Growth of synthetic emerald [($(BeO)_3(Al_{2-x}Cr_xO_3)(SiO_2)_6$] single crystals was carried out by flux method. In this study, the starting materials were prepared by stoichiometric mixing of BeO, $Al_2O_3$ and $SiO_2$ as reaching components. The conditions for the growth of synthetic emerald single crystals are as follows : temperature range ; $1150{\sim}900^{\circ}C$, cooling rate ; 2, 4, $10^{\circ}C/hr$, flux ; $Li_2CO_3$, $V_2O_5$, dopant ; $Cr_2O_3$. The sizes of $Cr_2O_3$emerald single crystals depending on 2, 4, $10^{\circ}C/hr$ cooling rates. The obtained emerald single crystal was characterized and the following results were obtained : lattice parameter : a=0.921nm, c=0.917nm, crystal system ; hexagonal, crystal size ; max. $0.80{\times}0.95mm^2(c{\times}m)$, orientation ; (1000), $m(10{\bar{1}}0)$.
MR characteristics in magnetic tunnel junction using CoO as the oxide barrier were investigated. Spin-dependent tunnel junctions were fabricated on 4$\^$o/ tilt-cut (111)Si substrates in 3-gun magnetron sputtering system. The top and bottom ferromagnetic electrodes were Ni$\_$80/Fe$\_$20/(300 $\AA$) and Co(300 $\AA$), respectively. The oxide barriers (CoO) were formed by the thermal oxidation at room temperature in an O$_2$ atmosphere and the plasma oxidation. The increase of coercive field due to antiferromagnetic-ferromagnetic coupling has been observed in O$_2$plasma-oxidized CoO based junctions at room temperature. At a sensing current of 1 mA, MR ratios of O$_2$plasma-oxidized CoO based junction and thermal-oxidized CoO based junction at room temperature were 1% and 5%, respectively. Larger MR ratios are observed in magnetic tunnel juctions with thermal oxidized CoO when sensing current more than applied 1.5 mA. At a sensing current of 1.5 mA, we have observed MR value of 28 % and specific resistance (RA=R$\times$A) value of 10.9 ㏀$\times$㎛$^2$. When specific resistance values reached 2.28 ㏀$\times$㎛$^2$, we have observed that MR ratios become as high as 120%.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.39
no.9
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pp.901-907
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2015
The Vickers hardness test is a common method used to characterize the hardness of ceramic materials. However, the hardness is not a deterministic value, but is a random variable. The objective of this paper is to investigate the statistical properties of the bending strength and a set of Vickers hardness values in single $ZrO_2$ and composite $ZrO_2/SiC$ with a SiC additive. In this work, we compare the characteristic value and variation with the results based on Weibull statistical analysis. The probability distributions of the bending strength and Vickers hardness agreed relatively well with the Weibull distribution. We evaluate the scale parameter and shape parameter in asreceived $ZrO_2$ and $ZrO_2/SiC$ composite ceramics, as well as in their heat treated ceramics.
$CoSi_2$ was formed through annealing of atomic layer deposition Co thin films. Co ALD was carried out using bis(N,N'-diisopropylacetamidinato) cobalt ($Co(iPr-AMD)_2$) as a precursor and $NH_3$ as a reactant; this reaction produced a highly conformal Co film with low resistivity ($50\;{\mu}{\Omega}cm$). To prevent oxygen contamination, $ex-situ$ sputtered Ti and $in-situ$ ALD Ru were used as capping layers, and the silicide formation prepared by rapid thermal annealing (RTA) was used for comparison. Ru ALD was carried out with (Dimethylcyclopendienyl)(Ethylcyclopentadienyl) Ruthenium ((DMPD)(EtCp)Ru) and $O_2$ as a precursor and reactant, respectively; the resulting material has good conformality of as much as 90% in structure of high aspect ratio. X-ray diffraction showed that $CoSi_2$ was in a poly-crystalline state and formed at over $800^{\circ}C$ of annealing temperature for both cases. To investigate the as-deposited and annealed sample with each capping layer, high resolution scanning transmission electron microscopy (STEM) was employed with electron energy loss spectroscopy (EELS). After annealing, in the case of the Ti capping layer, $CoSi_2$ about 40 nm thick was formed while the $SiO_x$ interlayer, which is the native oxide, became thinner due to oxygen scavenging property of Ti. Although Si diffusion toward the outside occurred in the Ru capping layer case, and the Ru layer was not as good as the sputtered Ti layer, in terms of the lack of scavenging oxygen, the Ru layer prepared by the ALD process, with high conformality, acted as a capping layer, resulting in the prevention of oxidation and the formation of $CoSi_2$.
Granitoids in the Younggwang-Kimje area can be divided into two types of granite. One is foliated granite (Cheongup and Kochang foliated granites) developed along the NE-SW direction kwangju fault system and the other is undeformed granite (Kimje and Younggwang granites) developed in the western part of the area. $SiO_2$ content of study area, Younggwang granite is 62.8-74.0%, Kochang foliated granite is 64.5-74.4%, Cheongup foliated granite is 64.5-70.2%, Kimje granite is 63.4-72.0%. The result indicated that these granitoids belong to the intermediate and acidic rock. In Harker's diagram, as $SiO_2$ increases, $Al_2O_3$, $Fe_2O_3$, MgO, CaO, $TiO_2$> $P_2O_{5}$s and MnO decrease, but $K_2O$ increases. In AFM diagram, Younggwang granite, Kochang foliated granite, Cheongup foliated granite and Kimje granite belong to calk-alkaline rock series. And in triangular diagrams of normative Qz-Or-Pl and An-Ab-Or, they are located in granodiorite and granite region. On the co-variation diagrams of trace elements with silica, Ba, Co, Li, Nb, An, Rb elements show increasing patterns. The diagrams of ACF and $Na_2O$ vs. $K_2O$ ratios indicate that granitoids of the study area belong to I-type.
Journal of the Society of Cosmetic Scientists of Korea
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v.25
no.4
s.34
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pp.43-50
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1999
The planarized $SiO_2$ particles were prepared by two-step reduction method of making much smaller particles, micron-sized ones, to improve spreadability, adherence, and smoothness. Various pigments known as flaky extender usually have terrace layers on their surfaces, but $SiO_2$ particles in this study exhibit a smooth surface structure. These single $SiO_2$ particles were used as core particles to prepare the composite particles coated with ultra fine $TiO_2$ particles by a homogeneous precipitation method. The thickness and the morphology of the deposited $TiO_2$ layers could be modified by adjusting the reactant concentrations, the reaction time and the temperature. The characteristics of $SiO_2/TiO_2$ composite in the field of color cosmetics are to give an UV-cut effect and to enhance the chroma of human skin color, one of optical properties.
The planarized SiO$_2$ particles were prepared by two-step reduction method of making much smaller particles, micron-sized ones, to improve spreadability, adherence, and smoothness. Various pigments known as flaky extender usually have terrace layers on their surfaces, but SiO$_2$ particles in this study exhibit a smooth surface structure. These single SiO$_2$ particles were used as core particles to prepare the composite particles coated with ultra fine TiO$_2$ particles by a homogeneous precipitation method. The thickness and the morphology of the deposited TiO$_2$ layers could be modified by adjusting the reactant concentrations, the reaction time and the temperature. The characteristics of SiO$_2$/TiO$_2$ composite in the field of color cosmetics are to give an UV-cut effect and to enhance the chroma of human skin color, one of optical properties.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.214-214
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2010
The 0.65Pb($Mg_{1/3}Nb_{2/3})O_3-0.35PbTiO_3$ (PMN-PT) thin films with $La_{0.5}Sr_{0.5}CoO_{3-\delta}$ (LSCO) bottom electrodes were grown on $CeO_2$/YSZ/Si(001), Pt/$TiO_2$/Si and $SrTiO_3$ (STO) substrates using conventional pulsed laser deposition (PLD) at a substrate temperature of $550^{\circ}C$. Since generally the crystallographic orientation of the bottom electrode induces the orientation of the films deposited on it, it allows us to observe the influence of the PMN-PT film orientation on the electrical properties. Phi scan done on PMN-PT/LSCO thin films shows epitaxial behavior of the films grown on sto substrates and $CeO_2$/YSZ buffered Si(001) substrates, and (110) texture on Pt/$TiO_2$/Si substrates. Polarization-electricfield (P-E) measurement shows good hysteresis behavior of PMN-PT films with remnant polarization of 18.2, 8.8, and $4.4{\mu}C/cm^2$ on $CeO_2$/YSZ/Si, Pt/TiO2/Si and STO substrates respectively.
Park, K.S.;Park, J.W.;Kim, Y.J.;Yoon, W.L.;Park, J.S.;Rhee, Y.W.;Kang, Y.
Journal of Korean Society of Environmental Engineers
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v.22
no.12
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pp.2263-2273
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2000
Catalytic wet air oxidation of acetic acid over Mn-Ce based catalysts deposited on various supports ($SiO_2$, $TiO_2$, $ZrO_2$), $ZrSiO_4$, $ZrO_2(10wt%)/TiO_2$) have been carried out in high pressure microreactors. Also, promotional effects by small addition(O.5~1.0 wt%) of p-type semiconductors (CoO, $Ag_2O$, SnO) have been investigated. From the screening tests for initial activity ranking, both Mn(2.8)-Ce(7.2 wt%) and Ru(O.4)Mn(2.7)-Ce(6.9 wt%) supported on $TiO_2$ were selected as the promising reference candidates. In $Mn-Ce/TiO_2$ reference catalyst, addition of small amount of each p-type semiconductor (Co, Sn and Ag) resulted in activity promotional effect and the degree of the increase was in the following order: Co> Ag > Sn. Especially, $Mn-Ce/TiO_2$ promoted with 0.5 wt% Co gave the 2.6 folds activity increase compared to the reference case attributing to the surface area increase as well as synergy effect. In $Ru-Mn-Ce/TiO_2$ reference catalyst, only Co(1.0 wt%) promoted case showed a little reaction rate increase.
In this study, the alkaline degreasing agent was developed for electroplating pretreatment process, and the efficiency and the durability was predicted. The alkaline deeping degreasing agent was prepared by blending sodium hydroxide (NaOH), sodium carbonate ($Na_2CO_3$), sodium silicate ($Na_2SiO_3$), and sodium lauric sulfate (SLS). The performance tests of the degreasing agent were evaluated in the $40{\sim}50^{\circ}C$ of the degreasing temperature and 30~40 min of the degreasing time. The efficiency and durability of the prepared degreasing agent were tested by the waterdrop formation test and Hull-cell plating test. The optimum ratio of alkaline degreasing agent was NaOH (30 g/L) + SLS (6.0 g/L) + $Na_2SiO_3$ (2.0 g/L) + $Na_2CO_3$ (40 g/L). Also, the optimum degreasing conditions were $50^{\circ}C$ of the degreasing temperature and 35 min of the degreasing time.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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