It was the first time the MgO-C brick was developed for the lining materials in the hot spots in electric are furnace in 1972. MgO-C brick is high registant to thermal and structural spalling. Futhermore for the reason that carbon is hard to react with slag and MgO is high fireproof MgO-C brick shows a high corrosion registance to slag attack compared with conventional basic refractories. Owing to their excellent properties the use of MgO-C refractories are being developed widely in the field of shaped refractories and even in that of monolithic refractories. In this paper the oxidation of carbon the infiltration of slag into the brick texture and effects of additions were investigated. The results obtained were as follows : 1) The use of fused MgO-clinker and high purity carbon as raw materials increased the corosion registance and hot modulus of rupture of MgO-C brick. 2) As the oxidation reaction of the carbon proceeded the slag infiltrated into the brick texture. And then the slag components reacted with the MgO grains and formed low melting point compounds particulary CaO.MgO.$SiO_2$ and 3CaO.MgO.$2SiO_2$ that resulted in the wear of the brick. 3) It is recongnized the Al, Si, $B_3C$ effects on the oxidation registant properties of MgO-C brick by contribu-ting to the decrease of permeability according to the formation of $Al_4C_3$, SiC, $B_2O_3$ and the decrease of open pores relating to the formation of MgO.Al2O3, $SiO_2$, 3MgO.$B_2O_3$ at the decarbonized layer.
한국분말야금학회 2006년도 Extended Abstracts of 2006 POWDER METALLURGY World Congress Part2
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pp.831-832
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2006
Solid-state processing via the bulk mechanical alloying enables us to directly fabricate $Mg_2X$ semi-conductive material performs. Precise control of chemical composition leads to investigation on the dilution and enrichment of X in $Mg_2X$. Two types of solid-state reactivity are introduced: e.g. synthesis of $Mg_2Si$ from elemental mixture Mg-Si is nucleation-controlled process while synthesis of $Mg_2Sn$ from Mg-Sn, diffusion-controlled process. Thermoelectricity of these $Mg_2X$ is evaluated for discussion on the validity and effectiveness of this new PM route as a reliable tool for fabrication of thermoelectric compounds.
한성 비정질 투휘석$(Ca,Mg)SiO_3$에 대한 상변이 연구를 압력은 다이아몬드앤빌기기를 이용하여 ∼30 GPa까지, 온도는 약(YAG) 레이저 가열기기를 이용하여 ∼$1000^{\circ}C$에서 조사(scanning)하여 시행하였다. 비정질 투휘석은 고온-고압 하에서 곧바로 등축정계에 속하는 단상의 $(Ca,Mg)SiO_3$페롭스카이트 결정구조로 상변이 하였다. 이러한 결과는 고온-고압 하에서 사방정계에 속하는 $MgSiO_3$페롭스카이트 상과 등축정계에 속하는 $CaSiO_3$페롭스카이트 상으로 분리되는 상변이를 하는 결정질 투휘석의 상변이 계통과는 큰 차이를 보이고 있다. 이러한 차이는 출발시료의 차이점이나 특히 온도가 상변이에 큰 영향인자로 작용하여 기인한 것으로 판단된다. 이러한 강변이 관계는 맨틀의 온도, 압력 및 산소분압 차이 등에 의해 맨틀전이대나 하부맨틀을 구성하는 광물상의 조합에 영향을 줄 수 있다.
내부식성이 약해서 응용이 제한되고 있는 Mg 합금 AZ31과 AZ91의 내부식성을 향상시키기 위하여 Na-P 및 Na-Si 전해액을 사용하여 공정조건에 따라 PEO 처리를 하여 표면 피막의 결정상과 morphology를 관찰하였다. PEO 처리한 표면 산화피막에서 가장 흔히 발견되는 결정상은 MgO이며 비정질상의 존재도 알 수 있었다. 전해액에서부터 비롯된 Na, P 및 Si 성분이 산화피막의 형성에 첨가되어 $Na_{3.59}Mg_{2.71}(PO_4)_3$ 상과 $Mg_2SiO_4$ 결정상이 관찰되었다. 산화표면은 PEO 처리 전압, 전해질 농도, 처리 시간에 따라서 기공율이 감소하다가, 이후 기공율과 기공의 크기가 증가하는 경향을 관찰할 수 있었다.
Lee, Jung-Il;Kim, Tae Wan;Shin, Ji Young;Ryu, Jeong Ho
한국결정성장학회지
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제25권3호
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pp.121-126
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2015
A novel $Ce^{3+}$ doped $Lu_3MgAl_3SiO_{12}$ phosphor ($Lu_{2.94}Ce_{0.06}MgAl_3SiO_{12}$) was successfully synthesized by a conventional solid-state reaction at $1450^{\circ}C$ for 5 h. The crystal structure of the synthesized phosphor powder was characterized by X-ray diffraction and Rietveld refinement. The prepared phosphor powder showed a broad peak at 550 nm, and the temperature dependence on photoluminescence properties of the prepared $Lu_{2.94}Ce_{0.06}MgAl_3SiO_{12}$ phosphor was investigated from 300 to 525 K. The activation energy for thermal quenching was determined by Arrhenius fitting. The experimental results clearly indicate that prepared $Lu_{2.94}Ce_{0.06}MgAl_3SiO_{12}$ phosphor has great potential for a down-conversion yellow phosphor in white light-emitting diodes.
The adsorption geometry and the electronic property of Mg grown at room temperature on the Si(111)-7$\times$7 surface with various coverages have been studied by scanning tunneling microscopy (STM) and low energy electron diffraction (LEED). At low Mg coverage, the Mg atoms preferentially adsorb at the center adatom sites of the faulted half of the Si(111)-7$\times$7 surface. The adsorbed Mg atom acts as nucleophile with respect to Si atoms thus forms a stable ionic bond with the substrate Si atoms. Above 1 Ml, the 7$\times$7 surface starts to be disrupted and an amorphous Mg overlayer is formed. The LEED shows either $\delta$7$\times$7 or 1$\times$1 pattern at this coverage. When more Mg atoms were exposed, a flat and broad {{{{ { 2} over {3 } }}}}{{{{ SQRT { 3} }}}}$\times${{{{ { 2} over {3 } }}}}{{{{ SQRT { 3} }}}}R30$^{\circ}$region evolves. A flat silicide is formed at first and multi-level Mg islands having hexagonal step edges develop with increasing coverage. The scanning tunneling spectroscopy (STS) confirms the electronic properties of these Mg films on the si(111) 7$\times$7 surface at various coverages.
To improve corrosion resistance and reduce the hydrogen uptake of 22MnB5, up to 5% Mg was added to the AlSi coating of 22MnB5. After hot-stamping and electrocoating were done on the metallic-coated specimen, the surface characteristics of the steel, hydrogen uptake content, and corrosion resistance were examined by transmittance electron microscopy, thermal desorption spectrometry, cyclic corrosion testing, and electrochemical impedance spectroscopy. Mg was investigated as MgO on the surface layer after hot-stamping while it existed as Mg2Si before hot-stamping. The total hydrogen content of 22MnB5 was decreased along with the Mg content. However, there was no difference at 0.2 wt% or more. When a small amount of Mg was added, the coating corrosion resistance was decreased, but when it was added at around 1.0 wt%, the greatest corrosion resistance increase was seen. However, when 3 wt% or more was added excessively, the corrosion resistance was decreased. MgO on the surface was considered to suppress H uptake by the AlSi melting solution and increase the barrier effect of the coating.
Effect of Fe and Mn contents on the castability of Al-9wt%Si-xMg-yFe-zMn alloy has been studied. The alloy was composed of ${\alpha}$-Al phase, Al+eutectic Si phase, ${\beta}$-Al5FeSi compound and chinese script ${\alpha}$-$Al_{15}(Mn,Fe)_3Si_2$ compound. ${\beta}$-$Al_5FeSi$ and ${\alpha}$-$Al_{15}(Mn,Fe)_3Si_2$ compounds assumed to effect the fluidity and shrinkage behaviors of the alloy during solidification due to the crystallization of ${\alpha}$-$Al_{15}(Fe,Mn)_3Si_2$ and ${\beta}$-$Al_5FeSi$ compounds above eutectic temperature. As Fe and Mn contents of Al-9wt%Si-0.3wt%Mg system alloy increased from 0.15wt% to 0.6wt% and from 0.3wt% to 0.7wt%, fluidity of the alloy decreased by 5.7% and 3.3%, respectively. And as Mg content of Al-9wt%Si-0.45wt%Fe-0.5wt%Mn system alloy increased from 0.3wt% to 0.4wt%, fluidity of the alloy decreased by 8.6%. When Fe content of the alloy increased from 0.15wt% to 0.6wt%, macro shrinkage ratio decreased from 6.1% to 4.1%, and micro shrinkage ratio increased from 0.04% to 0.24%. Similarly, Mn content of the alloy increased from 0.3wt% to 0.7wt%, macro shrinkage ratio decreased from 6.0% to 4.5% and micro shrinkage ratio increased from 0.12% to 0.18%. Judging from the castability of the alloy, Al-9wt%Si-0.3wt%Mg alloy with low content of Fe and Mn, 0.1wt% Fe and 0.3wt% Mn, is recommendable.
본 실험에서는 동해안산 해조류인 구멍갈파래에 대한 중금속 Cd(II), Pb(II)이온의 흡착 특성에 대해 연구하였다. 구멍갈파래 1 g에 대한 Cd(II) 및 Pb(II)이온의 최대흡착량은 알카리성에서 2.3 mg, 3.1 mg, 산성용액속에서 2.0 mg, 2.8 mg으로 나타났다. Si-고정구멍갈파래는 알카리성에서 3.4 mg, 7.3 mg, 산성용액 속에서 3.1 mg, 6.5 mg으로 나타났다. 따라서 Si로 고정된 구멍갈파래가 더 많은 중금속 Cd(II), Pb(II) 이온을 흡착하였으며, 산성보다는 알카리성에서 흡착량이 더 크게 나타났다. 또한 Pb(II)이온의 흡착량이 Cd(II)이온보다 더 많게 나타났다. Cd(II) 및 Pb(II)이온의 회수율은 구멍갈파래의 경우 55.0~61.0%, 59.7~66.8%로 나타났고, Si-고정구멍갈파래는 87.6~97.5%, 83.5~99.3%로 나타났다. 따라서 구멍 갈파래보다 Si-고정구멍갈파래가 Cd(II), Pb(II) 이온 모두 회수율이 더 높게 나타났다.
광소자와 마이크로파 유전체 소자 및 절연 산화막으로의 응용을 위한 $MgTiO_3$ 박막을 펄스레이저 증착법을 이용하여 다양한 기판 위에서 증착하였다. 사파이어 기판에(c-plane Sapphire) 성장된 $MgTiO_3$ 박막은 에피텍셜 성장(epitaxial growth)이 되었으며, $SiO_2$/Si 및 Pt/Ti/$SiO_2$/Si(plantinzed silicon)기판 위에 성장된 $MgTiO_3$ 박막의 경우, 기판과 관계없이 c축 방향으로 배향(oriented)되었다. 사파이어 기판 위에 증착된 $MgTiO_3$ 박막은 가시영역에서 투명하였으며, 약 290 nm 파장을 갖는 영역에서 급격한 흡수단을 보였다. 사파이어 기판 위에 성장된 박막의 AM(Atomic Force Microscopy)분석결과 약 0.87 nm rms roughness 값을 갖는 매우 평탄한 표면상태를 갖고 있음을 확인하였다. MIM(Pt/$MgTiO_3$/Pt) 구조의 캐패시터를 형성시켜 $MgTiO_3$박막의 유전특성 (dielectric properties)을 관찰하였는데, 펄스레이저 증착법으로 성장된 $MgTiO_3$ 박막의 유전율(relative dielectric constant)은 약 24.5였으며, 1 MHz에서 약 1.5%의 유전손실(dielectric loss) 값을 보였다. 또한 이때 $MgTiO_3$박막은 낮은 유전분산을 보였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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