산에 안정화 되어있는 CdSe/InP 나노입자를 초음파 교반기를 사용하여 고르게 섞었다. Indium-tin-oxide (ITO)가 증착한 유리 기판을 화학물질로 세척한 후 기판 위에 CdSe/InP 나노입자와 절연성 고분자인 PVK가 혼합된 용액을 스핀코팅 방법으로 도포하여 나노입자가 포함된 고분자 박막층을 형성하여 저항 변화층으로 사용하였다. 형성된 박막 위에 마스크를 사용하여 Al 상부전극을 고진공에서 열 증착하여 비휘발성 메모리 소자를 제작하였다. 제작된 소자의 전류-전압(I-V) 특성을 측정한 결과 동일전압에서 전도도가 좋은 상태 (ON)와 좋지 않은 상태 (OFF)인 두 개의 상태상 존재한다는 것을 확인하였고, CdSe/InP인 나노입자가 포함된 소자와 포함되지 않은 소자의 전기적 특성을 비교 분석하였다. 두 상태의 안정성을 ON 또는OFF 상태의 스트레스를 측정하여 두 상태의 안정성을 확인하였고, 실험결과를 바탕으로 메모리 소자의 동작 메커니즘을 기술하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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