• 대한전자공학회논문지SD
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• 제37권11호
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• pp.18-24
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• 2000

(Ba,Sr)$TiO_3$ 박막은 ULSI-DRAM 즉 1-4 Gbit급 DRAM용 셀(cell) 커패시터의 새로운 유전물질로 각광받고 있다. 본 연구에서는 ICP 장비에서 $BCl_3/Cl_2/Ar$ 플라즈마로 (Ba,Sr)$TiO_3$ 박막을 식각하였다. 이때 RF power/dc bias voltage는 600W/-250V, 반응로의 압력은 10mTorr 이었다. $Cl_2/(Cl_2+Ar)$은 0.2로 고정하였고, $BCl_3$ 가스를 첨가하면서 (Ba,Sr)$TiO_3$ 박막을 식각하였다. $BCl_3$ 가스를 10% 첨가하였을 때, $480{\AA}/min$으로 (Ba,Sr)$TiO_3$ 박막은 가장 높은 식각 속도를 나타내었다. $Cl_2/Ar$가스에 $BCl_3$의 첨가 비에 따른 Cl, BCl 및 B의 라디칼 밀도를 optical emission spectroscopy(OES)에 의해 구하였다. $BCl_3$를 10% 첨가하였을 때 Cl의 라디칼 밀도가 가장 높았다. (Ba,Sr)$TiO_3$ 박막의 표면반응을 규명하기 위하여 XPS 분석을 수행한 결과 이온 bombardment 식각이 Ba-O 결합을 파괴하고 Ba와 Cl의 결합형태인 $BaCl_2$을 제거하기 위하여 필요하다. Sr과 Cl의 결합의 양은 많지 않고, Sr은 주로 물리적인 스퍼터링에 의하여 제거된다. Ti와 Cl은 화학적으로 반응하여 $TiCl_4$ 결합형태로 용이하게 제거된다. 식각후 단면사진을 SEM을 통해 본 결과 식각단면이 약 65~70$^{\circ}$ 정도였다.

• 대한화학회지
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• 제36권5호
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• pp.679-684
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• 1992

$trans-[Pd(en)_2Cl_2](ClO_4)-2$ (en = ethylenediamine)와 purine 염기인 Guanine, Adenine 또는 pyrimidine 염기인 Uracil anion을 반응시켜 새로운 팔라듐(IV) 착물을 얻었다. 착물의 중심금속과 각 리간드의 조성비는 $C{\cdot}H{\cdot}N$ 원소 분석으로써 확인하였으며 리간드의 배위자리 등 착물의 구조는 적외선 흡수 스펙트럼 및 $^1H-NMR,\; ^{13}C-NMR$로써 조사하였다. Guanine 또는 Adenine 착물을 purine계 염기가 N7 자리에 배위되었고 출발물질로부터 하나의 en 리간드가 이탈하고 두 $ClO_4^-$가 배위된 $[Pd(en)L_2(ClO_4)_2](ClO_4)_2{\cdot}(en)$ (L = Guanine, Adenine) 구조이다. Uracil 착물은 en과 $ClO_4^-$의 이동없이 Uracil anion의 N1 자리가 배위된 $[Pd(en)_2(Urac)_2](ClO_4)_2$ (Urac = Uracil anion) 구조의 착물로 추정되었다.

• 방사성폐기물학회지
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• 제15권1호
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• pp.83-90
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• 2017

사용후핵연료 파이로프로세싱에서는 방사성 희토류 염화물($RECl_3$)을 함유한 LiCl-KCl 공융염폐기물이 발생되며, 핫셀시설에서 운영을 목적으로 단순한 형태의 공융염폐기물 처리공정을 개발하는 것이 필요하다. 본 연구에서는, LiCl-KCl 공융염폐기물 내 희토류 핵종 분리/고화공정의 단순화를 목적으로 $Li_2O-Al_2O_3-SiO_2-B_2O_3$계의 무기합성매질을 이용하여 LiCl-KCl 공융염 내 희토류 핵종(Nd)을 분리한 후 분리생성물을 바로 고화하는 시험을 실시하였다. 공융염 내 희토류 염화물($NdCl_3$) 대비 0.67의 무게비에 해당하는 무기합성매질의 양으로도 Nd 핵종을 98wt% 이상 분리할 수 있었고, 이 때 얻은 희토류 핵종 포집생성물은 약 50wt% 수준의 희토류 산화물 함량을 보유하고 있었으며, 이 포집생성물을 화학적 내구성이 우수한 단일상의 균질한 유리고화체로 제조할 수 있었다. 이 결과들은 LiCl-KCl 공융염폐기물 내 희토류 핵종의 분리/고화공정을 단순화하기 위한 방안수립에 활용될 수 있을 것이다.

• 대한화학회지
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• 제27권5호
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• pp.340-344
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• 1983

이리듐(Ⅰ)-아크릴로니트릴 착물 Ir(Cl$O_4$)(AN)(CO)$(Ph_3P)_2$(AN = C$H_2$=CHCN, $Ph_3$P = $(C_6H_5)_3$P)와 [Ir(AN)(CO)$(Ph_3P)_2]ClO_4$는 각각 $Cl^-$과 반응하여 IrCl(AN)(CO)$(Ph_3P)_2$를 생성하며 [Ir(AN)(CO)$(Ph_3P)_2]ClO_4$는 AN이 과량으로 존재하지 않는 용액에서 AN을 해리시키고 Ir(Cl$O_4)(CO)(Ph_3P)_2$가 된다. 한편 Ir(Cl$O_4)(CO)(Ph_3P)_2$는 $Cl^-$과 반응하여 IrCl(CO)$(Ph_3P)_2$를 생성한다. Ir$(ClO_4)(AN)(CO)(Ph_3P)_2$에 의한 AN 중합반응은 아래와 같이 진행되는 것으로 제시되었다. 즉 이리듐(알켄일)(수소)형 착물, [(CO)$(Ph_3P)_2$Ir(-CH=CHCN)(H)$(CH_2=CHCN)]ClO_4$을 거쳐 이리듐(알킬)(알켄일)형 착물이 형성된 다음 이리듐과 탄소 결합 사이에 AN이 계속적으로 삽입된 다음 환원성제거반응에 의해서 AN의 중합체가 생성된다.

• 대한화학회지
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• 제39권7호
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• pp.530-537
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• 1995

$MCl_z(M=Mo;\;z=5,\;M=V;\;z=3)$과 N, P 주개 리간드를 acetonitrile 용매에서 반응시켜 중성 착물 $MCl_3(phda)(MeCN)]과 \; [MCl_3(PPh_3)_2(MeCN)](M=Mo,\;V)$을 합성하였다. Acetone 용액에서 이들 중성 착물과 AgClO_4$를 반응시켜 양이온 착물 $MCl_{3-n}L_2(MeCN)(S)_n](ClO_4)_n$(n=1,2:s=solvent)을 얻었다. 염소가 연결된 $[(MeCN)(phda)ClM({\mu}-Cl)_2M'Cl(PPh_3)_2(MeCN)](ClO_4)_2$ 및 pyrazine이 연결된 $[(MeCN)(phda)Cl_2M({\mu}-pyz)M'Cl_2(PPh_3)_2(MeCN)](ClO_4)_2$형의 호모(M=M'), 헤테로 $(M{\neq}M')$ 이핵 착물을 합성하였다. 합성한 착물들은 원소분석과 적외선, $^1H,\;^13C$ 핵자기 공명 및 전자 흡수스펙트럼을 이용하여 그 특성을 조사하였다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제28권10호
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• pp.1781-1786
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• 2007

Two copper(II) complexes, [CuL3](ClO4)2 bearing one N-CH2CH2CONH2 group as well as one N-CH2CH2CN group and [CuL4](ClO4)2 bearing two N-CH2CH2CONH2 groups, have been prepared by the selective hydrolysis of [CuL2](ClO4)2 (L2 = C-meso-1,8-bis(cyanoethyl)-5,5,7,12,12,14-hexamethyl-1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane). The complex [CuL5](ClO4)2 bearing one N-CH2CH2C(=NH)OCH3 and one N-CH2CH2CN groups has been prepared as the major product from the reaction of [CuL2](ClO4)2 with methanol in the presence of triethylamine. In acidic aqueous solution, the N-CH2CH2C(=NH)OCH3 group of [CuL5](ClO4)2 undergoes hydrolysis to yield [CuL6](ClO4)2 bearing both N-CH2CH2COOCH3 and N-CH2CH2CN groups. The crystal structure of [CuL5](ClO4)2 shows that the complex has a slightly distorted square-pyramidal coordination polyhedron with an apical Cu-N (N-CH2CH2C(=NH)OCH3 group) bond. The apical Cu-N bond distance (2.269(3) A) is ca. 0.06 A longer than the apical Cu-O (N-CH2CH2CONH2 group) bond of [CuL4](ClO4)2. The pendant amide group of [CuL3](ClO4)2 is involved in coordination. The carboxylic ester group of [CuL6](ClO4)2 is also coordinated to the metal ion in various solvents but is removed from the coordination sphere in the solid state.

• 한국식품과학회지
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• 제51권4호
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• pp.404-409
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• 2019

본 연구는 염산(hydrochloric acid; HCl)과 아염소산나트륨(sodium chlorite; $NaClO_2$)을 이용해 이산화염소 기체를 발생시키기 위한 최적조건을 확립하기 위해 수행되었다. 먼저 HCl (1 N)에 다양한 농도의 $NaClO_2$ ($50,000-500,000{\mu}g/mL$)를 반응시킨 결과, $100,000{\mu}g/mL$ 농도의 $NaClO_2$를 포함하는 이산화염소 용액으로부터 가장 고농도(695 mg/L)의 이산화염소 기체가 생성되었다. 이후 진행되는 실험은 이산화염소 용액(1 N HCl+$100,000{\mu}g/mL$ $NaClO_2$)을 사용하여 이산화염소 기체를 발생시켰다. 다음으로 상대습도(43, 85, 100%) 또는 온도(4, 12, $25^{\circ}C$)가 이산화염소 기체의 발생에 미치는 영향을 확인한 결과, 상대습도가 감소함에 따라 온도는 높아짐에 따라 이산화염소 기체 발생 농도도 높아짐을 확인하였다. 마지막으로 이산화염소 용액의 용량과 이산화염소 기체 생성량 사이의 관계식을 도출하였다. 본 연구의 결과는 향후 이산화염소 기체를 이용하여 식품 및 식품 접촉 표면을 살균하기 위한 프로그램을 개발하는데 있어서 유용한 정보를 제공할 것이다.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제9권2호
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• pp.27-31
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• 2002

본 연구에서는 ICP 식각장비에서 700 W의 RF전력과 -200 vo1t의 dc 바이어스 전압 및 15 mTorr의 반응로 압력에서 $Ar/CF_2$ 혼합가스에 $C1_2$가스를 첨가하면서 $CeO_2$ 박막을 식각하였다 최대식각 속도는 10%의 $C1_2$ 가스를 첨가하였을 시에 250 $\AA$/min이었고, 이 조건에서 SBT에 대한 식각 선택비는 0.4이었다. XPS를 이용하여 식각된 $CeO_2$ 박막의 표면반응을 검토하였다. Ce 피크는 대부분 $CeO_2$또는 $Ce_2O_3$형태로 Ce-O 결합상태임을 관찰할 수 있었다. 대부분의 Cl 피크는 CeClx 또는 $Ce_x/O_yCl_z$ 형태로 Ce 원자와 결합하고 있었다

• 한국양식학회지
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• 제16권2호
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• pp.118-123
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• 2003

이산화염소($ClO_2$) 처리에 의한 어병 세균의 살균 효과를 조사하기 위하여 감염어 유래 분리주인 Vibrio anguillarum, Edwardsiella tarda, Streptococcus sp. 및 Streptococcus sp.를 대상으로$ClO_2$유효 농도 0.455, 0.246 및 0.129 ppm에 30초, 1분, 3분, 5분 및 10분간 처리하여 ClO$_2$의 살균효과를 조사하였다. V. anguillarum과 E. tarda는 ClO$_2$ 0.246 ppm에서, 30초 이 상의 처리에 의하여 세균의 증식이 완전히 저해되었다. 그러나 상대적으로 저농도인 0.129 ppm에서는 5분 이상의 염소처리 조건이 필요하였다. Streptococcus sp.는 실험에 사용된 어병 세균 중 $ClO_2$의 살균능이 가장 낮은 것으로 나타났다. 0.455 ppm에서 Streptococcus sp.는 30초 반응 후 그 증식이 완전히 저해되었고, 0.246 ppm과 0.129 ppm의 ClO$_2$에서는 각각 배양 3시간, 8시간 이후부터 그 생잔에 의한 증식이 확인되어졌다. Streptococcus sp.는 본 실험에서 설정한 최저농도인 0.129 ppm 에 30초간의 반응으로 균이 사멸됨으로서 실험에 사용된 세균 중 ClO$_2$에 가장 민감한 것으로 나타났다. 그러므로 Streptococcus sp. 는 0.455 ppm, V. anguillarum과 E. tarda는 0.246 ppm, Streptococcus sp. 는 0.129 ppm의$ClO_2$농도로 30초 전후로 처리하는 조건이 가장 효과적임을 본 연구를 통해 확인할 수 있었다.

• The Plant Pathology Journal
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• 제35권1호
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• pp.77-83
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• 2019

Chlorine dioxide ($ClO_2$) can be used as an alternative disinfectant for controlling fungal contamination during postharvest storage. In this study, we tested the in vitro and in vivo inhibitory effects of gaseous $ClO_2$ against Diaporthe batatas SP-d1, the causal agent of sweetpotato dry rot. In in vitro tests, spore suspensions of SP-d1 spread on acidified potato dextrose agar were treated with various $ClO_2$ concentrations (1-20 ppm) for 0-60 min. Fungal growth was significantly inhibited at 1 ppm of $ClO_2$ treatment for 30 min, and completely inhibited at 20 ppm. In in vivo tests, spore suspensions were drop-inoculated onto sweetpotato slices, followed by $ClO_2$ treatment with different concentrations and durations. Lesion diameters were not significantly different between the tested $ClO_2$ concentrations; however, lesion diameters significantly decreased upon increasing the exposure time. Similarly, fungal populations decreased at the tested $ClO_2$ concentrations over time. However, the sliced tissue itself hardened after 60-min $ClO_2$ treatments, especially at 20 ppm of $ClO_2$. When sweetpotato roots were dip-inoculated in spore suspensions for 10 min prior to treatment with 20 and 40 ppm of $ClO_2$ for 0-60 min, fungal populations decreased with increasing $ClO_2$ concentrations. Taken together, these results showed that gaseous $ClO_2$ could significantly inhibit D. batatas growth and dry rot development in sweetpotato. Overall, gaseous $ClO_2$ could be used to control this fungal disease during the postharvest storage of sweetpotato.