• Journal of Photoscience
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• 제12권2호
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• pp.101-107
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• 2005

Infrared multiphoton dissociation of $CHCl_2F$ was studied using $CO_2$ laser excitation. Three products, $C_2Cl_2F_2$, $C_2ClF_3$, and $C_2HClF_2$, were identified by the analysis of the gas mixture from the photoreaction of $CHCl_2F$. The dependence of the reaction probability on added Ar gas pressure and excitation laser pulse energy was investigated. At low pressure (< 10 torr), the reaction probability increased as Ar pressure increased due to the rotational hole-filling effect, while it diminished with the increase of Ar pressure at high pressure (> > 20 torr) due to the collisional deactivation. The ratio of two products $(C_2ClF_3/C_2Cl_2F_2)$ decreased at low pressure (< 10 torr) and increased at high pressure (> 20 torr) with the increase of Ar pressure. The log-log plot of the reaction probability vs. laser pulse energy (${\\phi}$) was found to have a linear relationship, and its slope decreased as the added Ar pressure was increased. The reaction mechanisms for product formation have been suggested and validated by experimental evidences and considering the energetics. Fluorine-chlorine exchange reaction in the intermediate complex has been suggested to explain the formation of $C_2ClF_3$.

• 한국결정학회지
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• 제7권2호
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• pp.113-119
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• 1996

Re(O)(PPh3)2Cl3과 2,3,4,5,6-pentafluoroaniline (C6F5NH2)의 반응으로 Re(NC6F5)(PPh3)2Cl3 생성물을 얻었다. 이 화합물의 구조를 1H-NMR, 원소분석, 그리고 X-ray 회절법으로 규명하였다. 화합물을 사방정계로 (Pna21, a=18.763Å, b=14.737(2)Å, c=16.707(3)Å, Z=4) 결정화되었다. 최소자승법으로 구조를 정밀화한 결과 신뢰도는 R(wR2) = 0.0455(0.1148)였다.

• 대한화학회지
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• 제11권3호
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• pp.89-93
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• 1967

플루오르벤젠과 일염화요오드, 일브롬화요오드, 브롬 또는 염소의 각 系를 사염화탄소 용액에서 分光光度法에 의하여 연구한 결과, $C_6H_5F{\cdot}ICl$, $C_6H_5F{\cdot}IBr$, $C_6H_5F{\cdot}Br_2$, 또는 $C_6H_5F{\cdot}Cl_2$의 錯物이 형성됨을 알았다. 이들 錯物형성에 대한 실온에서의 평형상수는 각각 0.161, 0.072, 0.045 및 0.035 l $mole^{-1}$이다. 이 결과와 문헌에 보고된 연구결과를 종합적으로써 이러한 착물의 상대적 안정도가 다음 순으로 감소함을 알 수 있었다. ICl>IBr>$I_2$>$Br_2$>$Cl_2$ $C_6H_6$>$C_6H_5Br$>$C_6H_5Cl$>$C_6H_5F$

• 대한화학회지
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• 제48권4호
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• pp.339-350
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• 2004

피코초 시간분해능 전자 회절 분광법(TRED)을 이용하여 $CClF_3$ 분자의평형 구조를 연구하였다. 이 분광법의 분해능은 전자파의 선폭에 의하여 결정된다. 본 연구 방법에 의하여 결정된 $CClF_3$ 분자의 결합 길이들을 고전적인 실시간 전자회절 분광법(GED/RT)에 의하여 보고된 결과들과 비교하였다. GED/RT 방법에 의하여 결정된 C-F 결합 길이와 C-Cl 결합 길이는 각각 132.00(2) pm, 175.20(3) pm이고, TRED 방법에 의하여 결정된 C-F, C-Cl 결합 길이는 각각 132.23(13) pm, 177.23(19) pm 로써 이 두 실험 방법에 의하여 결정된 분자 결합 길이는 좋은 일치성을 보여준다.

• 대한화학회지
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• 제36권2호
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• pp.248-254
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• 1992

에탄올 용매 중에서, 착물 $[({\eta}^5-C_5Me_5)RuCl_2]_2$ (1)에 대하여 과량의 포스핀을 반응시켜 비스(포스핀)루테늄 유도체$({\eta}^5-C_5Me_5)Ru(PR_3)_2Cl(PR_3=PMe_3,\; PMe_2Ph,\;PEt_3,\;PMePh_2$, 1/2DPPE, 1/2DPPB) (2a${\sim}$2f)를 합성하였다. 이 유도체들은 에탄올 용매 중에서 $NaBH_4$와 반응하여 상응하는 황색의 착수소화물 $({\eta}^5-C_5Me_5)Ru(PR_3)_2Hl(PR_3=PMe_3,\;PEt_3,\;PMePh_2$, 1/2 DPPE, 1/2DPPB) (3a${\sim}$3e)을 생성한다. 착염화물 (2a${\sim}$2f)와 착수소화물 (3a∼3e)는 모두 결정으로 얻어졌으며, IR, $^1H-NMR$ 그리고 원소분석으로 동정되었다.

• 한국해양공학회지
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• 제7권2호
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• pp.131-140
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• 1993

To study the corrosion fatigue begavior of T.M.C.P. steel, the rotary bending fatigue test with the change of concentration of NaCl solution was carried out. Fatigue life in the corrosion environment is decreased markedly in comparision with that in the air. Fatigue limit in the air was about 225 MPa. In case of 3.5% NaCl solution fatigue life could be expressed as .sigma./sub f/=10,392 * (N/sub f/)/sup -o.2923 . According to the paris's rule, crack growth rates could be expressed as da/dN=2.62.*10/sup -7/ .DELTA. K/sup 1.09/(3.5% NaCl solution), da/dN=1.95 *10/sup -7 .DELTA. K/sup 1.05/(1% NaCl solution), da/dN=2.62 * 10/sup -7/.DELTA./sup 0.72/(0.01% NaCl solution) with da/dN expressed in mm/cycle and .DELTA.K in MPa.GAMMA.m. The crack growth rate in the corrosion environment was highest under 3.5% NaCl solution.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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• pp.213-216
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• 2001

Etching behaviors of ferroelectric YMn $O_3$ thin films were studied by an inductively coupled plasma (ICP). Etch characteristic on ferroelectric YMn $O_3$ thin film have been investigated in terms of etch rate, selectivity and etch profile. The maximum etch rate of YMn $O_3$ thin film is 300 $\AA$/min at Ar/C $l_2$ of 2/8, RF power of 800W, dc bias voltage of 200V, chamber pressure of 15mTorr and substrate temperature of 3$0^{\circ}C$. Addition of C $F_4$ gas decrease the etch rate of YMn $O_3$ thin film. From the results of XPS analysis, Y $F_{X}$ compunds were found on the surface of YMn $O_3$ thin film which is etched in Ar/C1/C $F_4$ plasma. The etch profile of YMn $O_3$ film is improved by addition of C $F_4$ gas into the Ar/C $l_2$ plasma. These results suggest that fluoride yttrium acts as a sidewall passivants which reduce the sticking coefficient of chlorine on YMn $O_3$.>.

• 대한화학회지
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• 제24권2호
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• pp.108-114
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• 1980

정전기적모델과 결합의 단순한 부가성을 이용하여 아주 극성인 화합물의 표준생성열$({\Delta}H_f\;^{\circ})$를 계산하는 간단한 방법을 제안하였다. 이 ${\Delta}H_f\;^{\circ}$에 대한 할로메탄의 bond 기여도는 각각 ${\Delta}H_f\;^{\circ}(C-F)=-36.44\;kcal/mole,\;{\Delta}H_f\;^{\circ}(C-Cl)=-2.57\;kcal/mole,\;{\Delta}H_f\;^{\circ}(C-Br)=5.32\;kcal/mole,\;{\Delta}H_f\;^{\circ}(C-I)=19.18\;kcal/mole,\;and\;{\Delta}H_f\;^{\circ}(C-H)=-3.61\;kcal/mole$로 얻어졌고 이 갑들과 정전기적 에너지들로부터 계산한 ${\Delta}H_f\;^{\circ}$는 실험치와 잘 일치함을 보였다.

• 대한화학회지
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• 제7권3호
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• pp.189-196
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• 1963

<디메칠호롬아마이드> 溶媒系에서 有機含할로겐化合物을 弗化加里와 反應시켜 본 結果 $CF_3COOH,\;C_3F_7COOH,\;C_2F_5COOH$와 같은 含弗素有機酸에서는 脫炭酸反應이 일어나며, 含鹽素有機酸, $CH_2ClCOOH,\; CH_3CHClCOOH,\;CHCl_2COOH $및 $o-Cl-C_6H_4COOH$은 一部 弗化反應이 일어나고 雙合(dimerization) 反應이 隨伴된다는 것을 究明하였다. 芳香族할라이드類에서는 反應度를 나타내지 않았으나 芳香環에 誘電子置換基가 두個있는 試藥에서는 主로 雙合反應을 일으켰다. 알콜 및 에스테르類는 通常的인 弗化反應을 잘 일으켰다. 같은 反應을 溶媒 使用치 않고 高溫에서 進行시켜 본 結果 雙合反應物의 收率을 增加시켰고 $o-ClC_6H_4COOH$에서는 環化物(fluorenone)을 少量生成하였다. 反應段階中의 各 試藥의 消耗및 生成에 對한 化學量的關系를 比較檢討한 結果 酸의 反應에서는 普通 脫炭酸反應보다 弗化反應이 優先 進行됨을 究明하였다. 弗化加里의 反應觸發作用및 反應機構에 關하여서는 論議하였다.

• 대한화학회지
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• 제42권2호
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• pp.184-189
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• 1998

Indium(III) trihalides (halogen=Cl, Br)와 bis(pentafluorophenyl)cadmiumd을 acetonitrile에서 반응시켜 acetonitrile이 배위된 tris(pentafluorophenyl)indium을 합성하였으며 원소분석, 핵자기 공명과 질량분석 스펙트럼을 이용하여 특성을 조사하였다. 그 결과 acetonitrile과 배위한 tris(pentafluorophenyl)indium는 pentafluorophenylindium화합물과 acetonitrile이 1:1로 배위된다는 것을 알 수 있었다. 또한 In$(C_6F_5)_3{\cdot} CH_3CN$과 DMAP(dimethylaminopyridine)를 dichloro methane 용매에서 리간드를 치환반응시켜 In$In(C_6F_5)_3{\cdot}DMAP$를 합성하였다. 리간드들의 치환은 acetonitrile보다 주개 성질이 강한 DMAP가 acetonitrile의 자리에 배위하는 것으로 생각된다.