• Title/Summary/Keyword: 거칠기 효과

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Accurate Signal Integrity Verification of Transmission Lines Based on High-Frequency Measurement (고주파 전송선 회로의 실험적 고찰을 통한 정확한 시그널 인테그러티 검증)

  • Shin, Seung-Hoon;Eo, Yung-Seon
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.48 no.7
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    • pp.82-90
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    • 2011
  • An accurate signal integrity verification method based on high-frequency measurements is proposed. For practical transmission lines that require a package process, process variations metal roughness and skin effects and boundary conditions may have deteriorative effects on circuit performance. These effects are represented in terms of parameters that can be readily utilized for field-solver. Thereby a more accurate signal integrity verification using field-solver can be achieved. It is shown that in both single and coupled lines the signal transients using the proposed method have excellent agreement with the measurement data.

금속나노와이어를 이용하여 제작한 박막의 특성 향상을 위한 나노용접에 관한 연구

  • O, Ji-Su;Yeom, Geun-Yeong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2018.06a
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    • pp.118-118
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    • 2018
  • Indium tim Oxide (ITO) 의 idium 공급 제한과 그 고유한 특성상 유연기판에 적용에는 한계가 있어 대체 물질 개발이 활발히 이뤄지는 가운데, 금속나노와이어는 그 중에서도 각광받는 물질 중 하나이다. 금속나노와이어 네트워크는 높은 전기 전도성, 투명성과 같은 많은 이점을 가지며 유연기판에 다양한 방법으로 손쉽게 제조할 수 있다. 이러한 장점에도 불구하고 금속나노와이어는 자체의 고유한 표면 거칠기 및 접착 문제 등으로 인해 그 한계를 가지며, 또한 polynivnylpyrolidone (PVP)의 코팅이 불가피하기 때문에 나노와이어 간의 높은 접촉저항 및 junction 문제는 해결과제로 남아있다. 본 연구에서는 이러한 금속나노와이어의 문제를 극복하기 위해 유도전류에 의해 와전류를 발생시켜 나노와이어 junction 부분에서 짧은 시간동안 국소적으로 용접시킬 수 있는 induction coil system을 구축하였다. 금속나노와이어 전극 기판의 투명도를 유지하며 기판과 나노와이어에 영향을 미치지 않고 electric field를 통해 nano-welding 하는 효과를 기대하였다. 그 결과, 실험에 사용한 은나노와이어와 구리나노와이어는 초기 투과도를 유지하면서 면저항을 각각 약 68 %, 50% 감소하는 효과를 보였다. 또한 표면 이미지 측정을 하여 표면 거칠기도 감소하였음을 확인하였으며, welding됨에 따라 내구성 향상에도 영향을 미쳤음을 bending test 와 adhesion test를 통해 그 특성이 향상되었음을 확인하였다. 본 연구에서 실시한 와전류를 이용한 나노용접 방법은 건식방법이며 열이 직접적으로 발생하지 않기 때문에 모든 종류의 금속 나노와이어에 적용될 것으로 기대하며, 짧은 시간과 저렴한 비용으로 넓은 영역에 적용 가능하다는 장점을 가져 다방면에 활용 가능할 것으로 기대한다.

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Effect of DC Bias on the Deposition of Nanocrystallin Diamond Film over Ti/WC-Co Substrate (Ti/WC-Co 기판위에 나노결정 다이아몬드 박막 증착 시 DC 바이어스 효과)

  • Kim, In-Seop;Na, Bong-Gwon;Gang, Chan-Hyeong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2011.05a
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    • pp.117-118
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    • 2011
  • 초경합금 위에 RF Magnetron Sputter를 이용하여 Ti 중간층을 증착 후 MPECVD(Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 시스템을 이용하여 나노결정 다이아몬드 박막을 증착 하였다. 공정압력, 마이크로웨이브 전력, Ar/$CH_4$ 조성비, 기판온도를 일정하게 놓고 직류 bias의 인가 여부를 변수로 하고 증착시간을 0.5, 1, 2시간으로 변화시켜 박막을 제작하였다. 제작된 시편은 FE-SEM과 AFM을 이용하여 다이아몬드 박막의 표면과 다이아몬드 박막의 표면 거칠기 등을 측정하였고, Raman spectroscopy와 XRD를 이용하여 다이아몬드 결정성을 확인하였다. Automatic Scratch �岵謙�ter를 이용하여 복합박막의 층별 접합력을 측정하였다. 바이어스를 인가하지 않고 다이아몬드 박막을 증착할 경우 증착 시간이 증가할수록 다이아몬드 입자의 평균 크기가 증가하며 입자들이 차지하는 면적이 증가하는 것을 확인하였다. 그러나 1시간이 경과해도 아직 완전한 박막은 형성되지 못하고 2시간 이상 증착 시 완전한 박막을 이루는 것이 확인되었다. 이에 비해서 바이어스 전압을 인가할 경우 1시간 내에 완전한 박막을 이루었다. 표면 거칠기는 바이어스를 인가한 경우가 그렇지 않은 경우에 비해서 조금 높은 것으로 나타났다. 이러한 바이어스 효과는 표면에서의 핵생성 밀도 증가와 재핵생성 속도 증가에 기인하는 것으로 해석된다.

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Microtopography Effects on Rainfall and Sediment Runoff in Arid and Semiarid Region (건조 및 반건조 지대의 미세지형이 강우 및 유사 유출 특성에 미치는 영향)

  • Kim, Soyoung;Jeong, Minyeob;Kim, Dae-Hong
    • Proceedings of the Korea Water Resources Association Conference
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    • 2021.06a
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    • pp.174-174
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    • 2021
  • 지표면에서 소규모의 요철로 이루어진 미세지형 (Micro Topography)은 자연 지형의 일반적인 특징이다. 지표면에서의 흐름해석 시 이러한 미세지형에 의한 효과를 정확히 고려하기 위해서는 고해상도의 지형격자를 사용하여야 하나, 대부분의 지표유출모델은 미세지형이 존재하지 않는 저해상도의 거친 표면으로 간주함으로써 바닥 마찰 효과를 증가시켜 미세지형에 의한 영향을 대략적으로만 반영한다. 본 연구에서는 보다 정확한 강우-유출 및 유사-유출 해석을 목적으로 고해상도의 지형격자를 사용하여 미세지형을 포함한 건조 및 반건조 지대에서의 흐름을 수치적으로 모의하였다. 미세지형의 형태는 마루와 골 사이가 직선으로 이루어진 파동의 형태로 이상화 하였으며, 파동의 진폭과 파장을 조절하여 다양한 형태의 미세지형을 고려하였다. 수치모형은 흐름의 움직임에 대한 Saint-Venant 방정식과 침식 및 유사이송에 대한 Hairsine-Rose 방정식을 함께 계산하는 통합모형인 tRIBS-FEaST를 사용하였다. 수치 모의 결과에서 나타난 미세지형의 핵심 영향은 최대 유량 및 유사량 도달시간의 지연, 유사 입자 크기별 유사-유출량 증감, 그리고 하천 유출(stream flow)의 생성이었다. 또한, 미세지형의 형태에 따라 미세지형과 강우-유출 및 유사-유출 사이에 비례 혹은 반비례 관계가 성립함을 보였다. 수치 모의 결과를 종합적으로 검토하여 미세지형이 강우-유출과 유사-유출에 미치는 영향에 대해 논의하였으며, 기존 Manning 거칠기 계수를 통한 해석 방법의 적부를 판단하였다.

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Variation of Earth Pressure Acting on the Cut-and-Cover Tunnel Lining due to Geotextile Mat Reinforcement (지오텍스타일 매트의 설치에 의한 개착식 터널 라이닝에 작용하는 토압의 변화)

  • Bautista, F.E.;Park, Lee-Keun;Im, Jong-Chul;Joo, In-Gon
    • Journal of the Korean Geotechnical Society
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    • v.23 no.3
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    • pp.25-40
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    • 2007
  • Excessive earth pressure is one of the major mechanical factors in the deformation and damage of Cut-and-Cover Tunnel lining in shallow tunnels and portals of mountain tunnels (Kim, 2000). Excessive earth pressure may be attributed to insufficient compaction and consolidation of backfill material due to self-weight, precipitation and vibration caused by traffic (Komiya et al., 2000; Taylor et al., 1984; Yoo, 1997). Even though there were a lot of tests performed to determine the earth pressure acting on the tunnel lining, unfortunately there were almost no case histories of studies performed to determine remedial measures that reduce differential settlement and excessive earth pressure. In this study the installation of geotextile mat was selected to reduce the differential settlement and excessive earth pressure acting on the cut-and-cover tunnel lining. In order to determine settlement and earth pressure reduction effect (reinforcement effect) of geotextile mat reinforcement, laboratory tunnel model tests were performed. This study was limited to the modeling of rigid circular cut-and-cover tunnel constructed at a depth of $1.0D\sim1.5D$ in loose sandy ground and subjected to a vibration frequency of 100 Hz. Model tests with varying soil cover, mat reinforcement scheme and slope roughness were performed to determine the most effective mat reinforcement scheme. Slope roughness was adjusted by attaching sandpaper #100, #400 and acetate on the cut slope surface. Mat reinforcement effect of each mat reinforcement scheme were presented by the comparison of earth pressure obtained from the unreinforced and mat reinforced model tests. Soil settlement reduction was analyzed and presented using the Picture Analysis Method (Park, 2003).

Cat-CVD법을 이용하여 다양한 제막압력 조건에서 증착된 PTFE(polytetrafluoroethylene) 박막의 소수성 평가에 관한 연구

  • Alghusun, Mohammad;Yeo, Seung-Jun;An, Jeong-Seon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.281-281
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    • 2012
  • 연꽃잎 효과(Lotus effect)라 불리는 자가 세정 효과(self cleaning effect)는 연꽃이 항상 깨끗한 상태를 유지하는 것이 관찰되면서 꾸준히 관심에 대상이 되어 왔었다. 자가 세정 효과는 접촉각 $150^{\circ}$ 이상의 초소수성 표면에서 구현이 가능하며 이런 표면을 일상생활부터 산업분야까지 응용하고자 하는 많은 노력들이 있었다. 물질의 친수성 또는 소수성은 표면의 거칠기(roughness)와 표면에너지(surface energy)의 두 가지 특성에 의해 결정된다. 하지만 낮은 표면에너지 물질을 사용해도 접촉각 $150^{\circ}$ 이상의 초소수성 표면을 얻긴 힘들며, 표면의 거칠기를 증가시켜야 한다. PTFE (polytetrafluoroethylene)는 낮은 표면에너지를 가진 소수성 물질로 bulk일 경우 접촉각이 약 $108^{\circ}$이지만 거친 표면을 가진 박막으로 만들 경우 접촉각이 $150^{\circ}$ 이상의 값을 가지는 초수수성 표면이 가능한 물질이다. 특히, 초소수성 표면 이외에 우수한 내열성 및 내화학성 특성을 가지고 있어 디스플레이 및 태양전지 등의 자가세정(self cleaning) 보호막으로써 응용이 기대되고 있다. 본 연구에서는 HFPO (hexafluoropropylene)를 원료 가스로 이용하여, Si(100)과 유리 기판위에 Cat-CVD (Catalytic Chemical Vapor Deposition)법으로 PTFE 박막을 증착하였다. 텅스텐(W)을 촉매로 사용하였으며, 촉매온도가 $850^{\circ}C$이상인 조건에서 접촉각이 $150^{\circ}$ 이상인 초소수성 PTFE 표면을 쉽게 얻을 수 있었다. 특히 본 연구에서는 제막압력을 300 mTorr에서 700 mTorr까지 변화시켜 가며 유리와 Si 기판위에 증착하였다. Cat-CVD 제막압력을 변화시켜가며 증착된 PTFE 박막의 접촉각을 측정한 결과, 제막압력이 300 mTorr일 때 glass와 Si 기판위에 증착된 PTFE박막 표면에서의 접촉각은 각각 133, $117^{\circ}$였지만, 제막압력이 400 mTorr이상일 땐 $150^{\circ}$ 이상의 높은 접촉각을 갖는 초소수성 표면을 얻을 수 있었다.

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Studies on the Adhesion of W to TiN(II) (TiN에 대한 W의 부착특성에 관한 연구(II))

  • Lee, Jong-Mu;Gwon, Nan-Yeong;Lee, Jong-Gil
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.3 no.6
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    • pp.593-597
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    • 1993
  • Adhesion of CVD W to the TiN glue layer in the blanket W process which is a promising candidate for filing contact holes in subhalfmicron ULSIs has been investigated. The adhesion was enhanced with increasing the W film thickness due to the decrease of the TiN film stress. The adhesion strength was increased by the sputter etching of the TiN surface prior to the W deposition owing to the removal of contaminants and the increase of the surface roughness. The adhesion of the W film to the TiN glue layer property was also improved by Ar ion implantation of the TiN surface owing to the activation of the TiN surface.

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The effect of additives on the electrocrystallization of Zn-Ni alloy deposit (아연-니켈 합금도금 전착성에 미치는 첨가제 영향)

  • 김현태;정원섭
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.7 no.3
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    • pp.456-464
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    • 1997
  • The effect of the additives on the Zn-Ni alloy electrocrystallization from a chloride bath was investigated by means of electrochemical methodes, scanning electron microscopy and measurement of surface appearance, X-ray diffraction patterns. The additives tested were the surfactant of naphtalene-derivative, saccharin and aliphatic alcohol. The resistance of electrodeposit increased by adding the additives, whereas the effect of additives on resistance was different with current density. The nickel content of alloy deposit was increased by the addition of alcohol, while decreased by the surfactant. The surface roughness, appearance and morphology of deposit were also influenced by the type of additive. The fine, compact grains and good surface roughness could be obtained from the surfactant or alcohol -added bath, and the surfactant or saccharin improved the surface appearance.

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Characterization of Etching profile for $LiNbO_3$ Optical Waveguide by Using Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etching (NLD Plasma 식각 공정을 이용한 $LiNbO_3$ 광 도파로의 식각 Profile의 특성)

  • 박우정;양우석;이승태;김우경;장현수;이한영;윤대호
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2003.03a
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    • pp.138-138
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    • 2003
  • 광대역 LiNbO$_3$ 광변조기의 초고속 광 변조 구현을 위해서는 RF/ optical 속도 정합 및 임피던스 매칭 조건 하에서 낮은 구동전압을 얻을 수 있는 ridge 구조의 제작이 필수적이며 이런 구조 제작하기 위해서는 식각 속도와 식각면 거칠기 식각 profile 및 식각 과정에서의 반응물의 감소 등과 같은 개선을 위한 연구가 필요하다. 본 연구에서는 LiNbO$_3$ 기판 위에 메탈 마스크를 형성한 후 비등방성 (anisotropic) 건식 식각 방법인 NLD (Neutral Loop Discharge)로 플라즈마 식각을 하였다. NLD plasma 식각은 1Pa 이하의 압력에서 낮은 전자 온도를 갖는 고밀도 플라즈마를 생성하고 이온 플라즈마를 형성하여 LiNbO$_3$ 표면의 원자와 분자를 이온충돌효과를 이용하여 물리적인 식각과 discharge로 형성된 레디칼 (radical)과의 상호작용에 의한 화학적 식각 메커니즘에 의한 방법으로 plasma에 의한 시편의 손상이 적으며 식각 속도가 또한 높은 것이 특징이다. 본 논문에서는 안테나 파워와 가스의 유량에 따른 LiNbO$_3$ 식각 profile 특성에 관하여 연구 하고자 한다.

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Magnetoresistance Effect of Ta/NiFe/Cu/Co Pseudo Spin Valve Structure (Ta/NiFe/Cu/Co Pseudo 스핀밸브 구조의 자기저항 효과)

  • Joo, Ho-Wan;Choi, Jin-Hyup;Choi, Sang-Dae;Lee, Ky-Am
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.14 no.1
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    • pp.25-28
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    • 2004
  • The dependence of sensitivity, MR ratio, coercivity (Hc) and switching fields as a function of thickness of each magnetic layers(Co, NiFe and Cu) were investigated in pseudo spin valves with a structure of Ta/NiFe/Cu/Co. As measured results dependence of the thickness of each magnetic layer, we obtained MR ratio of 7.26% for Ta(4 nm)/NiFe(7.5 nm)/Cu(3 nm)/Co(5 nm) pseudo spin valves. Also, we could control properties of magnetoresistance for independent magnetization courses of each magnetic layer. Especially, we found that we could control coercivity as constant MR ratio dependence of Co thickness.