본 연구는 ICT 기술 중심의 연구개발조직에서 기술혁신의 인프라로서 전략기술로드맵(STRM)의 추진에 있어 주요한 성공요인을 고찰하는 것을 목적으로 수행되었다. 이를 위하여 전략기술로드맵의 개념과 특성을 밝히고 실제 기술개발조직에서 추진되어지는 프로세스와 실제 추진 성공요인을 조직역량이론을 중심으로 고찰하였다. 이러한 이론적 연구를 통하여 전략기술로드맵 추진성공에 영향을 미치는 주요 명제들을 도출하였다. 이를 통해 기술혁신을 추구하는 연구개발조직에서는 전략기술로드맵 성공을 위한 상위경영층의 지원, 핵심기술도출 및 로드맵 추진의 적절성 및 기술정보활용을 위한 조직내 역량을 강화시켜야 함을 고찰할 수 있었다. 전략기술로드맵(STRM) 추진시 성공을 위한 제반 조직적 요인을 고찰한 본 연구는 향후 기술역량의 지속적 탐색과 활용 및 기술혁신의 인프라로서 기술로드맵을 추진하려는 연구개발 조직에게 큰 함의를 제공할 수 있을 것으로 기대된다.
본고에서는 최근 전산망에서 빈번하게 발생하고 있는 패스워드 도용에 대한 기술적 대책을 수립하기 전에 반드시 고찰해보아야 할 관련 기술들을 살펴보고자 한다. 또한 각 관련 기술에 대한 보안 취약성을 분석하여 대응 기술을 개발하는데 있어서도, 이에 대한 기술적 이해를 돕고자 한다.
본 고에서는 일반 가정 및 소규모 업무용 가입자들을 대상으로 광대역 멀티미디어 서비스를 경제적으로 제공할 수 있는 ATM 기반의 디지털 Hybrid Fiber-Coax 망에 대한 표준화 동향을 분석하고, 양방향 통신 서비스를 수용하기 위한 기술적 사항에 대해 고찰한 내용을 기술한다.
Proceedings of the Korea Contents Association Conference
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2003.11a
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pp.72-78
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2003
In this paper, survey of technical methods for protecting intellectual properties and proposal of art works plagiarism detection are accomplished. For this, in this paper, a survey of technical methods for inspecting of program source code plagiarism, analysis of natural languages plagiarism types and existing inspection methods are accomplished Also, author verification system and plagiarism detection about ancient literatures or art works is proposed because of ancient literatures or art work are important in the aspect of cultural properties control, protecting of author's intellectual property and owner's property estimation.
최근 영국, 독일, 인도, 소련, 일본의 동해도 신간선등은 모두 상용주파수 교류전화로 시공되고 있으며 영국같은 나라는 종래의 직류 1,500volt 시설을 육성하고 교류방식으로 전환하고 있는 현상이다. 그러므로 우리나라의 철도전화문제도 국제표준화된 교류 25,000volt로 시행하기에 앞서 충분한 검토가 필요할 것이므로 필자는 본고에서 철도동력의 역학적 고찰이나 일반적 "전기철도공학"의 양해사항은 생략하고 주로 상용주파수 군상교류철도전화에 대한 기술적 제원의 문제점을 순차적으로 고찰하여 보기로 한다.하여 보기로 한다.
차세대 인터넷 기술 중의 하나인 IP 멀티캐스트는 시장에 진입해보기도 전에 그 빛을 잃어가고 있다. 본 고에서는 IP 멀티캐스트 시장실패 요인을 기술적인 고찰을 통해 시장 논리를 적용하여 풀어놓았다. 또한 멀티캐스트 기술과 시장의 전망에 대하여 살펴본다. 향후 멀티캐스트 통신서비스는 고전적인 IP 멀티캐스트 기술보다는 새로운 멀티캐스트 대안기술을 토대로 틈새시장을 통해 발전할 것으로 전망된다.
Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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2005.05a
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pp.201-207
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2005
디스플레이 장치를 제조함에 있어 Lithography 공정은 매우 중요한 공정으로 인식되고 있으나 아직까지 Lithography 장비의 국내 기술개발 수준은 선진사에 비해 많이 뒤져있다고 볼 수 있다. 최근 디스플레이 산업의 폭발적인 성장과 더불어 보다 확실하고 안정적인 생산을 위해서는 Lithography 장비의 국산화 기술개발이 시급한 상황이다. 본 연구는 Lithography 장비를 구성하는 핵심기술요소 중 Stage 최적화에 대하여 현재 국내외에서 개발된 또는 개발중인 제품들을 비교 분석하고, 최적화 설계를 위해 필요한 조건들에 대하여 고찰해보았다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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