• Title/Summary/Keyword: 동시개발공정

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3D 컴퓨터그래픽을 도입한 클레이 캐릭터 제작 공정 개발에 관한 연구 (A Study on the Establishment of a Production Pipeline Imported 3D Computer Graphics for Clay Characters)

  • 김정호
    • 한국멀티미디어학회논문지
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    • 제11권9호
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    • pp.1245-1257
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    • 2008
  • 이 연구에서는 기존의 클레이 애니메이션 제작 공정이 가지는 문제점을 개선하기 위해 3D 컴퓨터그래픽을 도입한 새로운 제작 공정을 제안한다. 그 핵심은 기존 공정을 바탕으로 하되 대단히 노동집약적인 캐릭터 제작 과정을, 3D 컴퓨터그래픽에 의한 디지털 캐릭터로 대체하는 것이다. 클레이 애니메이션에 등장하는 캐릭터를 3D 컴퓨터그래픽으로 구현하기 위해 클레이 캐릭터와 동일한 색상과 종류의 유성찰흙을 사용하여 폴리곤 모델링 캐릭터의 UVW 좌표 값에 맞춘 디퓨즈 맵과 디스플레이스먼트 맵을 제작하였다. 또한 파노라마 HDRI 자동 촬영 시스템을 개발하여 미니어처 세트 촬영 환경의 조명 정보를 초고해상도의 파노라마 HDRI 형식으로 제작, 이를 디지털 라이팅 소스로 사용하였다. 이 과정을 통해 대단히 사실적인 결과물을 얻음과 동시에 숙달된 작업자의 노하우에만 의존하던 스톱모션 제작 공정을 공학적 접근에 의한 자동화된 방식으로 개선할 수 있었다.

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DNS-Zr과 DNS-Hf 바이메탈 전구체를 이용한 Gate Dielectric용 ZrSiO4 및 HfSiO4 원자층 증착법에 관한 연구 (Atomic Layer Deposition of ZrSiO4 and HfSiO4 Thin Films using a newly designed DNS-Zr and DNS-Hf bimetallic precursors for high-performance logic devices)

  • 김다영;권세훈
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2017년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.138-138
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    • 2017
  • 차세대 CMOS 소자의 지속적인 고직접화를 위해서는 높은 gate capacitance와 낮은 gate leakage current를 확보를 위한, 적절한 metal gate electrode와 high-k dielectric 물질의 개발이 필수적으로 요구된다. 특히, gate dielectric으로 적용하기 위한 다양한 high-k dielectric 물질 후보군 중에서, 높은 dielectric constant와, 낮은 leakage current, 그리고 Si과의 우수한 열적 안정성을 가지는 Zr silicates 또는 Hf silicates(ZrSiO4와 HfSiO4) 물질이 높은 관심을 받고 있으며, 이를 원자층 증착법을 통해 구현하기 위한 노력들이 있어왔다. 그러나, 현재까지 보고된 원자층 증착법을 이용한 Zr silicates 및 Hf silicates 공정의 경우, 개별적인 Zr(또는 Hf)과 Si precursor를 이용하여 ZrO2(또는 HfO2)과 SiO2를 반복적으로 증착하는 방식으로 Zr silicates 또는 Hf silicates를 형성하고 있어, 전체 공정이 매우 복잡해지는 문제점 뿐 아니라, gate dielectric 내에서 Zr과 Si의 국부적인 조성 불균일성을 야기하여, 제작된 소자의 신뢰성을 떨어뜨리는 문제점을 나타내왔다. 따라서, 본 연구에서는 이러한 문제점을 개선하기 위하여, 하나의 precursor에 Zr (또는 Hf)과 Si 원소를 동시에 가지고 있는 DNS-Zr과 DNS-Hf bimetallic precursor를 이용하여 새로운 ZrSiO4와 HfSiO4 ALD 공정을 개발하고, 그 특성을 살펴보고자 하였다. H2O와 O3을 reactant로 사용한 원자층 증착법 공정을 통하여, Zr:Si 또는 Hf:Si의 화학양론적 비율이 항상 일정한 ZrSiO4와 HfSiO4 박막을 형성할 수 있었으며, 이들의 전기적 특성 평가를 진행하였으며, dielectric constant 및 leakage current 측면에서 우수한 특성을 나타냄을 확인할 수 있었다. 이러한 결과를 바탕으로, bimetallic 전구체를 이용한 ALD 공정은 차세대 고성능 논리회로의 게이트 유전물질에 응용이 가능할 것으로 판단된다.

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유류 오염토양 복원을 위한 토양세척 공정의 개발 (Development of the Soil Washing System for the Remediation of Oil-Contaminated Soil)

  • 공준;조장환;이지희;최상일
    • 한국지하수토양환경학회:학술대회논문집
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    • 한국지하수토양환경학회 1998년도 공동 심포지엄 및 추계학술발표회
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    • pp.60-63
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    • 1998
  • 본 연구에서는 유류 오염토양 복원을 위한 효율적인 세척공정을 구성하여 현장적용 가능성을 검토하였다. 토양세척공정은 co-current식 전세척장치와 counter -current식 세척조로 구성된다. 물이 주입되는 co-current식 전세척장치에서는 스크류 축의 회전력에 의한 토양 이송 및 스크류의 각 pitch 사이에 부착된 임펠러의 기계적 교반력에 의한 세척이 동시에 이루어진다. 전세척장치를 통과한 토양과 물은 세척조로 유입되어 세척용액과 반대방향으로 이동하게 된다. 세척조의 내벽에 부착된 나선형 웨어에 의해 적정 운전조건하에서 일정 크기를 기준으로 토양이 분리되며, 각 웨어 사이에 부착된 임펠러의 교반력에 의해 오염토양이 세척된다. 실험결과, 운전시 고려해야 할 주요 영향인자들은 전세척장치에서의 토양주입량은 1 kg/min, 진탕비는 1, 회전속도는 50 rpm에서 최대 세척효율(#4-, 83.6%)을 보였으며, 세척조에서는 토양.물 주입위치 15 cm, 회전속도 5 rpm, 경사각 6$^{\circ}$, 세척용액 주입유량이 0.8 L/min일 때 최대 세척효율인 97.9%(#4-)를 나타냈다.

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Anode supports에 전사지를 이용 적층한 cell 구조 및 AFL 형성에 따른 출력 특성

  • 안용태;최병현;지미정;구자빈;신상호;최진훈;황해진
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2012년도 춘계학술발표대회
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    • pp.96.2-96.2
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    • 2012
  • 고체산화물연료전지(SOFC) cell은 cathode, electrolyte 및 cathode층으로 구성되어져 있는데, 이 cell의 적층은 EVD, CVD, sputtering등의 기상공정과 screen printing, tape casting, dip coating등의 습식 공정으로 제조한다. 적층 공정의 경우 supports의 크기와 형태에 따라 적용에 어려움이 있다. 따라서 본 연구에서는 적층공정의 문제점을 해결코자 전사지를 제조하여 평관형 anode supports 위에 적층하여 cell을 제조하였다. 전사지를 이용한 적층방법은 매우 간단하고 두께와 형상제어가 쉽게 가능하였다. 본 연구를 상세히 언급하면 평관형 anode 지지체를 압출법을 통해 제작하였고, 반소된 지지체 위에 anode function layer와 electrolyte(YSZ)층을 형성한 후 $1400^{\circ}C$ 동시 소결하여 치밀한 전해질 층을 형성하였다. 그 후 cthode층을 형성한 후, $1200^{\circ}C$에서 2시간 소결하여 porous한 전극층을 형성하여 cell을 제작하였다. 그 후 Anode supporter위에 전사지를 이용하여 적층한 경우 cell 소결정도를 SEM으로 관찰하였고, 전기화학특성으로는 출력과 분극저항을 측정하였다. 이를 통해 새로운 구성소재 증착방법 즉 전사지를 이용하는 방법을 개발하였다.

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가변추출간격을 갖는 다변량 슈하르트 관리도 (Multivariate Shewhart control charts with variable sampling intervals)

  • 조교영
    • Journal of the Korean Data and Information Science Society
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    • 제21권6호
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    • pp.999-1008
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    • 2010
  • 공정을 모니터링 하기 위한 전통적인 관리도는 표본들 사이의 일정한 추출간격에서 일정한 수의 표본을 취하여 만들어 지는 고정추출율 관리도이다. 본 연구의 목표는 표준적인 고정추출율을 갖는 다변량 관리도에 비하여 성능이 우수한 가변추출간격을 갖는 다변량 관리도를 개발하는데 있다. 대부분의 다변량 관리도에 대한 연구는 공정의 평균벡터를 모니터링 하는데 초점이 맞추어져 있다. 그러나 본 논문에서는 공정의 평균벡터와 분산-공분산을 동시에 모니터링 하기 위한 다변량 관리도를 연구한다. 가변추출간격을 갖는 다변량 슈하르트 관리도에 대하여 연구 하고자 한다.

휘발성 유기화합물 저감을 위한 금속산화물 기반 광촉매-활성탄 복합체 개발 (Development of Metal Oxide-based Photocatalyst Coated on Activated Carbon for Removing Volatile Organic Compounds)

  • 고재락;장예원;전호영;배환진;이주현;최창호
    • 청정기술
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    • 제28권4호
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    • pp.285-292
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    • 2022
  • 대기 오염의 주요 원인인 휘발성유기화합물(VOCs)의 배출을 저감 하기 위한 방법으로 주로 활성탄 흡착탑이 활용되고 있다. 하지만 활성탄의 짧은 수명과 잦은 교체 주기의 단점이 있어 이를 극복하기 위한 다양한 기술이 개발되고 있으며, 광촉매-활성탄 복합체는 이러한 활성탄의 단점을 극복할 수 있는 방법임을 입증하였다. 광촉매-활성탄 복합체는 활성탄 표면에 금속산화물 광촉매를 코팅하여 광촉매 효과와 활성탄의 흡착능력 효과를 동시에 확보할 수 있는 휘발성유기화합물 저감 물질이다. 미세유체공정을 이용하여 ZnO, 은(Ag) 나노입자를 동시에 합성한 후 실시간으로 ZnO와 은(Ag) 나노입자 용액을 활성탄이 채워진 충진층 반응기에 주입하여 Ag-ZnO 활성탄 복합체를 합성하였다. 합성 반응시간에 따른 광촉매 복합체의 증착양을 분석했으며, 다양한 분석 방법을 통해 광촉매가 활성탄의 기공을 막지 않고 활성탄 표면에 선택적으로 증착 되었음을 확인하였다. 톨루엔 가스백 시험과 흡착 파괴시간 시험을 통해 광촉매-활성탄 복합체가 순수한 활성탄보다 우수한 저감 효과와 지속성을 가지는 것을 확인하였다. 본 연구를 통해 개발된 공정은 광촉매-활성탄 복합체를 효율적으로 생산할 수 있는 방법으로 대량 생산을 위한 스케일 업 공정을 통해 국내의 VOCs 저감 물질 가격 경쟁력을 높일 수 있을 것으로 사료된다.

터널공사의 효용성 향상을 위한 측량시스템 개발 (The Development of Survey System for Efficiency Improvement of Tunnel Work)

  • 박하동;임헌량;정성혁;최석근
    • 한국측량학회:학술대회논문집
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    • 한국측량학회 2006년도 춘계학술발표회 논문집
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    • pp.125-130
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    • 2006
  • 본 연구는 터널공사현장을 대상으로 기존의 터널 측량 방법에서의 문제점을 분석하여 오차요인과 경비절감 문제등을 해결할 수 있는 측량시스템을 개발하여 기존방법과 본 연구방법을 적용하여 측량 및 시공하였을 경우를 비교 분석함으로써 공정관리의 효율성 증대를 위한 측량방법을 제안하였다. 이러한 문제점들을 해결하기 위하여 측량 장비와 Note book을 연결하여 현장에서 실시간으로 터널측량과 동시에 위치 및 오차들을 결정할 수 있는 시스템을 개발하였다. 터널측량시스템을 개발함으로서 종래의 터널 측량시 오차발생을 최소화하고, 터널 굴착시의 미굴 및 여굴의 가능성을 최소화하여 시공풀질의 향상과 원가 절감 및 공기 단축 등의 효과를 가져 올 수 있도록 하였다.

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여과포에 의한 분진포집기술 (Fabric Filtration for Particulate Matter Collection)

  • 박영옥
    • 한국막학회:학술대회논문집
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    • 한국막학회 1993년도 추계 총회 및 학술발표회
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    • pp.68-73
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    • 1993
  • 여과포에 의한 분진 포집기술은 다른 분진포집기술에 비해 가장 우수한 집진성능을 나타낼수 있는 집진기술로서 최근에 와서는 분진발생공정, 연소설비 및 폐기물 소각설비의 중금속 물질, 유해 기체 및 분진의 동시포집 적용 등 광범위한 산업분야에 적응되어 운전되고 있다. 배출기체의 악조건과 습도가 다량 함유된 조건에서는 여과포 집진장치의 적용이 어렵다고 생각되고 있지만, 처리 기체의 조건 및 포집분진의 특성에 적합한 여과포의 개발과 탈진방식(cleaning method)의 개선으로 인해 해결이 가능하게 되었다. 또한 여과포에 의한 분진포집기술은 장치를 통과하는 배출기체의 속도가 다른 집진기술에 비해 느려 여과포 면적이 상대적으로 넓어져서 장치의 설치면적이 많이 소요된다는 단점이 있으나, 여과포를 원간으로 봉재하여 서로 접근시켜 많은 갯수를 다단으로 배치함과 동시에 연속탈진시스템(on-line cleaning)을 채택함으로써 장치에 소요되는 면적을 최소한으로 줄이려는 연구가 계속되고 있다. 대체적으로 여과포에 의한 분진포집기술의 산업체 적용에서 장치의 압력손실은 약 100 - 100 $mmH_2O$ 정도의 범위가 대부분이고 분진 포집효율은 거의 99.9%에서 99.99% 정도 달성이 가능하다[1,2,3].

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저온 플라즈마 조건에서 탈황.탈질 반응 특성 연구 (A Study on The Reaction Characteristics of Desulfurization and Denitrification in Non-Thermal Plasma Conditions)

  • 신대현;우제경;김상국;백현창;박영성;조정국
    • 에너지공학
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    • 제8권1호
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    • pp.150-158
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    • 1999
  • 본 연구는 저온플라즈마를 이용하여 배기가스중의 SOx와 NOx를 동시에 처리하는 공정을 개발하는 것으로서, 최적의 반응제 선정과 효율적인 공정의 구성을 위해 SOx, NOx와 반응제와 반응기구를 밝히고자 하였다. 실험은 1.0 N㎥/h의 모사가스를 이용한 기초실험과 20 N㎥/h의 실제 연소가스를 이용한 실험으로 진행되었으며, 반응제로는 NH3와 파리핀계 및 올레핀계 탄화수소를 사용하였다. NH3를 반응제로 한 SO2 제거반응은 비플라즈마 조건에서는 NH4HSO3, 플라즈마 조건에서는 (NH4)2SO4의 생성반응이었고, 두 조건 모두 높은 제거율을 나타냈다. 반응제를 사용하지 않은 플라즈마 조건에서 SO2는 환원반응이 일어나고 O2 농도의 증가는 역반응을 증가시키는 화학평형에 의해 SO2의 제거율이 감소되었다. 플라즈마 조건에서 NO는 O2농도가 낮은 경우는 NO의 환원반응이 주로 일어나고, O2 농도가 높을 경우는 산화반응이 지배적이었다. 올레핀계 탄화수소는 플라즈마 조건에서 NO 산화 반응에 탁월한 효과를 보였을 뿐만 아니라 SO2 제거에도 효과를 보여 최대 40%의 제거율을 나타냈으며, NH3의 사용을 줄일 수 있음을 확인하였다.

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Dock의 자원과 작업환경을 고려한 탑재 Simulation (Ship Hull Block Erection Simulation In Consideration of Resource Constant and Work Environment)

  • 김정제;차희철
    • 한국해양공학회:학술대회논문집
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    • 한국해양공학회 2002년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.47-50
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    • 2002
  • 선반건조 일정계획에 있어서 탑재 공정은 전체 생산일정 계획 중 선박 한 척에 대한 계획의 시발점이 되며, 병목현상 등을 유발하여 다른 일정에 가장 큰 영향을 주게 되는 공정이다. 최근 많은 조선소에서 하나의 Dock 내에서 두 착 이상의 배를 동시에 건조하는 tandem 방식을 택하고 있어 dock 내의 한정된 Crane 의 개수와 Crane의 Capacity, 공수 등의 자원, 그리고 작업환경에서 일어날 수 있는 여러 가지 변수들을 제대로 고려하지 못 했을 시에는 일정의 차질과 Dock의 회전율을 떨어트리게 한다. 본 논문에서는 가상공간에 하나의 Dock 를 만들어서 일정계획에서 작성한 Network를 사용하여 실제 작업하게 해서 그 Network가 현장에서의 최적한가를 점검하게 하고 현장에서 수정하는 작업을 줄이게 하는 것의 방법으로 simulation을 개발하였다.

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