Growth characteristics of thick Si$O_{2}$ using $O_{3}$ /TEOS APCVD
($O_{3}$ /TEOS를 이용한 후막 Si$O_{2}$ 의 성장 특성)
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- Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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- 1997.10a
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- pp.96-96
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- 1997