• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.7 no.2
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• pp.13-19
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• 2000

Shear strengths of BGA solder joints on Cu pads were studied for Cu-containing Sn (0, 1.5, and 2.5 wt.% Cu) and Sn-40Pb (0 and 0.5wt.% Cu) solders, with emphasis on the roles of the Cu-Sn intermetallic layer thickness and the roughness of the interface between the intermetalic layer and solder. The shear strength test was performed for as-soldered solder joints with various soldering reaction times up to 4 min. The addition of Cu to the pure Sn solder results in an enhanced growth of the intermetallic layer whereas the effect of Cu addition to the Sn-40Pb solder is primarily on the reduction of the roughness of the intermetallic/solder interface. The critical thickness of the intermetallic layer for a maximum shear strength depends on the solder materials, which was measured to be ~ 2.3 $\mu\textrm{m}$ for Sn-Cu solders and ~ 1.2 $\mu\textrm{m}$ for Sn-Pb-Cu solders. The shear strength at the critical intermetallic layer thickness seems to increase as the intermetallic/solder interface becomes rougher. This is in accordance with the observation that the sheared fracture occurred initially within the solder tends to shift towards the intermetallic/solder interface as the intermetallic layer grows above the critical thickness.

• Proceedings of the Korean Society of Disaster Information Conference
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• 2016.11a
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• pp.271-274
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• 2016

본 논문에서는 오존층 파괴 및 지구 온난화에 악영향을 미치는 할로겐화합물 소화약제를 대체하여 개발된 청정소화약제인 할로겐화합물 청정소화약제(Halocarbon clean agent)의 열분해 생성물(thermal decomposition products)의 영향에 평가하고자 한다. 이를 위해 할로겐화합물 청정소화약제인 HFC-125가 화원 크기의 변화에 따른 열분해 생성물의 미치는 영향을 측정하기 위해 소화시험을 실시하였고 금속(철), 비철금속(구리), 유리 시편의 부식성과 전자부품(SD-Card) 작동여부를 평가 하였다. 금속 및 비철금속 시편의 부식성을 측정하기 위해 디지털 카메라를 통해 이미지를 촬영하고 그래픽 편집 소프트웨어를 이용하여 채도(saturation)를 측정하여 부식성의 정도를 분석하였다. 금속, 비철금소, 유리 시편의 부식성 분석 결과, 화원의 크기가 증가할수록 금속 및 비철금속의 부식성이 증가하였다. 즉, 화원의 크기(fire size)에 따라 열분해 생성물질도 증가하여 금속 및 비철금속의 부식을 증가시키는 것으로 사료된다.

• Journal of Environmental Health Sciences
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• v.22 no.1
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• pp.91-98
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• 1996

산업장이나 생활환경에서 접하기 쉬운 수용성 염화물을 중심으로 19개 원소 24종의 금속화합물이 Chinese Hamster Don 세포에 있어서의 sister chromatid exchange(SCE) 출현빈도에 미치는 영향을 조사하였다. Chinese Hamster Don 세포에 대한 자매염색분체 교환출현빈도의 증가가 $CrO_3, K_2CrO_4, K_2Cr_2O_7, MnCl_2, K_2SeO_3, CH_3HgCl$ (p<0.01), $CoCl_2, Na_2HAsO_4, HgCl_2$ (p<0.05) 9종의 금속화합물에서 나타났으며, dose-response relationships이 현저한 금속화합물은 6가 크로화합물과 $K_2SeO_3$이었다.

• Proceedings of the Korean Reliability Society Conference
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• 2000.04a
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• pp.97-103
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• 2000

전자 산업의 발달에 따라 전자 패키지에서 소자의 소형화 및 고집적화가 가속화되고 그로 인해 interconnection 부분의 신뢰성 평가의 중요성이 나날이 증가되고 있다. 특히 이러한 interconnection 부분 중 솔더 접합부는 사용중 솔더와 UBM(Under Bump Metallurgy) 층 사이에 금속간화합물이 생성되어 접합 강도가 저하되는 것이 큰 문제로 지적되고 있다. 본 연구에서는 공정 Sn-Ag 솔더 접합부에 대해 열시효 시간에 따라 접합 강도를 측정하고 파괴 기구 및 파괴 경로의 분석을 통해 접합 강도 변화와의 연관성을 도출하고자 하였다. 그 결과 열시효 초기에는 미세 조직의 조대화 및 불균일 조대 성장이 가속화되면서 응력 및 변형 집중으로 인해 솔더 내부에서 연성 파괴가 일어나 급격한 접합 강도의 저하가 발생하였으나 금속간 화합물이 생성, 성장함에 따라 금속간 화합물 내부에서의 취성 파괴가 나타나면서 접합 강도 저하가 포화되는 경향을 보였다.

• Journal of Welding and Joining
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• v.15 no.5
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• pp.21-24
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• 1997

화학증착법은 고융점의 경질재료, 고온재료, 고순도와 완벽한 결정성을 필요로 하는 반도체, 초전도체 및 투명전도체 등의 전자재료의 제조와 신소재 개발 등에 이용되고 있다. 그러나 1000.deg.C 부근의 고온에서 증착반응이 이루어짐으로 그 응용범위가 제한되어 있다. 이러한 제한점을 해결하기 위하여 증착온도를 낮추기 위한 방법으로 비교적 저온에서 분해가 가능한 금속유기 화합물을 반응물로 사용하여 증착반응 온도를 낮출 수가 있으며, 실제로 III-V 또는 II-VI 반도체 제조에는 금속유기 화합물에 의한 화학증착법을 이용하고 있으나, 고가의 금속유기 화합물을 사용하여야 하며 금속유기 화합물의 불안정성, 유독성 때문에 사용에 제한을 받고 있다. 최근에는 플라즈마를 부수에너지원으로 공급하여 줌으로써 증착반응의 온도를 더욱 낮추는 연구가 진행되고 있다.

• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.34 no.5
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• pp.430-437
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• 1990

Various tris (${\eta}^4$-diene) molybdenums were easily synthesized by the reaction of various 1,3-dienes and molybdenum metal vapors by using metal atom reactor. The methyl substituent effect of the tris (${\eta}^4$-diene) molybdenum produced were discussed. And some alkadiene-molybdenum complexes which were easily decomposed in the air at room temperature were also formed.(C$_6$H$_{10}$)$_2$(CO)$_3$Mo were synthesized and its molybdenum-diene bond type were discussed.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2007.11a
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• pp.161-161
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• 2007

금속 게이트 전극으로 활용하기 위해서 두 가지의 금속박막으로 구성된 이중 금속층을 D.C. Magnetron sputtering 방식으로 증착하여 MOSCAP을 제작하였다. 박막의 적층 구조 및 열처리에 따른 계면반응을 AES, XPS를 통해 분석하였고, XRD 측정을 통해 결정상을 분석하였다. 또한 박막의 두께 및 열처리에 따른 전기적 특성과 workfunction 변화를 관찰하기 위해 I-V, C-V 분석을 진행하였다. 열처리 전후의 이중 금속층의 workfunction은 두 금속층의 확산의 정도에 따라서 열처리 전에는 하위금속층의 workfunction에서 열처리 후에는 상위금속층의 workfunction 값과의 중간값으로 변화하였다. 또한 열처리에 따라 두 금속층 중간에 새로운 금속간 화합물이 형성될 경우 이중 금속층의 workfunction은 새로운 금속간 화합물의 workfuction 값을 나타내었다.

• Composites Research
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• v.16 no.3
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• pp.68-74
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• 2003

In this paper, intermetallic/metal laminated composites have been successfully produced that utilizes SHS reactions between Ni and Al elemental metal foils. The reaction between Ni and Al started from the nucleation and growth of NiA1$_3$ and was followed by the diffusional growth of Ni$_2$A1$_3$ between Ni and NiA1$_3$. The SHS reaction was thermodynamically analyzed through the final volume fraction of the non-reacted Al related with the initial thickness ratio of Ni:Al and prior heat treatment. Thermally aging these 1aminates resulted in formation of a functionally gradient series of intermetallic phases. Microstructure showed that the intermetallic volume percent was 82, 59.5, 40% in the 1:1, 2:1, 4:1 thickness ratio specimen. Main phases of the intermetallic were NiAl and Ni$_3$Al having higher strength at room and high temperatures.

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.9 no.2
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• pp.1-9
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• 2002

The intermetallic formation between Sn-Ag-(Cu) solders and metal pads in a real BGA package was characterized using SEM, EDS, and XRD. The intermetallic phase formed in the interface between Sn-Ag-Cu and Au/Ni/Cu pad is likely to be ternary compound of $(Cu,Ni)_6Sn_5$ from EDS analysis High concentration of Cu was observed in the solder/Ni interface. XRD analysis confirmed that $\eta -Cu_6 Sn_5$ type was intermetallic phase formed in the interface between Cu containing solders and Ni substrates and $Ni_3$Sn_4$ intermetallic was formed in the Sn-Ag solder/Ni interface. The thickness of intermetallic phase increased with the reflow times and Cu concentration in solder.

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.12 no.1 s.34
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• pp.41-46
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• 2005

A systematic investigation of shear testing was conducted to find a relationship between Ni-Sn intermetallic spatting and the brittle fracture observed in electroless Ni(P)/solder interconnection. Brittle fracture was found in the solder joints made of Sn-3.5Ag, while only ductile fracture was observed in a Cu-containing solder (Sn-3.0Ag-0.5Cu). For Sn-3.0Ag-0.5Cu joints, $(Ni,Cu)_3Sn_4$ and/or $(Cu,Ni)_6Sn_5$ compound were formed at the interface without spatting from the Ni(P) film. For Sn-3.5Ag, $Ni_3Sn_4$ compound was formed and brittle fracture occurred in solder pads where $Ni_3Sn_4$ had spalled. From the analysis of fractured surfaces, it was found that the brittle fracture occurs through the $Ni_3SnP$ layer formed between $Ni_3Sn_4$ intermetallic layer and the Ni(P) film. Since the $Ni_3SnP$ layer is getting thicker during/ after $Ni_3Sn_4$ spatting, suppression of $Ni_3Sn_4$ spatting is crucial to ensure the reliability of Ni(P)/solder system.