• Title/Summary/Keyword: 광학상수

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Determination of Optical Constants and Thickness of Optical Thin Films Using Surface Plasmon Resonance (표면 플라즈몬 공명을 이용한 광학 박막의 광학 상수와 두께 결정)

  • 최철재
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 1991.06a
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    • pp.90-93
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    • 1991
  • 일곤 레이저의 두 파장(488 nm, 514.5 nm)을 사용하여 은 박막과 은 박막 위에 덧증착한 ZnS 박막의 유일한 광학 상수와 두께를 Kretschmann 구조의 표면 플라즈몬 공명을 이용하여 결정하였다.

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Determination of Optical Constants and Thickness of Thin Metal Films by Measurement of Surface Plasmon Resonance (표면 플라즈몬 공명 측정에 의한 금속 박막의 광학 상수와 두께 결정)

  • 황보창권;최철재;최동철
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.2 no.2
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    • pp.59-66
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    • 1991
  • Resonance angle and optimum thinckness of various thin metal films for surface plasmon resonance were calculated using an admittance diagram and optical constants and thickness of thin Ag films and Al films were determined by fitting the measured reflectance of surface plasmon resonance. Two wavelengths of an Ar ion laser were employed to select the unique optical constants which have the same thickness at two wavelengths. Also, when these films were exposed to the air, the shift of surface plasmon resonance was measured and the optical constants of modified thin films were determined.

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Determination of Optical Constants of Amorphous $As_2S_3$ Thin Film by Transmission Spectrum ($As_2S_3$박막의 투과 스펙트럼을 이용한 광학 상수와 특성 조사)

  • 우성용;이상조;김건엽;곽종훈
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2003.02a
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    • pp.18-19
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    • 2003
  • 비정질 As$_2$S$_3$박막에 레이저광의 조사에 대한 투과율 변화는 굴절률과 흡수계수 변화 등의 비선형 광학 특성에 대한 많은 정보를 제공해준다. 투과 스펙트럼을 측정하여 비정질 As$_2$S$_3$ 박막의 광학 상수를 결정하는 일은 간단하면서도 신뢰도 높은 값들을 얻을 수있게 한다. 본 실험에서는 비정질 As$_2$S$_3$ 박막을 진공 증착법을 이용하여 제작하고, 스펙트로포터미터를 사용하여 박막이론에 따른 굴절률, 흡수계수, 박막의 두께 및 조사된 레이저광에 의한 광학적 상수의 변화등을 측정하였다. (중략)

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Determination Of Optical Constants and Thickness of Weakly Absorbing Thin Films Using An Envelope Method (포락선 방법을 이용한 흡수가 작은 박막의 광학 상수 및 두께 결정)

  • 황보창권;진권휘;박대윤;이민희
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.3 no.1
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    • pp.1-10
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    • 1992
  • A simple formula of the envelope method, which uses two envelopes fitted to the transmittance at quarter- and half-wave optical thicknesses, is derived to determine the optical constants (refractive index and extinction coefficient) and the thickness of weakly absorbing thin films. We applied the envelope method to ZnS and SiOx films deposited in a vacuum chamber and determined the optical constants at different deposition conditions. For SiOx films, the decrease in refractive index is consistent with the increase in stoichiometry as the backfilled oxygen pressure increases.

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극 자외선 리소그래피용 감쇠형 위상 변위 마스크를 위한 ITO 박막의 광학 상수 결정

  • Gang, Hui-Yeong;Kim, Mi-Gyeong;HwangBo, Chang-Gwon
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2008.02a
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    • pp.279-280
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    • 2008
  • 극자외선 영역(${\lambda}$=13.5 nm)에서 기하학적 그림자 효과를 줄이기 위해 ITO 박막을 RF 스퍼터링을 사용하여 증착하였다. 이를 러더퍼드 후방산란 분석법과 X-선 반사율 분석법을 이용하여 극 자외선 영역에서 ITO 박막의 광학상수를 결정하였다.

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Optical constant of the reduced eye based on theoretical finite model eye (이론적 정밀모형안에 기초한 환산모형안의 광학상수)

  • 김상기
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.15 no.3
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    • pp.268-273
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    • 2004
  • A finite model eye based on longitudinal spherical aberration is designed by an optimization method. Longitudinal spherical aberration for pupil diameter between 1 mm and 8 mm is graphed theoretically and compared with other model eyes. The chromatic dispersions are adjusted to fit experimentally observed chromatic aberration of the eye. This is a finite model eye with four a spheric refracting surfaces. It has an effective focal length of 15.842 mm. A designed reduced eye has an equivalent power of 63.12 Diopter, curvature radius of 5.281 mm, index of 1.33333, and axial length of 21.123 mm.

Thermal Annealing Condition Dependence of Ion-implanted Silicon Recrystallization (열처리 조건에 따른 이온주입된 실리콘의 재결정화)

  • 이창희;이순일
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.4 no.4
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    • pp.386-393
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    • 1995
  • 이온주입된 실리콘 시료들의 열처리 조건에 따른 재결정화를 분광 타원해석법(Spectroscopic Ellipsometry, SE)을 사용하여 연구하였다. 열처리 후에도 잔류하는 결함들의 양과 분포를 구하기 위한 시료의 층구조 분석에 있어서 손상층의 유효굴절율은 Bruggeman 유효매질이론을 이용하여 구하였으며 기준 비정질실리콘 데이터로서는 완화된 비정질실리콘의 광학상수와 이온주입에 의해서 만들어진 비정질 실리콘의 광학상수를 함께 사용하였다. 조사된 대부분의 열처리 조건하에서 고체상 적층성장(solid-phase epitaxial growth)과정에 따라 비정질층이 재결정화되는 것이 관측되었다.

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