• 제목/요약/키워드: 광학적방법

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유도결합플라즈마 공정에서 조건별 플라즈마 방출광 세기 변화에 따른 전자온도의 전기적, 광학적 진단에 관한 연구

  • 이예슬;박혜진;최진우;김우재;황상혁;조태훈;윤명수;권기청
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.215.1-215.1
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    • 2016
  • 플라즈마는 반도체, 디스플레이, 태양전지 등 다양한 산업 분야에 이용된다. 플라즈마 공정 시 수율 향상을 위해 플라즈마를 진단하는 기술이 필요한데, 대표적으로 전자온도가 있다. 반도체 공정의 낮은 압력과 높은 밀도의 플라즈마에서 전자온도는 1~10 eV 정도인데, 0.5 eV정도의 아주 적은 차이로도 공정 결과에 큰 영향을 미친다. 플라즈마의 전자온도를 측정하는 방법은 전기적 탐침 방법인 랑뮤어 탐침(Langmuir Probe)과 와이즈 프로브(Wise Probe)를 이용한 방법, 그리고 광학적 방법인 방출분광법(OES : Optical Emission Spectroscopy)이 있다. 전기적 탐침 방법은 직접 플라즈마 내부에 탐침을 넣기 때문에 불활성 기체를 사용한 공정에서는 잘 작동하지만 건식식각이나 증착에 사용할 경우 탐침의 오염으로 인한 오동작, 공정 시 생성된 샘플에 영향을 줄 수 있다는 단점이 있다. 반면에 방출분광법은 광학적 진단으로, 플라즈마를 사용하는 공정 진행 중에 외부에 광학계를 설치하여 플라즈마에서 발생하는 빛을 광학적으로 분석하기 때문에 공정에 영향을 미치지 않고, 공정 장비에 적용이 쉬운 장점을 가지고 있다. 본 연구에서는 RF Power를 인가한 유도결합플라즈마(ICP : Inductively Coupled Plasma) 공정에서 아르곤 가스와 산소 혼합가스 분압과 인가전압을 변화시켜 플라즈마 방출광 세기 변화에 따른 전자온도를 측정하였다. 전자온도 측정에는 전기적 방법인 랑뮤어 탐침, 와이즈 프로브를 이용한 방법과 광학적 방법인 방출분광법을 사용하여 측정하였으며 이를 비교 분석하였다.

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XOR 연산의 자유 공간 병렬 처리를 이용한 광학적 CBC 블록 암호화 기법 (Optical CBC Block Encryption Method using Free Space Parallel Processing of XOR Operations)

  • 길상근
    • 한국광학회지
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    • 제24권5호
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    • pp.262-270
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    • 2013
  • 본 논문에서는 블록암호화의 CBC(Cipher Block Chaining) 방식을 광학적인 XOR 연산을 이용하여 새로운 변형된 CBC 암호화 및 복호화 시스템을 제안한다. 제안한 방법은 광학적 XOR 연산의 병렬 처리를 위해 이중 인코딩 방법과 자유 공간 연결 광논리 게이트 방법을 사용한다. 또한 제안된 XOR 연산 기반의 CBC 암호화 방식의 광학적 구성도를 공학적으로 실제 제작 구현 가능한 광 모듈 형태의 광 암호화/복호화 장치로 제안한다. 제안된 방법은 기존의 CBC 방식을 광학적으로 구현했기 때문에 기존의 전자적인 CBC 방식의 장점과 광학적인 고속성과 병렬 처리의 특성으로 인해 많은 정보를 빠른 속도로 암호화 및 복호화가 가능하다. 또한, 광 병렬 처리의 특성상 데이터가 2차원으로 배열되어 데이타 크기가 증가된 평문 데이터와 암호키를 사용함으로써 기존의 전자적 CBC 방식보다도 한층 더 암호 강도가 강력해진 암호화 시스템을 제공한다. 컴퓨터 시뮬레이션 결과는 제안한 기법이 CBC 모드의 암호화 및 복호화 과정에 효율적임을 보여준다. 한편 제안된 방식은 CBC 방식 외에 ECB(Electronic Code Book) 방식과 CFB(Cipher Feedback Block) 방식에도 적용할 수 있다.

트와이만-그린 간섭계를 이용한 CCD의 MTF 값과 줌 렌즈를 이용한 CCD의 MTF 값 측정 비교. (MTF comparision of CCD camera measured by two methods: Twyman-Green interferometer method and zoom lens method with three sinusoidal gratings)

  • 홍성목;조재흥;임천석;이윤우;이회윤
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2003년도 하계학술발표회
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    • pp.28-29
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    • 2003
  • 각종 렌즈 및 카메라, 망원경, 현미경 등 다양한 광학계들이 설계 및 개발 되고 있는 시점에서 그 성능을 정확하게 평가하는 것이 매우 중요하다. 광학계의 성능 평가를 위해서는 크게 정성적인 방법과 정량적인 방법으로 나눌 수 있는데, 정성적인 방법에 의한 평가는 분해능 표판이나 주기적인 격자의 상을 스크린 등에 결상시킨 후 사람의 눈을 통해서 한계 분해능을 평가하는 방법이다. 정량적인 방법에 의한 평가는 OTF(Optical Transfer Function)를 측정하거나 설계 자료를 통해 계산해 내는 것이다. (중략)

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단순 반사 방법을 이용한 NLO polymer의 전기광학 계수 측정 (Simple reflection technique for measuring the electro-optic coefficient of NLO polymer)

  • 지이권;이용산;조형준;윤국로;임종선;박광서
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2000년도 제11회 정기총회 및 00년 동계학술발표회 논문집
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    • pp.148-149
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    • 2000
  • 유기 고분자는 기존 무기물질의 한계성을 감안해 볼 때, 전기 및 광학적 특성이 우수하여 이에 대한 연구가 매우 활발히 진행되고 있다. 이중에서 Azo 화합물은 특별한 물리적, 광학적 성질과 그 잠재적인 응용성 때문에 계속해서 지금도 많은 관심을 끌고 있다. 그래서 Azo 화합물은 액정과 함께 비선형 광학성질을 가지는 물질에 응용될 수 있으며, 또한 광 유도현상의 이색성(dichroism)및 복굴절(birefringence) 현상 같은 특성을 나타내고 있다.$^{l)2)3)}$ 선형 광학 실험중에서 단순 입사 방법$^{4)}$ 을 이용하여 전기 광학 계수를 측정하였으며, 다시 확장 지수함수(stretched exponential)모델$^{5)}$ 로써 극화(poling)와 완화(relaxation)의 꼴을 보았다. (중략)

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Micro-Lithography의 광학적 원리 (Optical Principle of Microlithography system)

  • 이성묵;임동규
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 1991년도 광학 및 양자전자학 워크샵
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    • pp.109-114
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    • 1991
  • 좋은(sub=micron) 분해능을 갖는 Photoresist film의 방법에 의한 Micro-Lithography의 발달은 반도체, Electro-Optic 등의 첨단산업에 큰 기여를 하였다. 본 내용은 이러한 PR을 이용한 Lithography System의 광학적인 원리에 대해 소개하고자 한다.

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효모와 정밀화학 - 효모의 연구동향

  • 서영배;고영희
    • 미생물과산업
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    • 제19권4호
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    • pp.62-67
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    • 1993
  • 의약품을 중심으로 한 광학활성 생리활성물질의 제조 즉, 정밀유기합성은 정밀화학의 꽃이라 할 수 있다. 이러한 광학활성물질은 통상의 유기화학적 수법으로 합성하면 라세미체로 얻어지고 광학활성체로 얻을 수 없다. 그래서 최근 chiral 중심을 가지는 간단한 화합물(광학활성합성원료-chiral building block, chiral synthon)을 원료로 해서 입체 선택적으로 반응을 조절함으로써 다양한 광학활성표적 화합물을 합성하는 방법이 활발히 진행되고 있다. chiral building block의 제조 방법을 살펴보기로하자.

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광학적 방법에 의한 이산화티타늄 박막의 굴절율, 소광계수 결정 및 증착 방법에 따 른 조밀도 변화 (Determination of refractive index, extinction coefficient of TiO2 thin films using optical methods and packing density variation with growth technique)

  • 김현종;방현용;김상열
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 1996년도 Advance Program of 13th optics andquantum Electronics conference, 1996제13 회 광학 및 양자전자 학술 발표회 논문 요약집
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    • pp.4-4
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    • 1996
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고진공 반응이온 마그네트론 스퍼터링으로 증착된 $TiO_2$ 박막의 광학적, 구조적 특성 (Optical and structural properties of $TiO_2$ thin films by high-vacuum reactive magnetron sputtering)

  • 김성화;이인선;황보창권
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2000년도 하계학술발표회
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    • pp.170-171
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    • 2000
  • 최근 광 응용기술, 레이저 및 광통신 기술이 빠르게 발전함에 따라 고부가 가치 광학박막의 규격이 높아지고 있으며, 덩어리와 같은 광학적, 기계적 특성을 갖는 광학박막이 요구되고 있다. 일반적으로 이러한 성능을 만족하는 광학박막을 제작하기 위해 전자빔으로 증발되어 기판에 증착되는 박막에 직접 산소 이온을 이온총을 이용하여 기판에 쏘아줌으로써 양질의 산화박막을 제작하는 이온빔 보조 증착법이 가장 많이 적용되고 있다. 여기서 이온빔은 증착되는 박막의 기둥구조를 파괴시켜 원래의 덩어리(bulk)에 가까운 성질을 갖는 조밀한 박막을 제작하는데 이용된다. 좀더 조밀한 박막을 만들어 덩어리에 가까운 성질을 갖도록 하기 위해서는 박막을 형성하는 이온들의 이온에너지를 높여주어야 하는데, 그 방법으로 이온빔 스퍼터링이나 RF 또는 DC 마그네트론 스퍼터링 방법 등이 있으며, 최근에는 medium frequency에 의한 twin-마그네트론 스퍼터링 기술을 이용하기도 한다$^{(1 4)}$ . (중략)

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RF 소자의 표면탄성파 공진에 대한 광학적 측정 (Optical metrology for resonant surface acoustic wave in RF device)

  • 박준오;장원권
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제11권9호
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    • pp.3435-3440
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    • 2010
  • 표면탄성파를 이용한 RF소자의 성능을 단순히 작동 유무로만 평가할 수 있는 전기적인 성능 평가방법과 달리 위치에 따른 표면탄성파의 형성 정도를 실시간으로 검사할 수 있는 광학적 방법을 제시하였다. 광학적 방법을 이용한 표면 탄성파의 측정 조건과 한계를 제시하였고 간섭 및 회절 현상을 이용하여 RF신호의 입력 유무에 따른 광학적 해석을 하였다. 단일 모드 레이저를 이용하여 중심 주파수가 105MHz인 중계기 필터의 동작을 실험적으로 측정하고 이론적으로 분석하였다. 본 논문에서는 다기능 서비스를 제공하는 복합 주파수 RF 모듈의 고품질화를 위한 방법으로 표면탄성파의 에너지 분포를 시각화하고 실시간으로 평가할 수 있는 광학적 방법을 제시하였다.