고밀도 $Cl_2/HBr$ 플라즈마에 의한 비도핑 $\alpha$ -Si 식각시 나칭 현상
(Notching Effect in Etching of the Undoped $\alpha$ -Si by using High Density $Cl_2/HBr$ Plasma)
-
- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
- /
- 한국전기전자재료학회 2000년도 춘계학술대회 논문집 전자세라믹스 센서 및 박막재료 반도체재료 일렉트렛트 및 응용기술
- /
- pp.10-13
- /
- 2000