• 제목/요약/키워드: $H_2$ oxidation

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응집 및 fenton 산화공정을 연계한 축산폐수처리에 관한 연구 (Astudy on Treatment of Livestock Wastewater using Coagulation and Fenton Oxidation Process)

  • 조창우;유재웅;정팔진
    • 한국물환경학회지
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    • 제20권6호
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    • pp.610-614
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    • 2004
  • The objective of this study was to remove organics and color in livestock wastewater using coagulation and Fenton oxidation process. After coagulation process as $1^{st}$ treatment, organics in $1^{st}$ treatment water were removed by using OH radical produced in Fenton oxidation process. Removal efficiencies of $COD_{Mn}$ and color were 87.2% and 95.7% separately. At that time, the ratio of $Fe^{2+}/H_2O_2$ was 0.8~1.0, and range of reaction pH was effective at the pH of 3.5~3.8. The Reaction time of 120min more than 60min or 90min was sufficient in Fenton process. Removal efficiency of organics was higher two- or multi-stage treatment than one-stage treatment.

Effects of Ionizable Groups on the Redox Potentials of Cytochrome c₃from D. vulgaris Miyazaki F

  • 박장수;강신원
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제17권9호
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    • pp.820-826
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    • 1996
  • The p2H dependence of the NMR chemical shifts of the proton signals of heme methyl groups and ionizable groups in the vicinity of the heme were investigated. The p2H titration of heme methyl signals in four macroscopic oxidation states by saturation tranfer method was performed in the range between p2H 5.2 and 9.0. While the p2H dependence of the heme methyl resonance in fully oxidized state was small, most resonances in the intermediate oxidation states showed certain shifts. Particularly, methyl resonances of heme 1 (sequential heme numbering) exhibited sharp p2H dependence in acidic range. β-CH2 of the propionate of hemes 1 and 4 were titrated in the range of p2H 4.5-9.0. Only the 6-propionate group of heme 1 was protonated in this p2H range and its titration curve was similar to those of methyl resonances of heme 1 in intermediate oxidation states. Analysis of the microscopic redox potentials showed that they change depending on p2H. The ionizable groups responsible for the p2H dependence of these potentials are 6-propionate of heme 1 in acidic range and His 67 in basic range.

Water 수처리를 이용한 귀금속 촉매의 VOCs 산화특성 (Oxidation characterization of VOCs over noble metal catalyst using water treatment)

  • 김문찬
    • 분석과학
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    • 제18권2호
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    • pp.120-129
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    • 2005
  • VOC는 대기오염의 주원인으로서 인식되어왔다. 촉매산화는 저온에서 높은 효율을 나타내기 때문에 VOCs 제거를 위한 가장 중요한 처리기술중 하나이다. 이 연구에서는 $TiO_2$ 담체에 Pt, Ir 그리고 Pt-Ir을 담시지켜 촉매를 제조하였다. 금속 분산에 따르면 $H_2O-H_2$ 처리방법이 사용되었고, 반응물로서 Xylene,Toluene 그리고 MEK을 사용하였다. 단일 또는 두 가지 이상의 촉매들은 함침법에 의해 준비하였고, XRD, XPS, TEM 분석을 통하여 특성화하였다. 그 결과 Pt 촉매는 Ir 촉매에 비해 더 높은 전환율을 나타내었고, Pt-Ir 촉매는 가장 높은 전환율을 나타내었다. $H_2O-H_2$ 처리한 촉매들은 처리하지 않은 것보다 VOCs 전환율이 높았다. VOCs 산화에서, Pt-Ir 촉매는 다양한 활성점을 나타내었고 그것은 Pt의 metal 영역을 강화시켰다. 따라서 두 가지 금속으로 이루어진 촉매가 단일 금속으로 이루어진 촉매에 비해 VOCs 전환율이 더 높았다. $H_2O-H_2$ 처리가 Pt 입자의 분산에서 형태에 영향을 미쳤다. 동역학적으로 VOCs 산화는 1차 반응이다. $H_2O-H_2$ 처리한 촉매들의 활성화에너지가 처리하지 않은 것들보다 낮았다. 이 연구에서 Pt에 Ir을 소량첨가함으로써 VOCs 산화반응에 효과적이었다.

Measurement of Interface Trapped Charge Densities $(D_{it})$ in 6H-SiC MOS Capacitors

  • Lee Jang Hee;Na Keeyeol;Kim Kwang-Ho;Lee Hyung Gyoo;Kim Yeong-Seuk
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2004년도 ICEIC The International Conference on Electronics Informations and Communications
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    • pp.343-347
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    • 2004
  • High oxidation temperature of SiC shows a tendency of carbide formation at the interface which results in poor MOSFET transfer characteristics. Thus we developed oxidation processes in order to get low interface charge densities. N-type 6H-SiC MOS capacitors were fabricated by different oxidation processes: dry, wet, and dry­reoxidation. Gate oxidation and Ar anneal temperature was $1150^{\circ}C.$ Ar annealing was performed after gate oxidation for 30 minutes. Dry-reoxidation condition was $950^{\circ}C,$ H2O ambient for 2 hours. Gate oxide thickness of dry, wet and dry-reoxidation samples were 38.0 nm, 38.7 nm, 38.5 nm, respectively. Mo was adopted for gate electrode. To investigate quality of these gate oxide films, high frequency C- V measurement, gate oxide leakage current, and interface trapped charge densities (Dit) were measured. The interface trapped charge densities (Dit) measured by conductance method was about $4\times10^{10}[cm^{-1}eV^{-1}]$ for dry and wet oxidation, the lowest ever reported, and $1\times10^{11}[cm^{-1}eV^{-1}]$ for dry-reoxidation

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Removal Efficiency of Arsenic by Adsorbents having Different Type of Metal Oxides

  • Min, Sang-Yoon;Kim, Byeong-Kwon;Park, Sun-Ju;Chang, Yoon-Young;Yang, Jae-Kyu
    • Environmental Engineering Research
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    • 제14권2호
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    • pp.134-139
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    • 2009
  • In this study, oxidation of As (III) as well as removal of total arsenic by adsorbents coated with single oxides or multi-oxides (Fe (III), Mn (IV), Al (III)) was investigated. In addition, multi-functional properties of adsorbents coated with multi-oxides were evaluated. Finally, application of activated carbon impregnated with Fe or Mn-oxides on the treatment of As (III) or As (V) was studied. As (V) adsorption results with adsorbents containing Fe and Al shows that adsorbents containing Fe show a greater removal of As (V) at pH 4 than at pH 7. In contrast adsorbents containing Al shows a favorable removal of As (V) at pH 7 than at pH 4. In case of iron sand, it has a negligible adsorption capacity for As (V) although it contains 217.9 g-Fe/kg-adsorbent, Oxidation result shows that manganese coated sand (MCS) has the greatest As (III) oxidation capacity among all metal oxides at pH 4. Oxidation efficiency of As (III) by IMCS (iron and manganese coated sand) was less than that by MCS. However the total removed amount of arsenic by IMCS was greater than that by MCS.

4H-SiC와 산화막 계면에 대한 혼합된 일산화질소 가스를 이용한 산화 후속 열처리 효과 (Effect of High-Temperature Post-Oxidation Annealing in Diluted Nitric Oxide Gas on the SiO2/4H-SiC Interface)

  • 김인규;문정현
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제37권1호
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    • pp.101-105
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    • 2024
  • 4H-SiC power metal-oxide-semiconductor field effect transistors (MOSFETs) have been developed to achieve lower specific-on-resistance (Ron,sp), and the gate oxides have been thermally grown. The poor channel mobility resulting from the high interface trap density (Dit) at the SiO2/4H-SiC interface significantly affects the higher switching loss of the power device. Therefore, the development of novel fabrication processes to enhance the quality of the SiO2/4H-SiC interface is required. In this paper, NO post-oxidation annealing (POA) by using the conditions of N2 diluted NO at a high temperature (1,300℃) is proposed to reduce the high interface trap density resulting from thermal oxidation. The NO POA is carried out in various NO ambient (0, 10, 50, and 100% NO mixed with 100, 90, 50, and 0% of high purity N2 gas to achieve the optimized condition while maintaining a high temperature (1,300℃). To confirm the optimized condition of the NO POA, measuring capacitance-voltage (C-V) and current-voltage (I-V), and time-of-flight secondary-ion mass spectrometry (ToF-SIMS) are employed. It is confirmed that the POA condition of 50% NO at 1,300℃ facilitates the equilibrium state of both the oxidation and nitridation at the SiO2/4H-SiC interface, thereby reducing the Dit.

산화공정에서의 Diclofenac, Ibuprofen 및 Naproxen의 제거특성 평가 (Removal of Diclofenac, Ibuprofen and Naproxen using Oxidation Processes)

  • 손희종;유수전;황영도;노재순;유평종
    • 대한환경공학회지
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    • 제31권10호
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    • pp.831-838
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    • 2009
  • 본 연구에서는 염소, 오존 및 오존/과산화수소 산화공정에서의 의약물질 3종의 제거특성을 살펴본 결과 diclofenac과 naproxen은 쉽게 산화공정에서 제거가 가능한 것으로 나타난 반면 ibuprofen의 경우는 산화공정에서 제거가 어려운 것으로 나타났다. 오존 단독공정 보다는 오존/과산화수소 산화공정에서의 의약물질의 제거효율이 높았으며, $H_2O_2/O_3$ 비가 1 이상에서는 제거율의 상승이 둔화되었다. 염소, 오존 및 오존/과산화수소 투입농도별 의약물질 3종에 대한 산화분해 속도 상수와 반감기를 살펴본 결과 염소, 오존 단독 투입에 비하여 오존/과산화수소 공정에서의 산화분해 속도상수가 높게 나타났고, 반감기는 단축되었다.

비귀금속계 금속을 이용한 일산화질소 산화 촉매 연구 (A Study of Nitric Oxide Oxidation Catalyst Using Non-noble Metals)

  • 신중훈;홍성창
    • 공업화학
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    • 제32권4호
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    • pp.385-392
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    • 2021
  • 본 연구에서는 Co/CeO2 촉매 제조 시 코발트의 첨가 함량 및 세리아의 소성온도에 따른 물리·화학적 특성 및 일산화질소 산화 성능을 비교하였다. Co/CeO2 촉매의 구조적 특성은 XRD, BET 분석을 통하여 확인하였으며, 코발트 표면밀도에 따른 표면 결정 상태를 제안하였다. 또한, Raman, XPS 분석을 통하여 촉매의 산화가 및 산소 결합 상태를 확인하였으며, 일산화질소 산화 성능과의 관계를 제안하였다. H2-TPR 분석을 통하여 촉매의 특성 변화에 따른 산소전달특성을 확인하였으며, 일산화질소 산화를 위한 촉매의 활성점(Co3+)을 제안하였다.

Hypochlorite에 의한 한국산 옥수수 전분의 산화특성 (Characteristics in Oxidation of Korean Corn Starch with Sodium Hypochlorite)

  • 한진숙;안승요
    • 한국식품과학회지
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    • 제29권6호
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    • pp.1094-1100
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    • 1997
  • 본 연구는 옥수수 전분을 sodium hypochlorite(NaOCl)로 산화시킬 때 산화제의 농도, pH와 온도가 미치는 영향에 대하여 조사하였다. 전분의 산화 반응은 NaOCl 농도, pH와 온도의 영향을 받았다. 산화반응은 산화제가 3.0% active Cl/g starch 이하의 농도에서는 1차 반응, 3.75% active Cl/g starch이상의 농도에서는 2차 반응으로 나타났다. 1차 반응에서 산화제의 농도가 2.25% active Cl/g starch 까지는 반응속도 상수가 증가하였고, 그 이후의 농도에서는 일정한 값을 보였다. 산화에 따른 전분내 카르복실기 함량은 반응 초기에 급격히 증가하다가 반응이 진행되면서 증가정도가 완만해졌으며, NaOCl 농도가 증가함에 따라 카르복실기의 생성량도 증가하였다. 동일한 NaOCl 농도(1.5% active Cl/g starch)에서 전분의 산화는 pH 7에서 가장 빠르게 진행되었다 온도에 따른 전분의 산화속도를 1차식으로 해석한 결과, 온도가 증가됨에 따라 속도 상수(k)값이 증가되어 반응속도가 빨라지는 것을 알 수 있었다. 한편 Arrhenius 식으로부터 산화 반응의 활성화 에너지를 계산하였을 때 1차반응의 활성화 에너지는 약 13.45 kcal/mol이었다.

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