• 한국정보기술응용학회:학술대회논문집
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• 한국정보기술응용학회 2002년도 추계공동학술대회 정보환경 변화에 따른 신정보기술 패러다임
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• pp.490-501
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• 2002

기업의 생산성향상과 이익률에 영향을 줄 수 있는 지식이 경제 전반에 확산되어 나가는 과정은 한 나라의 경제발전속도에 영향을 미치는 중요한 요인이다. 기업 측면에서는 도입하려는 기술이 도입 후에 그 기업의 이익을 높여 줄 수 있다면 도입하지 않을 이유가 없다. 하지만 미래 수요의 불확실성이나 기술발전 방향의 불확실성 등으로 해서 기업으로서는 도입 후의 이익을 정확히 사전적으로 측정하기는 어렵다. 본 논문에서는 학계에서 일반적으로 사용되고 있는 두 가지 지식확산 모델을 설명하고자 한다. 그 하나는 하나의 새로운 기술이나 상품이 시간이 흐름에 따라 어떻게 전체 사용 가능자(population)에게 확산되는 지를 보여주는 1) Epidemic Diffusion Model (흔히 5자형 - Sigmoid - 모델이라고도 한다. )과 어떤 도입자가 어느 시점에서 대상이 된 새로운 기술을 도입할 것인지 아닌지를 결정하는 모델로서 2) Probit Diffusion Model (프로빗 모델)을 중심으로 한다 그리고 이러한 지식확산과정과 속도에 영향을 줄 수 있는 기업 내부적 요인으로서 도입하고자 하는 기업의 누적된 경험이 중요하다는 것과 기업 외부적 요인으로서 네트웍 효과와 같은 요인들을 설명하였다.

• 과학기술정책
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• 제13권4호통권142호
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• pp.90-101
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• 2003

대량살상무기의 확산을 근본적으로 차단하기 위한 경제 제재의 활용은 1990년대에 들어서 새로운 차원으로 전개됨. 이전시기까지 제정된 법규들은 특정한 핵확산 활동에 관여한 국가들에 대한 외국원조의 중단을 요구하였으며, 해당 국가들이 관련 조약 및 국제협약상의 목표를 준수하게끔 하나의 가능한 메커니즘으로서 제재 방안들을 규정함. 1990년에 들어서서 미 의회는 미사일 확산에 관련되어 무역제재를 위한 명확한 지침을 입법화함. 1990년에 들어서 무기수출통제법(Arms Export Control Act)과 1979년 수출관리법 (Export Adminstration Act of 1979)에 미사일기술통제레짐의 부속서(MTCR Annex)에 등재된 품목이나 기술을 거래하는데 관여한 미국 시민 또는 외국인에 대해 미 대통령이 규제를 부과한다는 점이 필수사항으로 첨가됨. 이어서 미 의회는 광범위한 형태의 법률을 통해 생ㆍ화학무기 및 핵무기의 확산에 기여하는 국가들에 대해 경제제재를 가할 것을 입법화함. 본 보고서에서는 미국내 비확산 규정을 위반한 국가, 기업 또는 개인들에 대해 일종의 경제제재를 부과하는 것을 요구하거나 승인하는 법규들을 간략히 서술하고 있음. 다음에 열거하는 각각의 규정에는 제재 부과의 이유, 제재 기간에 관련된 정보를 포함하여, 미 대통령이 제재 부과를 연기, 중단 및 포기할 수 있는 권한의 구체적 내용들을 서술함.

• 정보기술응용연구
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• 제1권
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• pp.55-98
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• 1999

우리 나라의 경우는 선진외국과는 달리 국가연구개발 및 기술개발사업의 수립에 있어서 확산 지향적 관점에 의한 접근이 시작단계에 머무르고 있어서 국책기술개발의 전략성 부족, 개발된 기술의 산업적 이전 내지는 확산의 미약, 및 산업경쟁력제고에로 연계부족 등의 현상이 노출되어 왔다. 또한 21세기 지식기반확립을 위한 고도정보화의 구축과 국가경쟁력 제고의 기반이 되고 있는 초고속정보통신기반사업에서의 효율적인 기술개발을 위해서는 국가 정책적 목표와 기술적 목표를 동시에 고려한 기술확산을 기초한 자원배분 우선 순위설정에 관한 체계적인 연구가 요구되고 기존연구는 거의 없는 실정이다. 본 고에서는 이러한 점을 중시하여 연구활성화 및 연구결과의 정책적 활용도 증대를 위한 탐색적 연구의 일환으로 확산을 기반으로 한 초고속관련 기술개발사업에 대한 자원배분 우선순위 설정에 관한 연구를 수행하였다. 구체적인 연구의 진행은 모형화 및 통계적 검증을 지양하였다. 먼저 기술개발과 우선순위에 관한 기존연구를 분석하여 자원배분 우선순위표를 작성하였으며, 이를 델파이 방법을 통하여 전문가들에게 조사하여 우선순위에 대한 가중치를 도출하였다. 끝으로 우선순위표를 이용하여 초고속관련 분야에서 이루어진 기존연구결과를 재구성, 종합/체계화하였다.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제16권2호
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• pp.1006-1015
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• 2015

본 연구에서는 공급사슬 네트워크에서 네트워크 기반 기업 간 기술의 적용과 그 확산에 영향을 주는 요인을 도출하고 요인들 간의 관계를 밝히고자 한다. 공급사슬관리의 효율성과 전체 최적화의 달성을 위해 도입된 기업 간 기술은 공급사슬 내 기업들의 적극적인 기술 도입과 공급사슬 네트워크상 빠른 확산이 필요하다. 하지만, 각 기업들마다 내 외부적인 요인들에 의해 도입시점이 각기 다르며 이로 인해 그 기술의 확산속도가 결정되어 진다. 특히, 공급사슬 상에 다수의 공급업체들이 존재하는 경우, 새로운 기술의 도입을 고려중인 잠재적 대상은 기업 내부적 요인뿐만 아니라 다른 기업들과의 관계요인에 의해 결정되어지는데, 관계 요인에 의한 영향은 그 기업과의 물리적 또는 사회적 접근성에 의해 결정된다. 본 연구는 미국 유통산업 내 소비재제품제조업체(CPG)들에게 도입된 기업 간 네트워크 기술 중의 하나인 재고추적기술의 도입과 확산에 대한 실증적 분석을 통해, 잠재적 사용자의 기술 도입 결정이 초기에는 몇몇 기업들의 내부적 요인의 영향에 의해 확산이 되다가 점차적으로 사회적 접근성과 같은 관계요인에 의해 영향을 받으며 공급사슬 전체적으로 기술 확산이 일어나는 것을 확인하였다.

• 과학과기술
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• 제8권2호통권69호
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• pp.51-56
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• 1975

1.원자폭탄 가.핵분열 나.원자폭탄 2.수소폭탄 가.핵융합 나.수소폭탄 3.핵무기확산과 핵군추현황 가.핵무기 확산 나.핵무기확산방지조약

• 한국컴퓨터정보학회:학술대회논문집
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• 한국컴퓨터정보학회 2010년도 제42차 하계학술발표논문집 18권2호
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• pp.153-154
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• 2010

정보 통신망과 정보통신기기가 보급 확산되고 이들 기술의 발달을 바탕으로 전략적 차원에서 조직끼리 정보를 공유하는 조직간 시스템(Inter-organizational System : IOS)이 확산되고 있는데 그 대표적인 IOS 중의 하나가 바로 전자자료교환(EDI : electronic data interchange)이다. 본 논문에서는 EDI를 도입하고 있는 국내 기업들의 EDI 내 외부 확산정도에 영향을 미치는 EDI의 확산요인을 제시하고 이와 병행하여 EDI의 내 외부 확산정도에 따른 EDI의 조직성과를 규명한다. EDI를 내 외부적으로 확산시키기 위해서는 최고경영자의 EDI 사용에 대한 지원과 조직내 정보기술의 성숙이 필수적인 것으로 판명되었다. 또한 본 논문은 국내의 상항에 맞는 EDI의 확산요인을 제시함으로써 국내 기업들이 EDI를 좀 더 확산시킬 수 있는 데 기여하게 될 것이다.

• 전기의세계
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• 제43권12호
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• pp.46-54
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• 1994

본 문에서는 최근 여러방면에서 주목받고 있는 대역확산통신방식에 대해 살펴본다. 대역확산통신의 원리를 살펴보고, 대역확산통신의 여러가지 방식의 기본개념과 특징에 대해 알아본다. 또한 대역확산통신방식을 이용한 각종 응용에 대해 고찰해 본다.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제12권6호
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• pp.2522-2527
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• 2011

기술정책은 신기술 확산에 영향을 주는 중요한 요인 중의 하나이다. 본 연구의 목적은 기존의 전염병 확산 모형을 기초로 정책변수를 추가한 신기술 확산모형을 구축하고, 미국에서의 이산화탄소 배출 감소에 응용되는 고체조명(Solid-State Lighting) 기술을 사례로 실증연구를 진행하는 것이다. 실험결과, 정책변수는 정(+)의 영향을 미치는 것으로 나타났으며, 기술정책은 신기술의 확산에 추진 작용을 하는 것으로 나타났다. 이는 정책적 역할에 대한 정량적 이해를 도모하는데 있어서 정량적 판단을 위한 자료를 제공하고, 정책변수와 신기술 확산의 정량적 관계를 파악하는 데 도움이 될 것이다.

• 한국산학기술학회:학술대회논문집
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• 한국산학기술학회 2001년도 추계산학기술 심포지엄 및 학술대회 발표논문집
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• pp.220-223
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• 2001

본 논문은 인터넷과 통신매체의 확산과 더불어 최근에는 기업간, 기업과 정부간에 주로 정형적인 문서교환에 활용되던 초기의 EDI(Electronic Data Interchange)가 멀티미디어 정보교환이 가능한 인터넷의 보급, 확산과 함께 소비자를 대상으로 하는 전자상거래(EC : Electronic Commerce)로 급속히 확산되고 있으며, 이를 지원하기 위해 기업의 정보화 기반을 구현하는 ERP(Enterprise Resource Planning)도 요구되고 있다. 그러나, 전자상거래는 네트워크를 통하여 형성되므로 사용자들은 서로 만나지 않고 거래하게 된다. 이는 전자상거래의 장점이기도 하지만, 반대로 상호간의 신분에 대한 인증이 쉽지 않다는 단점이 된다. 본 논문에서는 이러한 위험을 방지하기 위한 보안기술 및 암호기술에 대해 연구하고자 한다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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• pp.179-179
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• 2010

다양한 분야에서 확산 방지막은 소자의 신뢰성 향상에 중요한 역할을 하고 있다. 최근 반도체에 적용되기 시작한 구리 배선 형성 공정에서도 실리콘이나 실리콘 산화막으로 구리가 확산하는 것을 방지하는 기술이 중요한 부분을 차지하고 있다. 기존 physical vapor deposition (PVD)법을 이용한 $TaN_x$ 확산 방지막 형성 기술이 성공적으로 적용되고 있으나 반도체의 최소선폭이 지속적으로 감소함에 따라 한계에 다다르고 있다. 20 nm 급과 그 이하의 구리 배선을 위해서는 5 nm 이하의 매우 얇고 높은 피복 단차율을 가진 확산 방지막 형성 기술이 요구된다. 또한, 요구 두께의 감소에 따라 더 우수한 확산 방지 특성이 요구된다. Atomic layer deposition (ALD)은 박막의 정교한 두께 조절이 가능하며 높은 종횡비를 가지는 구조에서도 균일한 박막 형성이 가능하다. 이번 연구에서는 다른 질소 함량을 가진 $TaN_x$ 박막을 Tertiarybutylimido tris (ethylamethlamino) tantalum (TBITEMAT) 전구체와 $H_2+N_2$ 반응성 플라즈마를 사용하여 plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) 법으로 형성하였다. 박막 내질소 함량에 따라 $TaN_x$의 상 (phase)과 미세구조 변화가 관찰되었고, 이러한 물성의 변화는 확산 방지 특성에 영향을 주었다. TEM (Transmission electron microscopy)과 SEM (scanning electron microscope), XPS (x-ray photoelectron spectroscopy)를 통해 $TaN_x$의 물성을 분석하였고, 300 도에서 700 도까지 열처리 후 XRD (x-ray deffraction)와 I-V test를 통해 확산 방지막의 열적 안정성이 평가되었다. PEALD를 통해 24 nm 크기의 trench 기판 위에 약 4 nm의 $TaN_x$ 확산 방지막이 매우 균일하게 형성할 수 있었으며 향후 구리 배선에 효과적으로 적용될 것으로 예상된다.