• 제목/요약/키워드: 감광성 유리

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사진식각 공정에 의한 유리 미세구조물 제작 기술 (Fabrication Technology of Glass Micro-framework by Photolithographic Process)

  • 오재열;조영래;김희수;정효수
    • 한국재료학회지
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    • 제8권9호
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    • pp.871-875
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    • 1998
  • 사진식각 공정으로 종횡비가 매우 큰 유리 미세구조물을 제작하였다. 미세구조물의 제작에는 압축응력에 강하고 전기적 절연체인 감광성 유리를 사용하였다. 감광성 유리는 석영기판 위에 크롬이 패턴된 마스크를 사용하여 파장이 312nm인 자외선에 노광되었다. $500^{\circ}C$ 이상의 열처리공정을 거친 후 초음파 분위기에서 10%의 불산용액으로 식각함으로써 유리 미세구조물을 제작하였다. 미세구조물의 최종 형상은 감광성 유리의 두께, 마스크 패턴, 자외선 노광조건 및 식각조건에 크게 의존하였으며, 종횡비가 30이상인 스트라이프 구조의 유리 미세구조물을 제작할 수 있었다.

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Boron 첨가량이 평면광회로용 실리카 박막의 UV 감광성에 미치는 영향 (Effect of Boron Concentration on the UV Photosensitivity of Silica Glass Film for Planar Lightwave Circuit)

  • 권기열;조승현;신동욱;송국현;이낙규;나경환
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권11호
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    • pp.826-833
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    • 2004
  • 본 연구에서는 PLC 소자용 브래그 격자에 적용되는 재료인 Ge, B 등이 다량 첨가되어 있는 실리카 유리에서 발생하는 감광성(photosensitivity)을 조사하고 감광성의 발현 기구를 연구하였다. 관찰된 굴절률 변화의 최대값은 약 $10^{-3}$ 정도였으며 열처리 과정을 거치기 전후에 이러한 굴절률의 변화 양상이 변화하는 것을 관찰하였다. 이와 같은 굴절률의 변화를 UV 흡수도와 라만 스펙트림을 이용하여 본 연구의 시편에서 발생하는 감광성의 기구를 규명한 결과 굴절률 변화 요인이 유리 내에 존재하는 내부응력과 첨가된 B에 의하여 증대된 고밀화 과정에서 발생하는 현상임을 밝혔다.

감광성유리를 이용한 마이크로머시닝 기술 (Micromachining technology using photosensitive glass)

  • 조수제
    • 한국레이저가공학회지
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    • 제14권1호
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    • pp.25-29
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    • 2011
  • Micromachining of photosensitive glass by UV exposure, heat treatment, and etching processes is reported. Like photoresist, the photosensitive glass is also classified into positive and negative types by development characteristics. For the positive type, the exposed area is crystallized and etched away during the etching process in HF solution, whereas the unexposed area is crystallized and etched away for the negative type. The crystallized area of the photosensitive glass has an etch rate approximately 30~100 times faster than that of the amorphous area so that it becomes possible to fabricate microstructures in the glass. Based on the unique properties of glass such as high optical transparency, electrical insulation, and chemical/thermal stability, the glass micromachining technique introduced in this work could be widely applied to various devices in the fields of electronics, bio engineering, nanoelectonics and so on.

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Plasma Display Panel용 감광성 격벽 재료 및 Photolithography 공정 성질 (Photosensitive Barrier Rib Paste for PDP and Photolithographic Process)

  • 박이순;정승원;오현식;김순학;송상무
    • 공업화학
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    • 제10권8호
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    • pp.1114-1118
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    • 1999
  • 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 격벽(barrier rib)은 일정한 선폭과 높이를 가져 균일한 방전 공간을 제공하고, 인접한 셀 간의 전기적, 광학적 혼선(crosstalk)을 방지하기 위해 PDP의 하부 유리 기판 패널에 들어가는 구조물이다. 본 연구에서는 사진식각(photolithography)법으로 격벽을 형성하는데 필요한 감광성 격벽 페이스트가 제조되었다. 페이스트는 바인더 고분자인 에틸셀룰로오즈를 BC/BCA = 30/70 wt %인 혼합 용매에 15 wt %로 용해한 다음 관능성 단량체로서TPGDA/PETA = 50/50 wt % 혼합물, 광개시제로서 Irgacur 651 및 격벽 분말을 도입한 다음 전체를 균일하게 분산시켜 제조하였다. 감광성 격벽 페이스트의 각 성분, 조성 및 공정을 최적화하여 소성 후 높이 약 $100{\mu}m$ 에 이르는 PDP용 격벽을 고해상도로 사진식각법으로 얻을 수 있었다.

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Resorcinol계 Photoresist의 합성과 그 감광 특성 (Synthesis and Photocharacteristics of Resorcinols Photoresist)

  • 근장현;김승진;박홍수
    • 공업화학
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    • 제5권4호
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    • pp.662-668
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    • 1994
  • Photoresist로의 응용을 위하여 감광성 관능기를 가진 폴리머인 polyresorcinol-formaldehyde glycidyl ether의 cinnamoyl ester(RGEFC)를 제조하였다. RGEFC의 감광 특성은 노광 전후의 유기용매에 대한 용해도 차이로서 결정하였는데, 유리판상에 도포한 각종 시료를 제반조건하에서 노광한 다음, 도포시에 사용한 같은 용매에 담그어 잔막수득량을 계산하였다. 필름의 감도와 밀접한 관계를 가지는 수득량은 수지의 중합도, 증감제의 종류 및 첨가농도에 따라 좌우되었으며, 그 감도는 폴리머의 중합도에 의존되어 중합도가 커질수록 증가되었다. 사용된 증감제 중 RGEFC에 대한 가장 효과적인 증감제는 2, 6-dichloro-4-nitroaniline이었다.

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KAIST의 MAV용 MEMS 엔진 개발 현황 (Prgress in MEMS Engine Development for MAV Applications)

  • 이대훈;박대은;윤의식;권세진
    • 한국항공우주학회지
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    • 제30권6호
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    • pp.1-6
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    • 2002
  • 마이크로 연소실을 장착한 MAV 추진 장치용 단기통 MEMS 엔진을 제작하였다. 본연구에서는 MEMS 크기의 왕복운동 내연기관의 타당성을 검증하고 실용화를 위한 설계 및 가공데이터를 축적하고자 하였다. 엔진 블록은 가공의 정밀도와 내열성등을 고려하여 감광유리 웨이퍼를 사용하였으며, 점화 전극은 베이스 플레이트 위에 니켈 도금으로 제작하였다. 감광유리판은 등방성 에칭의 특성이 탁월하여 마이크로 엔진의 실린더와 피스톤과 같이 비교적 깊은 식각이 가능함을 확인하였다. 전체 엔진은 세 개의 별도 가공된 레이어를 접착하여 조립한다. 본연구의 엔진 연소실은 깊이는 1mn, 폭 2mn이며, 피스턴은 수소-공기 예 혼합 가스의 연소압력에 의하여 구동된다. 가공된 엔진의 연소실험을 통하여, 점화, 화염전파 및 피스턴 구동을 확인하였으며, 실용화를 위한 연구가 요구되고 있다.

Fluorene 단위 구조를 함유한 감광성 고분자의 합성 및 LCD 컬러필터용 카본블랙 포토레지스트로의 응용 (Synthesis of Fluorene-containing Photosensitive Polymer and Its Application to the Carbon Black-based Photoresist for LCD Color-Filter)

  • 김주성;박겸재;이동근;배진영
    • 폴리머
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    • 제35권1호
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    • pp.87-93
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    • 2011
  • 본 연구에서는 LCD 컬러필터 레지스트용 fluorene 단위 구조를 가지는 다기능 바인더 고분자를 개발하여 카본블랙 기반 감광성 레지스트(CBR)를 제조하고 블랙 매트릭스(BM)에 적용하였다. 다기능 바인더 고분자를 얻기 위해 bisphcnol fluorene epoxy acrylate를 함유한 불포화 폴리에스터(BFEA-polyester)를 합성하였으며 이는 $^1H$ NMR, GPC 및 FTIR을 이용하여 분석하였다. 합성된 BFEA-polyester 바인더 고분자를 상업용 아크릴 바인더와 비교 평가하기 위하여 각각 CBR 제조 후 BM 리소그래피 테스트를 수행하였다. 그 결과, 본 연구에서 합성된 BFEA-polyester 바인더 고분자는 적합한 광경화 반응성과 알칼리 용해성을 가질 뿐만 아니라 기존 아크릴 바인더보다 더 우수한 공정 마진, 패턴 특성 및 유리 가판에 대한 접착력을 나타내었다.