• 대한화학회지
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• 제48권1호
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• pp.39-45
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• 2004

산에 민감한 작용기를 갖는 tert-butyl methacrylate(tBMA)와 산 증식 기능을 갖는 4-hydroxy-4''p-styrenesulfonyloxyisopropylidene dicyclohexane(HSI)과 4-p-styrenesulfonyloxy-4''-tosyloxyisopropylidene dicyclohexane (STI)를 둘 다 함께 갖고 있는 공중합체를 새로운 고분자 산증식형 포토레지스트로 합성하였다. 산증식형 공중합체인 Poly(HSI-co-tBMA) film과 Poly(STI-co-tBMA) film은 산의 부재 시에는 레지스트 공정 온도에 대하여 충분한 열적 안정성을 나타내었다. Poly(STI-co-tBMA) film의 감도는 tBMA homopolymer에 비교하여 2배 정도 증진되었지만, Poly(HSI-co-tBMA) film은 오히려 2배 정도 감도가 저하되는 결과를 나타내었다. 고분자에 도입한 이러한 산증식 기능을 갖는 그룹의 구조에 따라 광감도 증진 효과가 다르게 나타남을 확인하였다.