• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2008.08a
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• pp.104-104
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• 2008

• Proceedings of the KAIS Fall Conference
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• 2005.05a
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• pp.125-127
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• 2005

나노미터 크기의 임의형상 패턴을 형성하기 위해서 새로운 프리어 변환 리소그래피법을 개발하였다. 나노미터급 리소그래피에서 자외선과 엑스레이 같은 전자기파가 나노미터 크기로 형상을 새긴 마스크 위에 조사되면 회절현상이 발생하여 불명확한 패턴을 얻게 된다. 극자외선을 사용하지 않고도 상대적으로 긴 파장의 레이저빔을 특수하게 제작된 마스크를 통해 볼록렌즈에 조사할 경우에 프리어 평면이라 알려진 평면위에 나노미터 크기의 패턴을 형성할 수 있다는 것을 증명하였다. 이 방법은 매우 단순한 장치로 구성할 수 있다는 장점을 가질 수 있다.

• The Science & Technology
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• v.35 no.3 s.394
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• pp.20-21
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• 2002

현택환교수팀이 개발한 기술은 원하는 크기의 나노입자를 바로 얻을 수 있다는 장점이 있으며 나노입자의 크기를 2나노미터에서 20나노미터까지 자유자재로 조절할 수 있어 연구의 우수성이 입증됐다.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.22 no.6 s.171
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• pp.7-14
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• 2005

• Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers B
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• v.35 no.10
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• pp.1013-1018
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• 2011

The charging of 10-nm-class nanoparticles in an electrostatic precipitator (ESP) according to particle charging ratio has been investigated and compared to the diffusion effect of the nanoparticles. The competition between the charging probability and the diffusion loss effect determines the collection efficiency of nanoparticles in the ESP. The collection efficiency of nanoparticles decreased continuously with decreasing particle diameter. This indicates that the partial charging effect of 10-nm-class nanoparticles is more dominant than their diffusion loss effect in the ESP for nanoparticles in the particle size range of less than 10 nm. The charging ratios based on unipolar diffusion charging calculations were in good agreement with the experimental collection efficiencies for nanoparticles less than 10 nm in diameter.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.10-10
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• 2004

유전율이 서로 다른 물질을 나노 크기로 주기적으로 배열하여 황자 띠간격(Photonic bandgap)을 이루게 하는 광결정(Photonic crystal)에 인위적인 결함을 부가하여 광파워 분배 및 Mux/Demux 등 광회로 기능 수행을 할 수 있도록 집적화한 광도파로 소자가 미래형 정보통신사회를 위한 초고집적화, 초고속화, 저전력 및 신기능 등의 특성을 위하여 요구된다. 이러한 나노 광결정 소자는 다양한 방법으로 제작이 시도되고 있는데, 나노 임프린트 기술은 실장밀도가 높으며, 수십 나노급의 패턴이 주기적으로 배열된 구조물의 성형에 큰 장점이 있어서 본 연구에서 다루어졌다.(중략)

• Particle and aerosol research
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• v.12 no.3
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• pp.95-102
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• 2016

Controlling exposures to occupational hazards is important for protecting workers. Certified facepiece respirators are recommended when engineering controls do not adequately prevent exposures to airborne nanomaterials. The objective of this study is to carry out the experimental performance test to investigate the fractional efficiencies of the filter media for two grades of facepiece respirators. Experimental performance evaluations were carried out for the test NaCl particles and silver nanoparticles. For media of respirator filter, the penetration of NaCl particles was less than 5% and the most penetrating particle size occurred at about 40 nm. For silver nanoparticles, the most penetrating particle size was about 20nm with higher efficiency than those of NaCl particles. Charge characteristics of airborne nanoparticles is important because the media of respirator filter is made by the electret filter media.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2016.02a
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• pp.158-158
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• 2016

최근 유연정보전자소자의 개발이 대두되고 있다. 이러한 개발 동향에 맞춰 정보전자소자의 각 소재를 유연화하는 연구가 진행되고 있다. 이 중 ITO 기반의 기존 투명전극은 투명전극으로써는 매우 높은 성능을 보이지만, 유연성이 매우 낮기 때문에 대체 투명전극에 대한 연구가 필수적이다. 그래핀, 전도성 고분자, Oxide/metal/oxide, 금속나노와이어 등 다양한 유연 투명전극에 대한 연구가 진행되고 있으나 ITO 급의 면저항/투과도를 얻지 못하고 있다. 은나노와이어는 ITO 대체로 주목받는 투명전극 중에 면저항/투과도가 가장 ITO에 유사하면서, 유연성까지 지니고 있는 장점을 가지고 있다. 반면 약 100 nm 직경의 1차원 나노와이어가 랜덤하게 분포되어 있기 때문에, 위치별로 균일성에 대한 이슈가 존재하고, 표면 조도가 매우 높기 때문에 (ITO ~ 1 nm, AgNW > 20 nm) OLED에 적용하기 어려운 문제가 존재한다. 또한 대면적 OLED에 적용하기에는 여전히 저항이 높은 문제가 존재한다. 본 연구에서는 이러한 은나노와이어의 높은 저항 문제를 해결하기 위해, 마이크로 급의 미세금속배선을 보조배선으로 도입하였다. 이러한 보조배선을 통해 대면적 소자에도 전류가 잘 흐를 수 있고, 이러한 전류가 은 나노와이어를 통해 소자 전면적에 균일하게 도달하여, 대면적에서 균일한 발광을 하게 된다. 본 은나노와이어/금속보조배선 구조는 면저항 4 ohm/sqr., 투과도 90%를 달성하였고 이는 기존 ITO보다 우수한 수치이다. 더욱이, 유연성까지 함께 확보하고 있어 유연 전극으로써의 활용도 충분히 가능하다. 이를 활용해 OLED를 제작한 결과 밝기와 발광균일도가 기존의 ITO를 활용한 것보다 훨씬 높아짐을 확인할 수 있었다.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.7 no.3
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• pp.332-337
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• 2006

We prepared 100 nm-thick CoNi composite silicide on a 70 nm-thick polysilicon substrate. Composite silicide laye.s were formed by rapid thermal annealing(RTA) at the temperatures of $700^{\circ}C,\;900^{\circ}C,\;1000^{\circ}C$ for 40 seconds. A Focused ion beam (FIB) was used to make nano-patterns with the operation range of 30 kV and $1{\sim}100$ pA. We investigated the change of thickness, line width, and the slope angle of the silicide patterns by FIB. More easily made with the FIB process than with the conventional polycide process. We successfully fabricated sub-100nm etched patterns with FIB condition of 30kv-30pA. Our result implies that we may integrate nano patterns with our newly proposed CoNi composite silicides.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2003.10a
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• pp.41-41
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• 2003