제초제 quinclorac의 수중 및 토양중 잔류량을 인위적으로 감소시키기 위하여 광분해를 촉진시킬 수 있는 6종의 감광제를 선발하여 수중 및 모래에서의 광분해 시험을 수행하였다. 자연광 조건하에서 증류수중 quinclorac의 분해는 암조건과 비교할 때 차이가 없어 직접적인 광분해는 용이하지 않음을 알 수 있었다. Methanol 용액에서 quinclorac의 광분해율은 40.3%였으나, 감광제 PS-1 (방향족 ketone), PS-3 (quinone), 그리고 PS-6 (반도체 광촉매)가 함유되어 있는 용액 및 현탁액에서 quinclorac의 광분해율은 각각 96.6%, 72.7%, 그리고 95.7%로서 가장 양호한 광분해 촉진효과를 보였다. 한편 모래에서는 감광제 PS-1, PS-3 그리고 PS-6중에서 PS-3가 64.1%로 가장 양호한 광분해 촉진효과를 보였다. Methanol중 quinclorac의 광분해산물로 5종의 화합물이 그리고 감광제 PS-1에서는 3종의 분해산물이 GC-MS로 구명되었고 aldehyde기를 보유한 광분해산물은 sodium 3,5-dinitrosalicylate의 환원반응에 의하여 확인되었다. 토양에 처리된 quinclorac은 30 ppm 이상의 감광제 PS-3 처리로 광분해되어 남아있는 quinclorac 잔류물은 강피를 방제하지 못했다. 이와 같은 결과들은 감광제 PS-1, PS-3, PS-6가 수용액 및 토양중 quinclorac 잔류물을 효과적으로 광분해시킬 수 있음을 시사한다.
원예작물중 농약잔류물을 인위적으로 경감시키기 위하여 몇몇 감광제 (photosensitizer, PS)의 활성을 조사하였다. 살균제 iprodione, bitertanol, chlorothalonil, myclobutanil, 및 dichlofluanid를 사과와 오이에 살포한 후 선발된 감광제를 살포하고, 살포 후 0, 1, 3, 7, 15일에 시료를 채취하여 그 잔류량을 분석하였다. 감광제로는 PS-1 (방향족 ketone), PS-2 (방향족 amine), PS-3 (quinone), PS-4 (무기화합물), PS-5 (유기산염) 및 PS-6(반도체 광촉매)이 선발되었다. 사과에 살포된 iprodione의 경우 감광제 PS-1을 처리한 후 15일에 그 잔류량은 대조구의 74%로 감소하였고, bitertanol은 감광제 PS-1를 처리한 후 15일에 그 잔류량은 대조구의 78%로 감소하였으며, chlorothalonil의 경우 감광제 PS-1과 PS-2를 처리한 후 1일에 그 잔류량은 각각 대조구의 56과 54%로 감소하였다. 한편 오이에 살포된 iprodione의 경우 감광제 PS-1과 PS-2를 처리한 후 3일에 그 잔류량은 각각 대조구의 44와 67%로 감소하였고, myclobutanil의 경우 감광제 PS-6을 처리한 후 15일에 그 잔류량은 대조구의 45%로 감소하였으며, dichlofluan김의 경우 감광제 PS-1를 처리한 후 3일에 그 잔류량은 대조구의 44%로 감소하였다. 결과로 미루어 볼 때 방향성 ketone인 감광제 PS-1은 사과와 오이에 잔류하는 농약잔류물의 광분해에 그 효과가 탁월하였다.
본 연구에서는 감광제에 의한 폴리페놀의 갈변 정도 및 폴리페놀 함량의 변화와 산화방지활성과 ROS 생성을 분석하였다. 그 결과 감광제에 의해 갈산과 타닌산의 자동산화가 현저히 가속화 되었으며, 타닌산에서 그 효과가 더욱 두드러졌다. 폴리페놀 함량은 산화가 진행됨에 따라 유의적으로 감소하였으나, 감광제에 농도에 의한 유의적인 차이는 EB에 의해서만 나타났으며, ABTS 라디칼 소거능 변화에서도 유사한 양상을 보였다. 갈산과 타닌산에서 ROS 생성의 증가는 명소에서 감광제 존재 하에 농도 유의적으로 증가하였다. 본 연구 결과는 폴리페놀이 감광제와 함께 빛에 노출 시 폴리페놀의 산화를 촉진시키며, 식품의 가공 및 저장 시 이들의 상호작용을 통한 품질저하 및 생리활성 변화에 주의할 필요가 있음을 시사한다.
본 연구에서는 형광등 빛 조사 하에 각종 감광제와 아미노산의 조합에 의한 NBT의 환원 특성을 조사하였다. 기존 SOD 활성 측정에 이용된 Rb-Met 반응계는 증류수나 Tris보다는 PBS 용매 상에서 가장 우수한 효과를 나타냈다. 빛 조사 하에 Rb에 의한 NBT 환원을 위해서는 Met과 His 등의 아미노산이 필요하며, 감광제로서는 isoalloxazine 계열의 Rb와 thiazine 계열의 MB가 효과적인 환원 반응을 유도했다. 하지만 각종 감광제나 아미노산의 조합, 그리고 반응 용매에 따라 NBT 환원정도가 상이하며, 특히 Rb-Met in PBS와 MB-His in Tris 반응계가 가장 큰 반응을 유도하였다. Rb에 의해 유도된 NBT 환원반응은 SOD 및 gallic acid에 의해 효과적으로 저해되었으나, Tris 상에서 MB-His에 의한 NBT 환원은 SOD 및 gallic acid에 의한 저해효과가 미미하여 Rb와는 다른 기작에 의해 NBT 환원이 유도되는 것으로 보인다. 본 결과는 감광제와 아미노산에 따라 빛 조사 하에 다양한 상호작용이 발생하며, NBT 환원을 유도하는데 superoxide anion 뿐만 아니라 다른 요인도 관여할 수 있음을 시사한다.
본 연구에서는 평판 디스플레이 Photo공정 중에서 무회전 도포(Spinless Coating)방식으로 기판(Glass)에 감광제 약액을 도포한 후 용매(Solvent)를 제거시키기 위한 진공건조장치(Vacuum dryer)에서 감광제 도포막의 품질에 영향을 주지 않는 범위 안에서의 용매 제거시간을 단축하기 위한 진공챔버의 용적에 따른 진공포트의 크기 및 배치에 대한 최적화를 구현하였다. 구현된 챔버의 용적과 진공포트의 크기 및 배치를 바탕으로 진공건조장치를 챔버, 챔버 구동부, 기판 구동부, 진공펌프, 그리고 $N_2$ 공급부로 모듈화하여 구성하였으며. 실제 도포 기판을 이용하여 진공건조를 실시한 후 도포막을 검사함으로써 진공포트에 대한 최적화를 검증함과 동시에 진공건조 능력을 확인하였다.
MEMS 공정을 이용한 굴절렌즈 제작을 위하여, 슬릿 패턴을 갖는 마스크를 이동시키며 노광을 하는 가변 속도 이동식 마스크에 의한 노광 방법을 제안하였다. 감광제 면이 굴절렌즈의 곡면을 이루려면 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 조절해야 한다. 마스크의 패턴 형태와 이동 속돈 방향에 따라 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 이론적으로 분석하였으며, 감광제 박막에 임의의 곡면을 갖는 굴절렌즈 형상을 형성할 수 있음을 실험적으로 확인하였다. $100 {\mu}m$ 이상의 후막 감광제를 이용하거나, 혹은 곡면 형상을 갖는 얇은 감광제 형상을 마스크로 하여 이온식각을 수행하여 수백 ${\mu}m$ 정도의 최대높이를 갖는 렌즈 곡면형상을 제작 할 수 있었다.
본 연구에서는 유동박리공정에서 개발된 수계박리액의 수분함유량의 최적화를 통한 청정성을 연구하였다. 감광제 박리 특성을 상용 유기계 박리액과 비교 고찰하였다. 박리성능은 감광제의 패터닝 전 투명전극샘플과 코팅된 샘플을 박리 한 후의 투명전극표면에서의 전기 및 광학적 특성의 평가를 통해 비교 하였다. 상용화된 유기계 박리액과 수분함유량이 최적화된 수계 박리액의 감광제박리 공정 결과 수계박리액이 유기계 박리액보다 동등 이상의 우수한 전기 및 광학적 특성 결과를 나타내었다. 유동 박리공정에서 유기계 박리액은 박리 중 감광제가 용해되어 박리액내부로 용해가 된 반면, 개발 중인 수계박리액은 용제에 포함된 cyclodextrin에 의한 감광제 포집으로 박리액의 감광제 용해 감소의 효과가 나타난 것으로 판단된다. 이러한 박리 메커니즘의 차이에 의한 박리공정 후 유기계와 수계 박리액의 청정성을 비교 분석하였다.
A downstream oxygen plasma is generated by capacitively coupled RF power and applied to photoresist stripping. Stripping rate (ashing rate) is measured in terms of RF power, chamber pressure, oxygen flow rate and temperature. Ashing reaction is thermally activated and depends on oxygen radical density. The ashing process is optimized to have the high ashing rate, good uniformity and minimal plasma damage using a statistical method.
노광 후 지연(Post Exposure Delay: PED) 효과는 그림 1과 같이 노광 후 지연 시간에 따른 감광제의 Profile에 thinning, T-top, foot, undercut 를 보여주는 현상으로 화학 증폭형 감광제(Chemically Amplified Resist, CAR) 개발에 있어 PED의 안정성은 중요한 요소이다(1). 따라서 노광후 지연 효과에 대한 모델링은 연구와 개발을 위한 시뮬레이션 tool에 있어 매우 의미 있는 일이다. T-top 이나 undercut 를 형성하는 Surface inhibition layer(SIL) 은 노광 후 지연시 발생되는 environmental base contamination, acid evaporation 이 주요 원인이며 다른 원인으로는 감광제 속에서 acid migration, spin coating 동안에 photoacid generator (PAG)의 고갈, internal basic impurities 이며 그 외에 nonbsic atmospheric contamination, high power laser source의 영향 등이 있다. (중략)
재배중인 고추표면의 농약잔류물을 인위적으로 경감시키기 위하여 몇몇 감광제 (photosensitizer, PS)의 활성을 조사하였다. 살균제 dithianon, triflumizole 및 triforine을 고추에 4회 살포한 후 선발된 감광제를 1회 살포하고, 감광제 살포 후 0, 1, 3, 7, 15일에 시료를 채취하여 그 잔류량을 분석하였다. 회수율은 $76.6{\sim}78.3%$인 dithianon 외에는 $90.7{\sim}98.5%$로서 양호하였다. Dithianon의 경우, PS-1 (10 ppm) 살포 후 1일에 그 잔류량은 대조구의 76%이었다. Triflumizole의 경우, PS-4 (50 ppm) 살포 후 1일에 잔류량은 대조구의 48%이었다. Triforine의 경우, PS-3 (100 ppm) 살포 후 1일에 잔류량은 대조구의 55%이었다. 이들 결과로 미루어 볼 때 감광제의 작용은 농약의 종류 및 농약이 잔류해 있는 매체에 따라 달라짐을 알 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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