ICP에 의한 $BCI_3/CI_2$ 플라즈마 내에서 Pt 박막의 식각 특성
(Properties of the Pt Thin Etching in $BCI_3/CI_2$ gas by Inductive Coupled Plasma)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제11권10호
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- pp.804-808
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- 1998