• 제목/요약/키워드: 광학적 방법

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신경회로망의 광학적 구현 (Optical Implementation of Neural Neworks)

  • 김흥만;정재우
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 1991년도 광학 및 양자전자학 워크샵
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    • pp.55-59
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    • 1991
  • 신경회로망은 뒤뇌의 신경조직이 갖는 병렬적이며 분산적인 정보처리 능력을 흉내낸 인공적인 회로망이다. 이러한 신경회로망을 영상인식, 음성인식, 적응제어 및 최적화등에 응용할 경우 지금까지 얻지 못하였던 우수한 여러 가지 특성을 얻을수 있음을 알려짐에 따라 신경회로망을 구체적으로 구현하고자 하는 연구가 활발히 이루어지고 있다. 본 고에서는 신경소자간의 연결세기의 변조에 의한 학습 원리를 설명하고 광전기적인 그현방법에 대해서 몇 개의 예를 들어 설명하고 그 발전 가능성에 대하여 기술하였다.

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기획특집 (2) 레이저 디스플레이 산업 동향 - 조명광학계로서 본 레이저 프로젝터에 대한 스펙클 제거 방법

  • 한국광학기기협회
    • 광학세계
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    • 통권134호
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    • pp.26-31
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    • 2011
  • 레이저 프로젝터에서 스크린을 조사할 경우 원리적으로 광 손실이 크기 때문에 발생한 스펙클은 시간적으로 독립적인 다수의 스펙클 패턴을 화상에 중첩해서 그 평균 조작에 의해서만 본격적으로 저감할 수 있다. 평균조작에 대한 매우 높은 시간적 다중도를 실현하는 수단으로서 스크린 투영광로 중에 삽입한 확산판을 정현함수적으로 진동시키는 진동확산판 방식이 유망하다. 이 원고는 Kubota Shigeo 교수(도쿄대학 생산기술연구소 1부)가 월간 Optronics(통권 349호)에 기고한 내용으로, 필자는 향후 이러한 전자 액추에이터가 Miniature화 되고, 스펙클 저감 디바이스로서 보급되기를 바란다고 밝혔다.

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넓은 밴드갭을 갖는 인듐-갈륨-아연 산화막의 광학적 및 전기적 특성에 대한 연구

  • 장경수;백경현;최우진;안시현;이준신
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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    • pp.296-296
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    • 2011
  • 기존에 디스플레이 적용을 위한 TFT의 채널 영역에 널리 이용되고 있는 산화물 반도체의 밴드갭은 약 3.3eV이다. 현재 밴드갭을 증가시키기 위한 연구가 널리 진행 중이며, Mg등의 도핑을 통해 증가시키는 방법이 있다. 기본 sputtering 공정을 이용한 Eg 증가에 대한 연구가 없지만, 이번 연구에서는 가스비, 파워 등의 기본 공정 가변을 통하여 밴드갭 증가와 이를 이용한 광학적 및 전기적 특성을 비교 분석하였다.

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이온 보조 증착에 의한 광박막의 제작과 특성 (Preparation and Characterization of Optical Thin Films by Ion-assisted Deposition)

  • 황보창권
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 1989년도 광학 및 양자전자학 워크샵
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    • pp.84-93
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    • 1989
  • 광박막의 광학적, 기계적 및 화학적 특성은 bulk에 비해 떨어지며, 제작된 광박막의 특성이 설계치보다 못한경우도 때로 관측된다. 이러한 문제점의 대부분이 광막박의 고유 구조인 기둥 미세 구조로부터 기인한다. 광박막의 기둥구조를 변화시켜 bulk의 특성에 가깝게 가는 방법으로 시행되고 있는 여러 기술중, 광박막계에 비교적 큰 변화를 가져온 이온보조 증착 기술과 이에의해 제작된 광박막의 특성 및 앞으로의 전망에 관한여 알아본다.

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나노 임프린트 공정에서의 기계적 물성 측정 (Mechanical Property Measurement in Nano Imprint Process)

  • 김재현;이학주;최병익;강재윤;오충석
    • 한국정밀공학회지
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    • 제21권6호
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    • pp.7-14
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    • 2004
  • 나노 임프린트 기술은 기존의 광학적 리소그라피 (optical lithography) 기술보다 저렴한 비용으로 나노 구조물을 대량으로 제조할 수 있을 것으로 기대되고 있는 기술이다. 현재까지 반도체 공정기술의 주류를 이루고 있는 광학적인 리소그라피 기술은, 100nm이상의 CD(Critical Dimension)를 가지는 구조물들을 정밀하게 제조하여, 미소전자공학 (microelectronics) 소자, MEMS/MEMS, 광학소자 등의 제품들을 대량으로 생산하는 데에 널리 활용되고 있다. 반도체 소자의 고집적화 경향에 따라 100 nm 이하의 CD를 가지는 나노 구조물들을 제조할 필요성이 높아지고 있지만, 광학적인 방법으로는 광원의 파장보다 작은 구조물들을 제조하기가 어렵다. 보다 짧은 파장을 가지는 광원을 이용하는 리소그라피 장비가 계속적으로 개발되고 있으나, 그에 따른 장비 비용 및 제조 단가가 기하급수적으로 증가하고 있다.(중략)

PEDOT:PSS의 성막방법에 따른 유기태양전지용 ITO 투명전극과 PEDOT:PSS의 계면반응 연구

  • 김효중;이주현;김한기
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.329-329
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    • 2013
  • 본 연구에서는 PEDOT:PSS와 crystalline-ITO (c-ITO) 박막 계면에서의 화학적 반응을(박리 및 용해 특성)을 관찰하기위해 spin-coating 및 droplet dropping을 통하여 PEDOT:PSS 용액을 코팅하고 이후 화학적 거동에 따른 전기적, 광학적 및 구조적 특성 변화를 관찰하였다. 강산성을 띄는 PEDOT:PSS (Al 4083) 박막의 코팅 전, 0.4T sodalime glass 위에 열처리를 통하여 성막된 c-ITO 투명전극을 15분 동안 상압 오존 공정을 통하여 계면처리함으로써 다른 변수의 영향을 배제하였으며, 표면 처리 후 spin-coating 및 droplet dropping method를 통하여 PEDOT:PSS를 코팅하여 c-ITO와 PEDOT:PSS 계면사이의 화학적 반응의 영향을 시간 경과에 따라 분석하였다. PEDOT:PSS 코팅 후 솔밴트 제거를 위해 hot plate를 이용하여 $110^{\circ}C$로 열처리되었다. Spin-coating 방법과는 달리 droplet dropping 방법을 통해 형성된 c-ITO 투명전극/PEDOT:PSS 계면에서는 spin coating에서 적용된 동일한 공정변수적용에도 불구하고 PEDOT:PSS의 산성으로 인한 ITO 투명전극 표면에서의 화학적 조성변화가(In, Sn, O의 조성의 변화) 발생됨을 x-ray photoelectron spectroscopy 결과를 통해 확인하였다. 뿐만 아니라 계면 조성반응 변화에 따른 전기적 특성 및 광학적 투과율의 열화가 발생됨을 Hall measurement 측정과 UV/Vis spectrometer 결과를 통하여 도출하였다. 본 결과를 통해 c-ITO/PEDOT:PSS 사이에서 발생되는 내산특성/계면 화학변화가 유기태양전지에서의 산화물 투명전극과 유기물 계면 열화현상에 영향을 받을 수 있음을 나타낸다.

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Cu-Pc 박막의 성장 조건에 따른 phase transition 현상 및 전기적.광학적 특성

  • 강상백;채영안;윤창선;김미정;김진태;차덕준
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.230-230
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    • 2010
  • 유기물 반도체 화합물인 Cu-Pc(copper(II)-phthalocyanine)는 우수한 전기적 광학적 특성을 가지며, OLED, MISFET등 소자로서의 활용도가 높다. Cu-Pc 화합물은 $\alpha$-phase, $\beta$-phase, $\gamma$-phase를 포함하는 여러 가지 다결정 polymer로 존재할 수 있다. 가장 잘 알려진 구조로는 열적으로 준안정적인 $\alpha$-phase와 열적으로 안정적인 $\beta$-phase가 있다. Cu-Pc 박막의 구조 및 흡수 특성과 전기적 특성에 대한 기술이 확실히 규명되지 않아 본 연구에서는 두께와 열처리 조건에 따른 결정성 및 방향성을 조사하기 위하여 $\alpha$-phase와 $\beta$-phase의 phase transition 현상 및 전기적 광학적 특성을 규명 하고자 한다. 진공증착 방법 중 하나인 PVD 방법의 thermal evaporation deposition을 이용하여 glass, ITO 기판위에 두께와 열처리에 따른 전기적?광학적 특성을 연구하였다. Cu-Pc 박막의 성장두께는 5nm~50nm 이내로 fluxmeter 및 thickness monitor를 이용하여 제어하였다. 5nm~50nm의 두께에 따른 기판온도를 $200^{\circ}C$로 고정하여 전열 처리 및 후열 처리하여 온도에 따른 박막을 성장한 후, 결정 구조 및 특성 변화와 phase transition 분석하였다. 제작된 Cu-Pc의 박막은 $\alpha$-phase와 $\beta$-phase로 구분할 수 있으며, 열처리에 따른 phase transition 현상이 뚜렷함을 알 수 있다. XRD(X-ray diffraction)를 통하여 박막에 대한 결정 구조 분석 및 FE-SEM(field emission scanning electron microscopy)와 AFM(atomic force microscopy)을 이용하여 Cu-Pc 박막의 구조적 결정성과 방향성 등, 표면 상태와 형상구조에 대해 표면의 특성을 측정하며, 광 흡수도(UV-visible absorption spectra)을 이용하여 phase transition 현상에 따른 I-V 특성을 비교분석 하였다.

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전자 전단 간섭법을 이용한 압력용기의 내부결함 측정에 관한 연구(II) (전자 전단 간섭법을 이용한 압력용기의 내부결함 검출 시스템의 오차 분석) (A Study on Measurement of Internal Defects of Pressure Vessel by Digital Shearography(II))

  • 강영준;박낙규;유원재;김동우
    • 비파괴검사학회지
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    • 제22권4호
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    • pp.402-410
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    • 2002
  • 산업 현장에서 사용되는 배관이나 압력용기의 결함 검출은 시설의 안정적 운용에 기본적이며 중요한 문제이다. 전자 전단 간섭법은 결함 검출에 사용되고 있는 기존의 비 광학적 검사방법에 대한 여러 가지 장점들 뿐 만 아니라 전자 전단 간섭법 외의 다른 광학적 방법보다 외란에 둔감하여 산업 현장 적용성이 비교적 높다는 장점을 가지고 있다. 이에 본 논문의 전편 "전자 전단 간섭법을 이용한 압력용기의 내부결함 측정에 관한 연구(I)"에서는 압력 용기에 내부에 존재하는 결함을 검출하는데 전자 전단 간섭법을 적용하여 보았으며 결함부의 변형률을 3차원으로 가시화 하였다. 이에 더하여 본 논문에서는 전편에서 구성한 광학계를 바탕으로 결합의 길이를 구하고 결항의 조건과 가압력 등의 변화를 주어 시스템의 오차를 분석하고 그 측정한계를 규정하기 위한 실험을 수행하였다.

광학관측 데이터를 통한 위성의 예비궤도 결정 및 위성 추적을 위한 광학 관측소 배치 연구

  • 이우경;임형철;윤재혁;박필호;임홍서;문홍규;한원용
    • 한국우주과학회:학술대회논문집(한국우주과학회보)
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    • 한국우주과학회 2004년도 한국우주과학회보 제13권1호
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    • pp.62-62
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    • 2004
  • 망원경을 이용하는 위성의 광학관측으로부터 적경과 적위 또는 방위각과 고도각의 관측데이터를 얻을 수 있다. 이러한 세 쌍의 관측데이터를 이용해 위성의 궤도를 결정하는 방법을 예비궤도 결정법이라 하는데, Laplace, Gauss 및 double r-iteration 방법이 있다. 위성의 정밀궤도 결정을 위해서 광학, 레이더 및 레이저를 이용한 다수의 관측데이터가 필요하며, 특히 위성의 초기 궤도정보가 반드시 요구되는데, 이는 예비궤도 결정법을 통해서 얻을 수 있다. (중략)

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광삼각법에 의한 비접촉식 변위센서의 설계에 대한 연구

  • 김승우;임동열;정승배;이재윤
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 1996년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.41-45
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    • 1996
  • 비접촉방법데 의한 변위 측정기술은 공작물의 가공중(in-process)형상치수의 측정 또는 각종 계 측에 대한 자동화기술의 필요성이 증대됨에 따라 다양한 원리를 응용하여 발전되고 있다. 전통적인 방법으로는 가변 리럭턴스(variable reluctance)형, 와전류(eddy current)형, 콘덴서(capacitance)형 등의 전기적 센서들이 주를 이루고 있으나 최근에 들어서는 광전자기술의 발달에 힘입어 여러 광학 측정법들이 연구되어 실용화 되고 있다. 본 연구에서는 측정자동화 용도로 사용될 수있는 광삼각법에 의한 비접촉방식의 광학센서에 대한 기본 연구 결과를 서술하였다. 광삼각 비접촉 측정의 기본 원리와 측정 범위 및 분해능 관점에서의 센서 설계의 기본 방법을 제시하며 또한, 실제적인 센서의 설계 및 제작을 위해 응용될 수 있는 기본광학소자의 현 기술적 수준과 성능을 기술하였다. 최종적으로는 실제적인 센서의 설계제작 과정과 시제품의 성능 실험을 통한 응용 가능성이 검토되었다.