• 제목/요약/키워드: $O_3$ Generation

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2가지 서로 다른 기능에 의해 생성된 박막의 물리적인 특성의 기원 (Physical Properties of Thin Films Generated by Two Kinds of Different Function)

  • 오데레사
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2008년도 하계종합학술대회
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    • pp.487-488
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    • 2008
  • SiOC films containing alkyl groups have a low dielectric constant because of the interaction between the C-H hydrogen bonds and the oxygen of high electro-negative atom. The Si-$CH_3$ in a void is broken by the $O_2$, therefore the strength of CH bond in Si-O-O-$CH_3$ bond increases. The Si-O-O-$CH_3$ bond is broken by nucleophilic attack due to Si atom, again. The elongation of C-H bond causes the red shift, and the compression of C-H bond causes the blue shift. Among these chemical shifts, the blue shift from $1000\;cm^{-1}$ to $1250\;cm^{-1}$ was related with the formation of pores. If the oxygen is deficient condition, the methylradicals of the electron-rich substitution group terminate easily the Si-O-Si cross-link, and the pore is originated from the cross-link breakdown due to much methyl radicals of Si-$CH_3$. The dielectric constant of the films decreases due to pore generation.

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A/R 코팅 변화에 따른 200MHz AOM의 laser damage threshold 증가 (Laser Damage Threshold Increase of A/R Coating Films for 200MHz AOM)

  • 김용훈;이항훈;이진호;박영준;박정호
    • 한국재료학회지
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    • 제7권3호
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    • pp.213-217
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    • 1997
  • 200MHz 응향광변조기 (AOM: Acousto-Optic Modulator)는 제 2고조파(SHG: Second Harmonic Generation)녹색 레이저와 함께 DVDR(Digital Video Disk Recorder)에 적용되어 고밀도 광기록용으로 사용되었다. 이러한 고밀도 광기록 장치로써 사용되기 위해서는 고출력 레이저의 사용이 필수적이며, 레이저 빔이 통과하는 각 광학 소자들의 코팅막은 고출력 레이저 빔에 대해 높은 레이저 damage threshold를 가져야 한다. AOM의 음향공학재료로 사용되는 $TeO_{2}$단결정에 코팅막의 종류 및 증착조건을 변화시키며 E-beam 증착법으로 A/R코팅 시편을 준비하였다. 0.55W의 입력 power를 갖는Ar레이저를 사용하여 코팅의 광손상 정도를 확인하였다. $AI_{2}O_{3}$막에 비해 $ZrO_{2}$$SiO_{2}$막을 사용한 경우 레이저 damage threshold는 크게 향상되었다. 또한 AOM모듈을 제작 후 구동회로와 연결하여 약 20mW의 SHG power를 입력시키며 출력 power long term안정성을 측정하였다.

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Ru 코팅량에 따른 $RuO_2$/Ti 전극의 염소 발생 (Generation of Free Chlorine Using $RuO_2$/ Ti Electrode with Various Amount of Ru)

  • 이준철;박대원
    • 대한환경공학회지
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    • 제34권11호
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    • pp.715-719
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    • 2012
  • 단위면적당($cm^2$) 루테늄의 코팅량이 1.5 mg, 2.5 mg, 3.5 mg, 5.5 mg, 8.5 mg의 $RuO_2$/Ti 전극을 제조하여 코팅량에 따른 전기화학적 특성 차이와 염소 발생에 미치는 영향을 조사하였다. 순환전압 실험 결과 루테늄이 코팅된 전극의 염소 발생 과전압은 약 1.15 V (vs. Ag/AgCl)로 거의 일정하였다. 그러나 교류 임피던스 분광법, 동전위분극실험 결과 단위면적당($cm^2$) 루테늄의 코팅량이 2.5 mg, 3.5 mg $RuO_2$/Ti 전극의 저항은 각각 $0.4582{\Omega}$, $0.5267{\Omega}$, 부식속도는 각각 0.082 mm/yr, 0.058 mm/yr로 내구성이 가장 우수하였다. 염소 발생량은 단위면적당($cm^2$) 루테늄의 코팅량 3.5 mg 전극이 15.2 mg/L로 가장 높게 측정되었다.

A Novel Method for Preparing of Oxoruthenates Complexes: trans-[RuO3(OH)2]2-, [RuO4]-, (n-Pr4N)+[RuO4]- and [RuO4 and Their Use as Catalytic Oxidants

  • Shoair, Abdel-Ghany F.
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제26권10호
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    • pp.1525-1528
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    • 2005
  • The synthesis and characterization of ${K_3[Ru(C_2O_4)3]{\cdot}4H_2O\;(C_2O_4}^{2-}$ = oxalato anoin) complex are described, and its redox properties (in buffer solution of pH = 12) have been investigated. This complex is used for in situ generation of oxoruthenates complexes which have been characterized by electronic spectroscopy. Reaction of ${K_3[Ru(C_2O_4)3]{\cdot}4H_2O$ with excess ${S_2O_8}^{2-}$ in molar KOH generates trans-${[RuO_3(OH)_2]^{2-}/S_2O_8}^{2-}$ reagent while with excess ${BrO_3}^-$ in molar $Na_2CO_3$ generates ${[RuO_4]^-/BrO_3}^-$ reagent. Avoiding the direct use of [$RuO_4$] the organic-soluble $(n-Pr_4N)^+[RuO_4]^-$, (TPAP) has been isolated by reaction of $K_3[Ru(C_2O_4)3]{\cdot}4H_2O$ with excess ${BrO_3}^-$ in molar carbonate and n-$Pr_4$NOH. In a mixture of $H_2O/CCl_4$ ruthenium tetraoxide can be generated by reaction of $K_3[Ru(C_2O_4)3]{\cdot}4H_2O$ with excess ${IO_4}^-$. The catalytic activities of oxoruthenates that have been made from $K_3[Ru(C_2O_4)3]{\cdot}4H_2O$ towards the oxidation of benzyl alcohol, piperonyl alcohol, benzaldehyde and benzyl amine at room temperature have been studied.

$CsLiB_6O_{10}$ (CLBO) 결정에서의 3차 조화파 발생 특성 (Characterization of Third Harmonic Generation in $CsLiB_6O_{10}$ (CLBO) Crystals)

  • 김민수;윤춘섭
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2001년도 제12회 정기총회 및 01년도 동계학술발표회
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    • pp.224-225
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    • 2001
  • 3차 비선형 광학 현상을 이용한 파장변환에 대한 연구는 1960년대 초 비선형 광학 연구가 시작된 이래 최근까지 연구자들로부터 큰 관심을 끌지 못하였다. 1963년 Terhune 등이 방해석을 이용한 3차 조화파 발생의 첫 연구결과를 보고하였으나, 일반적으로 직접적인 3차 파장변환 효율은 2차의 경우에 비해 현저히 낮기 때문에, 2차 파장변환 과정을 두 번 이용하여 3차에 해당하는 파장변환을 얻는 방법이 널리 활용되어 왔다. (중략)

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알칼리 활성 슬래그 결합재의 미소수화열 분석 (Isothermal Conduction Calorimetry Analysis of Alkali Activated Slag Binder)

  • 최영철;조현우;오성우;문규돈
    • 한국건설순환자원학회논문집
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    • 제3권3호
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    • pp.237-243
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    • 2015
  • 본 연구에서는 알칼리 활성화 슬래그 결합재의 반응성을 정량적으로 살펴보기 위해 미소수화열을 분석을 수행하였다. 알칼리 활성화 슬래그 결합재의 반응성 및 작업성 확보를 위해 다양한 알칼리 자극제의 종류 및 농도에 대해서 실험을 수행하였다. 알칼리 자극제 및 $SO_3$ 질량비를 변화하면서 미소수화열을 측정하였으며, 응결시간 제어를 위해 sodium tripolyphosphate ($Na_2P_3O_{10}$)와 hydrated sodium borate ($Na_2B_4O_710H_2O$)를 적용하였다. 그 결과, 알칼리 활성화 슬래그 결합재는 알칼리 활성에 의해 calcium silicate hydrate(C-S-H)를 촉진하는데 4~5% 농도의 알칼리가 필요한 것으로 나타났으며, $SO_3$ 함량이 높아질수록 누적 발열량이 작아지면서 전반적으로 발열이 지연되는 것으로 나타났다. 또한, 응결 지연제로서 hydrated sodium borate를 사용하였을 경우 발열을 억제하여 지연된 효과를 나타내며, 전체적인 누적 발열을 지연시키는 효과를 보이는 것을 확인할 수 있었다.

주조용 알루미늄 합금의 $Al_2O_3-40%TiO_2$ 용사층에 대한 마멸특성 평가 (Evaluation of Wear Chracteristics for $Al_2O_3-40%TiO_2$Sprayed on Casted Aluminum Alloy)

  • 채영훈;김석삼
    • Tribology and Lubricants
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    • 제15권1호
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    • pp.39-45
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    • 1999
  • The wear behavior of $Al_2$O$_3$-40%TiO$_2$deposited on casted aluminum alloy (ASTM A356) by APS (Air Plasma Spray) against SiC ball has been investigated in this work. Wear tests were carried out at room temperature. The friction coefficient of $Al_2$O$_3$-40%TiO$_2$coating is lower than that of pure $Al_2$O$_3$coating(APS). $Al_2$O$_3$-40%TiO$_2$coating indicated the existence of the optimal coating thickness. It is found that voids and pores of coating surface resulted in the generation of cracks, and the cohesive of splats and the porosity of surface play a role in wear characteristics. It is suggested that the mismatch of thermal expansion of substrate and coating play an important role in wear performance. Tension and compression under thermo-mechanical stress may be occurred by the mismatch between thermal expansion of substrate and coating. The crack propagation above interface is observed in SEM.

전기분해에 의한 잔류염소 생성 예측 모델 개발 (Model development for chlorine generation using electrolysis)

  • 손진식;이선재;신초롱
    • 상하수도학회지
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    • 제23권3호
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    • pp.331-337
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    • 2009
  • Electrolysis produces hypochlorous acid by using a small quantity of NaCl as electrolyte. This process maximizes the stabilization of drinking water through the control of chlorine residual concentration. This study investigated free chlorine generation by an electrolytic method using $Ti/IrO_2$ and stainless steel. The generation of free chlorine was increased with increasing hydraulic retention time, voltage, chlorine ion concentration and the number of electrodes. However, the change of pH did not affect the generation of free chlorine. There was no significant difference on the behavior of chlorine concentration between electrolytic method and NaOCl injection. In this study, the concentration of free chlorine predicted model based on power functional model was developed various under conditions. Electrolysis free chlorine generation model can be effective tool in the estimation of free chlorine generation.

3상 전압을 사용한 중첩방전형 오존발생기의 오존생성 및 방전잡음특성 (The Ozone Generation and Discharge Noise Characteristics of Superposed Discharge Noise Characteristics of Superposed Discharge Type Ozonizer Using Three-Phase Voltage)

  • 전병준;송현직;김영훈;최상태;이광식
    • 조명전기설비학회논문지
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    • 제14권2호
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    • pp.59-67
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    • 2000
  • 본 논문에서는 단목무성방전과 3상 전압을 사용한 중첩무성방전을 인가할 수 있는 오존발생기를 설계.제작하였다. 오존발생기는 3개의 전극(중심천극, 내부천극 및 외부전극)과 2개의 방전갭(중심전극과 내부전극 사이의 갭 및 내부전극과 외부전극 사이의 갭)으로 구성되어 있으며, 단목무성방전과 3상 중접방전이 인가되는 방식에 따라 오존화 가스가 생성된다. 이때 방전전력과 원료가스($O_2$)의 유량의 변화에 따른 오존생성특성을 연구한 결과, 단독무성방전의 경우, 최대 2300[ppm], 570[mg/h] 및 745[g/kWh]의 오존생성특성을 얻을 수 있었으며,3상 전압을 인가한 경우에는 5039[ppm], 1773[mg/h] 및 851[g/kWh]을 각각 얻을 수 있었다. 따라서 3상 중첩무성방전 이 단독무성방전에 비하여 오존생성특성올 향상시킬 수 있음을 확인하였다.

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C 언어를 이용한 PCI Express 동작 모델 설계 및 검증 (Design And Verification Of A PCI Express Behavioral Model Using C Language)

  • 예상영;현유진;성광수
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2003년도 하계종합학술대회 논문집 II
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    • pp.811-814
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    • 2003
  • Today's and tomorrow's processors and I/O devices are demanding much higher I/O bandwidth than PCI 2.3 or PCI-X can deliver and it is time to engineer a new generation of PCI to serve as a standard I/O bus for future generation platforms. According to this demand the PCI SIG proposed PCI Express. This paper describes about the design of PCI Express Behavioral Model. A Behavioral Model enables the designers to test whether the design specifications are met by performing computer simulations rather than experiments on the physical prototype. In the proposed Model, we can verify whether our design concept satisfies the PCI Express functional protocol.

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