Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 1997.10a
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- Pages.96-96
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- 1997
Growth characteristics of thick Si$O_{2}$ using $O_{3}$ /TEOS APCVD
$O_{3}$ /TEOS를 이용한 후막 Si$O_{2}$ 의 성장 특성
Abstract
Keywords